大野 真也 | 横浜国立大学大学院工学府物理情報工学

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• 大野 真也

  横国大工

• 大野 真也

  横浜国立大学大学院工学府物理情報工学

• 大野 真也

  横浜国立大学工学部知能物理工学科

• 首藤 健一

  横浜国立大学工学部知能物理工学科

• 首藤 健一

  横浜国立大学工学部

• 田中 正俊

  横浜国立大学大学院工学府物理情報工学

• 田中 正俊

  横浜国立大学工学部知能物理工学科

• 首藤 健一

  横国大工

• 寅丸 雅光

  横浜国立大学工学府

• 田中 正俊

  横国大工

• 飯田 貴則

  横浜国立大学工学府

• 河村 紀一

  NHK放送技研

• 小林 直人

  横浜国立大工

• 宮本 泰敬

  NHK技研

• 宮本 泰敬

  東工大

• 宮本 泰敬

  NHK

• 鈴木 隆則

  防衛大

• 佐藤 和成

  横浜国立大学工学府

• 河村 紀一

  NHK技研

• 小間 大弘

  横国大工

• 小間 大弘

  横浜国立大学

• 鈴木 隆則

  防衛大学校

• 西岡 広明

  横国大工

• 青木 健志

  横浜国立大学工学府

• 西岡 広明

  横浜国立大学工学府

• 小泉 順也

  横浜国大工

• 滝澤 純一

  横浜国大工

• 小泉 順也

  横浜国立大学

• 滝澤 純一

  横浜国立大学

• 森本 真弘

  横国大工

• 大和 洋太

  横浜国立大学

• 大和 洋太

  横浜国立大学工学府物理情報工学専攻

• 森本 真弘

  横浜国立大学大学院工学府物理情報工学

• 井上 大輔

  東大宇宙線研

• 吉越 章隆

  日本原子力研究所・関西研究所・放射光科学研究センター

• 新江 定憲

  横国大工

• 豊島 弘明

  横国大工

• 百瀬 辰哉

  横国大工

• 藤原 賢一

  防衛大

• 北嶋 武

  防衛大

• 安田 哲二

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門

• 寺岡 有殿

  原研

• 吉越 章隆

  (独)日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門

• 三戸部 史岳

  横浜国大工

• 宮本 泰敬

  NHK放送技術研究所

• 三戸部 史岳

  横浜国立大学

• 北嶋 武

  防衛大学校

• 吉越 章隆

  原研 放射光科学研セ

• 安田 哲二

  産業技術総合研究所

• 井上 慧

  横国大工

• 井上 大輔

  横浜国立大学工学府物理情報工学専攻

• 百瀬 辰哉

  横浜国立大学工学府物理情報工学専攻

• 藤原 賢一

  防衛大学校応用物理学科

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究開発機構

• 藻川 芳晴

  横浜国立大学大学院工学府

• 北嶋 武

  防衛大学校応用物理学科

• 井上 慧

  横浜国立大学大学院工学研究院

• 新江 定憲

  横浜国立大学大学院工学研究院

• 豊島 弘明

  横浜国立大学大学院工学研究院

• 尾形 祥一

  横浜国立大学大学院工学研究院

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究所放射光科学研究センター

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門

• 吉越 章隆

  日本原子力研究所

• 寺岡 有殿

  日本原子力研究所

• 新江 定憲

  横国大院工

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著作論文

• 表面差分反射分光と反射率差分光を用いたSi(001)表面初期酸化過程のリアルタイム解析
• 酸素存在下におけるSi(001)-2×1上でのチタンシリサイド形成の走査トンネル顕微鏡(STM)観察
• 29pPSB-52 Ruシリサイドのナノ構造作製と電子状態の測定(29pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 23aXB-3 Si表面上におけるRuの拡散と表面構造の観察(23aXB 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 酸素吸着Ti/Si(001)の走査トンネル顕微鏡(STM)観察
• Si(111)面におけるRuシリサイドの形成と成長過程
• 22pPSA-78 Ruシリサイドの形成と局所電子状態の測定(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 24aXB-5 Ti/Si(001)表面における局所電子状態の解析(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 25pPSB-9 水素終端Si(001)表面における表面光反射スペクトルの考察(25pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 25pPSB-46 Si表面上のチタンの拡散とSi吸収によるシリサイドの形成(25pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• Si(111)表面上のBr吸着における多臭化物の形成過程
• Si(001)初期酸化過程における表面差分反射スペクトルの波長依存性
• 高温Si(001)表面上のアルカリ金属原子吸着・脱離過程のリアルタイム光学測定
• Si(111)表面上のアルカリ金属原子(K, Cs)吸着構造 : 半層程度吸着時に観測されるクラスター形成
• Si(111)表面反射スペクトルのクラスター計算による評価
• Si高指数面酸化過程のリアルタイム光電子分光による評価(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)

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