首藤 健一 | 横浜国大・工

スポンサーリンク

概要

• 同名の論文著者
• 横浜国大・工の論文著者

関連著者

• 首藤 健一

  横浜国大・工

• 首藤 健一

  横国大工

• 田中 正俊

  横国大工

• 吉森 昭夫

  岡山理科大学

• 徳本 洋志

  産業技術研究所・アトムテクノロジー研究体

• 土佐 正弘

  物質材料研究機構

• 渡辺 光徳

  (株)大阪真空機器製作所 八王子工場技術部

• 土佐 正弘

  NIMS

• 吉森 昭夫

  日本真空協会

• 吉森 昭夫

  岡山理科大学総合情報学部コンピュータシミュレーション学科

• 土佐 正弘

  物質・材料研究機構

• 吉森 昭夫

  岡山理科大学 工学部

• 土佐 正弘

  日本真空協会 研究部会

• 渡辺 光徳

  (株)大阪真空機器製作所

• 田中 正俊

  横浜国大・工

• 徳本 洋志

  中央大学大学院理工学研究科

• 沼田 光徳

  理研:横浜国立大

• 土佐 正弘

  物材機構

• 鷲尾 浩之

  横浜国大・工

• 沼田 光徳

  横浜国大・工

• 田中 正俊

  横浜国立大学大学院工学府物理情報工学

• 土佐 正弘

  金材技研 筑波支所

• 牛山 翔太

  横浜国大・工

もっと見る 閉じる

著作論文

• 第15回真空国際会議・第48回米国真空協会会議・第11回固体表面国際会議 (IVC-15/AVS-48/ICSS-11)
• 28pWR-3 シリコン(111)表面上のハロゲン反撥による吸着子相関(表面界面ダイナミクス(電子励起・摩擦))(領域9)
• 18pFE-10 Ti/Si(001)表面構造変化に伴う内殻電子状態の解析(18pFE 表面界面電子物性・トポロジカル表面,領域9(表面・界面,結晶成長))

スポンサーリンク