21aPS-33 Si(111)表面上のハロゲン吸着におけるサイト選択性(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2005-08-19
著者
-
大野 真也
横国大工
-
大野 真也
横浜国大工
-
首藤 健一
横浜国大工
-
田中 正俊
横浜国大工
-
小間 大弘
横国大工
-
大和 洋太
横浜国大工
-
小間 大弘
横浜国大工
-
大和 洋太
横浜国立大学工学府物理情報工学専攻
-
田中 正俊
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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