首藤 健一 | 横国大工
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概要
関連著者
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首藤 健一
横国大工
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大野 真也
横国大工
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首藤 健一
横浜国立大学工学部知能物理工学科
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田中 正俊
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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大野 真也
横浜国立大学工学部知能物理工学科
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田中 正俊
横国大工
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寅丸 雅光
横浜国立大学工学府
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首藤 健一
横浜国大工
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首藤 健一
横浜国立大学工学部
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大野 真也
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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佐藤 和成
横浜国立大学工学府
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原沢 あゆみ
東大物性研
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奥田 太一
東大物性研
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柿崎 明人
東大物性研
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鈴木 隆則
防衛大
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山崎 紀明
横国大工
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中山 史人
横国大工
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大野 真也
横浜国大工
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田中 正俊
横浜国大工
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飯田 貴則
横浜国立大学工学府
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松田 巌
東大物性研
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田中 正俊
横浜国立大学工学部知能物理工学科
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原沢 あゆみ
東京大学物性研究所
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青木 健志
横浜国立大学工学府
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三戸部 史岳
横浜国大工
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小泉 順也
横浜国大工
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奥田 太一
広島大学放射光科学研究センター
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市川 雄一
理研
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河村 紀一
NHK放送技研
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小林 直人
横浜国立大工
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宮本 泰敬
NHK技研
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宮本 泰敬
東工大
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宮本 泰敬
NHK
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青木 優
東大院総合文化
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奥田 太一
広大放射光セ
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片山 郁文
横国大IRC
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武田 淳
横国大工
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青木 優
東大院総合
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落合 俊之
横国大工
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河村 紀一
NHK技研
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滝澤 純一
横浜国大工
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牛山 翔太
横浜国大工
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松田 巌
東大物性研究所
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武田 淳
横浜国立大学 大学院工学研究院 知的構造の創生部門
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増田 茂
東大院総合文化
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菱田 俊一
物材機構物質研
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菱田 俊一
物材機構
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菱田 俊一
東京大学工学部工業化学科 : (現)東京大学理学部化学科
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菱田 俊一
物質・材料研究機構 物質研究所
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古賀 翔
横国大工
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島田 透
ベルリン自由大
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藤田 大介
物材機構
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北島 正弘
防衛大理工
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増田 茂
東大教養
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西岡 広明
横国大工
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北島 正弘
防衛大学校応用物理学科
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市川 雄一
横国大工
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佐藤 和成
横国大工
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寅丸 雅光
横浜国大工
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山崎 紀明
横浜国大工
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中山 史人
横浜国大工
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山崎 貴彦
横浜国大工
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落合 俊之
横浜国大工
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為谷 亮太
横浜国大工
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小間 大弘
横国大工
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九鬼 隆良
横国大工
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藻川 芳晴
横国大工
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菱田 俊一
科学技術庁無機材質研究所
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北島 正弘
防衛大
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母袋 雄也
横浜国大工
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藻川 芳晴
横浜国立大学大学院工学府
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北島 正弘
防大理工
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奥田 太一
広大放射光セ・先端計測
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増田 茂
東大院総合
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白尾 徹郎
理研:横国大工
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野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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石川 哲也
理研
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十河 真生
東大院総合文化
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加藤 景子
物材機構
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柿崎 明人
東京大学物性研究所
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田中 正俊
横国大院工
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白尾 徹郎
理化学研究所播磨研究所X線干渉光学研究室
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松田 巌
東大理
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鈴木 隆則
防衛大応物
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吉森 昭夫
岡山理科大学
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武田 淳
横浜国大院工
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久保 敦
科技機構さきがけ:ピッツバーグ大物理:筑波大物理
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河野 太郎
横浜国大院工
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片山 郁文
横浜国大IRC
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首藤 健一
横浜国大院工
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大野 かおる
横浜国大院工
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徳本 洋志
