28pWR-3 シリコン(111)表面上のハロゲン反撥による吸着子相関(表面界面ダイナミクス(電子励起・摩擦))(領域9)
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2004-03-03
著者
-
田中 正俊
横国大工
-
首藤 健一
横浜国大・工
-
田中 正俊
横浜国大・工
-
沼田 光徳
理研:横浜国立大
-
鷲尾 浩之
横浜国大・工
-
沼田 光徳
横浜国大・工
-
田中 正俊
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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