23aWX-8 チタン薄膜直下におけるSi(001)酸化促進反応の解析(23aWX 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))

元データ 2010-08-18 社団法人日本物理学会

著者

松田 巌 東大物性研
市川 雄一 理研
原沢 あゆみ 東大物性研
奥田 太一 東大物性研
柿崎 明人 東大物性研
奥田 太一 広大放射光セ
首藤 健一 横国大工
原沢 あゆみ 東京大学物性研究所
柿崎 明人 東京大学物性研究所
松田 巌 東大理
大野 真也 横国大工
田中 正俊 横国大工
山崎 紀明 横国大工
中山 史人 横国大工
市川 雄一 横国大工
大野 真也 横浜国立大学工学部知能物理工学科
首藤 健一 横浜国立大学工学部知能物理工学科
奥田 太一 広島大学放射光科学研究センター
田中 正俊 横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
松田 巌 東大物性研究所
奥田 太一 広大放射光セ・先端計測

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