産業技術研究所・アトムテクノロジー研究体
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首藤 健一
横浜国大・工
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土佐 正弘
物質材料研究機構
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渡辺 光徳
(株)大阪真空機器製作所 八王子工場技術部
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大野 かおる
横国大院工
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土佐 正弘
NIMS
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田中 義人
理研
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松田 厳
東大物性研
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青木 健志
横国大工
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山崎 紀明
横国大院工
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中山 史人
横国大院工
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大野 真也
横国大院工
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寅丸 雅光
横国大院工
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市川 雄一
横国大院工
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山崎 貴彦
横国大院工
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飯田 貴則
横国大院工
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佐藤 和成
横国大院工
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青木 健志
横国大院工
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西岡 広明
横国大院工
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首藤 健一
横国大院工
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飯田 貴則
横浜国大工
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佐藤 和成
横浜国大工
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青木 健志
横浜国大工
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市川 雄一
横浜国大工
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西岡 広明
横浜国立大学工学府
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宮本 泰敬
NHK放送技術研究所
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寅丸 雅光
横国大工
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飯田 貴則
横国大工
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小間 大弘
横浜国立大学
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九鬼 隆良
横浜国大工
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鈴木 隆則
防衛大学校
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滝澤 純一
横国大工
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小泉 順也
横国大工
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久保 敦
筑波大
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大野 かおる
横浜国立大学大学院工学府物理工学コース
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吉森 昭夫
日本真空協会
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吉森 昭夫
岡山理科大学総合情報学部コンピュータシミュレーション学科
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土佐 正弘
物質・材料研究機構
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吉森 昭夫
岡山理科大学 工学部
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南 茂
横国大工
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土佐 正弘
日本真空協会 研究部会
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渡辺 光徳
(株)大阪真空機器製作所
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山川 恵利子
横浜国大工
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佐々木 智英
横浜国立大学工学部
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佐々木 智英
横国大工
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山川 恵利子
横国大工
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白尾 徹郎
横国大工
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佐藤 博史
東大院総合文化
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徳本 洋志
中央大学大学院理工学研究科
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土佐 正弘
物材機構
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土佐 正弘
金材技研 筑波支所
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小林 宏昭
横国大工
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三戸部 史岳
横国大工
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益田 茂
東大院総合文化
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中島 俊信
横国大工:理研
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白尾 徹郎
理研
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大野 かおる
横浜国大院・工・物理工学
著作論文
- 23aPS-41 カーボン系材料におけるコヒーレントフォノンのプラズモン増強(23aPS 領域5ポスターセッション(光電子分光・光誘起相転移等),領域5(光物性))
- 22aPS-75 TTTA分子のポンププローブ分光(22aPS 領域5ポスターセッション,領域5(光物性))
- 第15回真空国際会議・第48回米国真空協会会議・第11回固体表面国際会議 (IVC-15/AVS-48/ICSS-11)
- 26aYG-2 酸素吸着Ti/Si(001)表面の構造と電子状態II(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 22pPSA-6 Si(001)表面におけるTiシリサイド形成過程へのサーファクタント効果の検討(22pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 22aXA-5 酸素吸着Ti/Si(001)表面の構造と電子状態(22aXA 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 表面差分反射分光と反射率差分光を用いたSi(001)表面初期酸化過程のリアルタイム解析
- 酸素存在下におけるSi(001)-2×1上でのチタンシリサイド形成の走査トンネル顕微鏡(STM)観察
- 29pPSB-56 Si(001)表面におけるO_2,NO,CO反応過程の反射分光による検討(29pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 29pPSB-52 Ruシリサイドのナノ構造作製と電子状態の測定(29pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 27aTE-7 Si(001)表面におけるNO吸着構造の反射分光による解析(27aTE 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 23aXB-3 Si表面上におけるRuの拡散と表面構造の観察(23aXB 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 22pPSB-3 Si(001)表面上の銀薄膜成長過程のリアルタイム反射分光(22pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 酸素吸着Ti/Si(001)の走査トンネル顕微鏡(STM)観察
- Si(111)面におけるRuシリサイドの形成と成長過程
- 25pTD-4 表面光反射分光によるSi(001)表面反応の解析(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 26aTD-2 Ti/Si(001)表面におけるシリサイド形成過程と局所電子状態の考察(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 22pPSA-77 Si(001)表面における電子線励起欠陥形成過程の実時間反射分光(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 22pPSA-78 Ruシリサイドの形成と局所電子状態の測定(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 24aXB-5 Ti/Si(001)表面における局所電子状態の解析(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 24pXJ-11 Ti/Si(001)表面における拡散過程の解析(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 半導体表面からの励起電子誘起脱離(I) : ハロゲン吸着シリコンへの電子・正孔注入の場合
- 26pYC-10 Si(001)初期酸化過程における表面差分反射スペクトル構造の検討(26pYC 表面界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 26aRA-2 グラファイト表面におけるDモード・コヒーレントフォノンの振幅増強(26aRA 炭素系物質,領域7(分子性固体・有機導体))
- 23pWX-2 Pt(111)基板に接合したチオフェン,ビチオフェンの局所電子状態(23pWX 表面界面電子物性(有機分子),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 24pPSA-50 光反射分光と表面SHGによるSi(111)表面からの塩素脱離過程の観測
- 23aWX-8 チタン薄膜直下におけるSi(001)酸化促進反応の解析(23aWX 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 26pYC-11 Si(001)初期酸化過程における反射率差分光スペクトル構造の検討(26pYC 表面界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 27pPSA-21 イオン衝撃グラファイト表面の電子状態(27pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 22aHA-5 イオン衝撃によるグラファイト表面の半金属-金属転移(22aHA 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 27aWD-10 Si(111)表面でのSiBr_x熱脱離過程の観測(27aWD 表面界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長分野))