24aPS-63 水吸着Si(100)表面における酸化促進反応の解析(24aPS 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2010-08-18

著者

• 鈴木 隆則

  防衛大

• 大野 真也

  横国大工

• 田中 正俊

  横国大工

• 新江 定憲

  横国大工

• 豊島 弘明

  横国大工

• 大野 真也

  横浜国立大学工学部知能物理工学科

• 鈴木 隆則

  防衛大大物

• 田中 正俊

  横浜国立大学大学院工学府物理情報工学

• 豊島 弘明

  横浜国立大学大学院工学研究院

• 新江 定憲

  横国大院工

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