25pPSB-46 Si表面上のチタンの拡散とSi吸収によるシリサイドの形成(25pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2006-08-18

著者

• 田中 正俊

  横浜国立大学工学部知能物理工学科

• 大野 真也

  横国大工

• 大野 真也

  横浜国立大学工学部知能物理工学科

• 首藤 健一

  横浜国立大学工学部知能物理工学科

• 飯田 貴則

  横浜国立大学工学府

• 小間 大弘

  横国大工

• 小間 大弘

  横浜国立大学

• 大和 洋太

  横浜国立大学

• 大和 洋太

  横浜国立大学工学府物理情報工学専攻

• 田中 正俊

  横浜国立大学大学院工学府物理情報工学

• 大野 真也

  横浜国立大学大学院工学府物理情報工学

• 首藤 健一

  横浜国立大学工学部

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• 21aPS-26 酸素吸着Si(001)表面光反射スペクトルのクラスター計算による検討(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• サマリー・アブストラクト
• 高温Si(001)表面上のアルカリ金属原子吸着・脱離過程のリアルタイム光学測定
• Si(111)表面上のアルカリ金属原子(K, Cs)吸着構造 : 半層程度吸着時に観測されるクラスター形成
• 27pPSA-27 シリコン表面上のカリウムナノクラスターのSTM観察(27pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 27pPSA-29 高分解能コインシデンス分光によるSi清浄表面の表面サイトを選択した局所価電子状態の研究(27pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 26pYC-11 Si(001)初期酸化過程における反射率差分光スペクトル構造の検討(26pYC 表面界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))
• Si(111)表面反射スペクトルのクラスター計算による評価
• 23pPSB-16 STMで観察されるSi(111)-7x7に吸着したK原子の表面拡散(23pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 21pHA-3 Si(001)表面上でのCO吸着脱離のダイナミクス(21pHA 表面界面構造(半導体),領域9(表面・界面,結晶成長))
• 23pPSB-17 表面修飾Si(001)表面上のオリゴチオフェン分子の構造と電子状態(23pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 23pPSA-17 Si(113)表面上におけるH原子吸着脱離過程のリアルタイム計測(23pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• Si高指数面酸化過程のリアルタイム光電子分光による評価(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• 26pPSB-3 Si(001)表面上の鉄シリサイドの電子状態(26pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
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• 26pJA-4 酸化シリコン表面への遷移金属吸着による電子状態変化の解析(表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 28pPSA-37 電解質溶液中におけるAu表面上のシステイン分子の吸着状態解析(28pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面・結晶成長))

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