新江 定憲 | 横国大院工
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概要
関連著者
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新江 定憲
横国大院工
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大野 真也
横国大工
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田中 正俊
横国大工
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新江 定憲
横国大工
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大野 真也
横浜国立大学工学部知能物理工学科
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田中 正俊
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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豊島 弘明
横国大工
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豊島 弘明
横浜国立大学大学院工学研究院
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垣内 拓大
愛媛大学理学部化学科
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小柏 洋輔
群馬大学大学院教育学研究科
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鈴木 隆則
防衛大
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小柏 洋輔
群馬大教育
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奥沢 誠
群馬大学教育学部
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間瀬 一彦
高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所
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横山 崇
横浜市大国際総合科学
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奥平 幸司
千葉大学工学部
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奥沢 誠
群馬大教育
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田中 正俊
横国大院工
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間瀬 一彦
KEK物構研
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吉越 章隆
日本原子力研究所・関西研究所・放射光科学研究センター
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垣内 拓大
愛媛大院理工
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鈴木 隆則
防衛大応物
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安田 哲二
半導体MIRAI-産総研ASRC
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寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
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寺岡 有殿
原研
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大野 真也
横国大院工
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吉越 章隆
(独)日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
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吉越 章隆
原研 放射光科学研セ
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森本 真弘
横国大工
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横山 崇
横浜市立大学生命ナノ
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安田 哲二
産業技術総合研究所
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鈴木 隆則
防衛大大物
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井上 慧
横国大工
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横山 崇
横浜市大国際総合
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田中 正俊
横国大院・工・物理情報
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森本 真弘
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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大野 真也
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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垣内 拓大
愛媛大院・理工
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新江 定憲
横国大院・工
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小柏 洋輔
群馬大・教
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大野 真也
横国大院・工
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間瀬 一彦
高エ機構・物構研
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奥沢 誠
群馬大・教
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寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構
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井上 慧
横浜国立大学大学院工学研究院
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新江 定憲
横浜国立大学大学院工学研究院
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尾形 祥一
横浜国立大学大学院工学研究院
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寺岡 有殿
日本原子力研究所放射光科学研究センター
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寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門
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間瀬 一彦
高エネルギー加速器研究機構
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吉越 章隆
日本原子力研究所
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寺岡 有殿
日本原子力研究所
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奥平 幸司
千葉大院融合科学
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平賀 健太
横国大院工
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兼村 瑠威
横国大院工
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梁瀬 虹太朗
群馬大教育
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高野 優作
群馬大教育
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金山 典嗣
千葉大院融合科学
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所畑 成明
筑波大理工
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開場 大一郎
筑波大理工
著作論文
- 21pPSA-20 Si(001)表面への水吸着過程のリアルタイム反射分光(21pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 24aPS-64 オリゴチオフェン超薄膜成長過程とSi表面終端構造との相関(24aPS 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 24aPS-63 水吸着Si(100)表面における酸化促進反応の解析(24aPS 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 27pPSA-29 高分解能コインシデンス分光によるSi清浄表面の表面サイトを選択した局所価電子状態の研究(27pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- Si高指数面酸化過程のリアルタイム光電子分光による評価(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 26pPSA-62 Si-LWオージェ電子-Si 2s光電子コインシデンス分光によるSi-2s内殻正孔緩和過程の研究(26pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))