首藤 健一 | 横浜国立大学工学部知能物理工学科

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概要

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• 横浜国立大学工学部知能物理工学科の論文著者

関連著者

• 首藤 健一

  横浜国立大学工学部知能物理工学科

• 大野 真也

  横国大工

• 大野 真也

  横浜国立大学工学部知能物理工学科

• 首藤 健一

  横国大工

• 田中 正俊

  横浜国立大学工学部知能物理工学科

• 寅丸 雅光

  横浜国立大学工学府

• 田中 正俊

  横国大工

• 飯田 貴則

  横浜国立大学工学府

• 鈴木 隆則

  防衛大

• 佐藤 和成

  横浜国立大学工学府

• 原沢 あゆみ

  東大物性研

• 奥田 太一

  東大物性研

• 柿崎 明人

  東大物性研

• 山崎 紀明

  横国大工

• 中山 史人

  横国大工

• 大野 真也

  横浜国大工

• 首藤 健一

  横浜国大工

• 田中 正俊

  横浜国大工

• 小泉 順也

  横浜国大工

• 松田 巌

  東大物性研

• 原沢 あゆみ

  東京大学物性研究所

• 青木 健志

  横浜国立大学工学府

• 三戸部 史岳

  横浜国大工

• 奥田 太一

  広島大学放射光科学研究センター

• 市川 雄一

  理研

• 河村 紀一

  NHK放送技研

• 小林 直人

  横浜国立大工

• 宮本 泰敬

  NHK技研

• 滝澤 純一

  横浜国大工

• 小間 大弘

  横国大工

• 奥田 太一

  広大放射光セ

• 落合 俊之

  横国大工

• 河村 紀一

  NHK技研

• 小間 大弘

  横浜国立大学

• 西岡 広明

  横国大工

• 市川 雄一

  横国大工

• 佐藤 和成

  横国大工

• 寅丸 雅光

  横浜国大工

• 山崎 紀明

  横浜国大工

• 中山 史人

  横浜国大工

• 山崎 貴彦

  横浜国大工

• 落合 俊之

  横浜国大工

• 為谷 亮太

  横浜国大工

• 九鬼 隆良

  横国大工

• 小泉 順也

  横浜国立大学

• 滝澤 純一

  横浜国立大学

• 野中 聡

  旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座

• 前田 昭徳

  愛知工業大学

• 落合 鎮康

  愛知工業大学

• 大橋 朝夫

  愛知工業大学

• 小嶋 憲三

  愛知工業大学

• 岡本 昭夫

  大阪府立産業技術総合研究所

• 高橋 正光

  日本原子力研究所放射光科学研究センター

• 田村 和久

  北海道大学大学院理学研究科

• 近藤 敏啓

  北海道大学大学院理学研究科

• 田中 彰博

  アルバック・ファイ(株)

• 李 奎毅

  大阪大学工学部

• 尾浦 憲治郎

  大阪大学工学部

• 平井 正明

  岡山大学自然科学研究科

• 長谷川 和彦

  大阪大学大学院工学研究科

• 中野 寛之

  愛知工業大学

• 浦谷 文博

  大阪府立産業技術総合研究所

• 鈴木 晶雄

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 奥田 昌宏

  大阪府立大学工学部電子物理工学科

• 松下 辰彦

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 安井 利明

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 柿崎 明人

  東京大学物性研究所

• 安 振連

  岡山大学自然科学研究科

• 服部 望

  岡山大学自然科学研究科

• 森居 隆史

  岡山大学自然科学研究科

• 日下 征彦

  岡山大学自然科学研究科

• 岩見 基弘

  岡山大学自然科学研究科

• 井上 昭浩

  福井工業高等専門学校

• 田中 正俊

  横国大院工

• 鈴木 隆則

  理研

• 白尾 徹郎

  理化学研究所播磨研究所X線干渉光学研究室

• 吉川 俊夫

  愛知工業大学総合技術研究所

• 水木 純一郎

  日本原子力研究所

• 吉村 雅満

  豊田工業大学

• 小嶋 薫

  豊田工業大学

• 笠原 章

  金属材料技術研究所

• 吉原 一紘

  金属材料技術研究所

• 杉本 敏司

  大阪大学大学院工学研究科原子分子イオン制御理工学センター

• 辻 博司

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 後藤 康仁

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 石川 順三

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 松田 巌

  東大理

• 橋本 和博

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 鈴木 隆則

  防衛大応物

• 加地 博子

  岡山理科大学工学部

• 小林 司

  アネルバ(株)プロセス開発研究所

• 長谷川 繁彦

  大阪大学産業科学研究所

• 竹内 晃久

  (財)高輝度光科学研究センター

• 吉森 昭夫

  岡山理科大学

• 土佐 正弘

  金属材料技術研究所

• 清水 克祐

  三菱重工業(株)

• 内田 悦行

  愛知工業大学

• 武智 誠次

  大阪大学大学院工学研究科

• 木内 正人

  大阪工業技術研究所

• 田中 勝敏

  大阪大学大学院工学研究科附属超高温理工学研究施設

• 美本 和彦

  大阪大学大学院工学研究科超高温理工学研究施設

• 松本 貴士

  大阪大学大学院工学研究科超高温理工学研究施設

• 上田 一之

  豊田工業大学 ナノハイテクリサーチセンター

• 鷹野 一朗

  工学院大学電気工学科

• 沢田 芳夫

  工学院大学電気工学科

• 酒井 明

  京都大学工学部付属メゾ材料研究センター

• 笠井 秀明

  大阪大学大学院工学研究科

• 高木 望

  日本真空技術

• 廣木 成治

  日本原子力研究所・那珂研究所

• 丹澤 貞光

  日本原子力研究所・那珂研究所

• 野田 耕司

  放射線医学総合研究所

• 藤本 圭一

  大阪大学工学研究科電子工学専攻

• 大倉 重治

  大阪大学工学研究科電子工学専攻

• 本多 信一

  大阪大学工学研究科電子工学専攻

• 片山 光浩

  大阪大学工学研究科電子工学専攻

• 櫻井 芳昭

  大阪府立産業技術総合研究所

• 佐藤 吉博

  高エネルギー加速器研究機構

• 鈴木 芳生

  (財)高輝度光科学研究センター

• 山本 雅彦

  大阪大学大学院工学研究科

• 文 元鐵

  大阪大学産業科学研究所

• 田辺 徹美

  高エネルギー加速器研究機構(kek)

• 吉信 達夫

  大阪大学産業科学研究所

• 岩崎 裕

  大阪大学産業科学研究所

• 松田 厳

  東大物性研

• 岡田 隆弘

  千葉工業大学精密機械工学科

• 山村 泰道

  岡山理科大学

• 水野 善之

  日本バルカー工業(株)

• 青木 健志

  横国大工

• 山崎 紀明

  横国大院工

• 中山 史人

  横国大院工

• 大野 真也

  横国大院工

• 寅丸 雅光

  横国大院工

• 市川 雄一

  横国大院工

• 山崎 貴彦

  横国大院工

• 飯田 貴則

  横国大院工

• 佐藤 和成

  横国大院工

• 青木 健志

  横国大院工

• 西岡 広明

  横国大院工

• 首藤 健一

  横国大院工

• 飯田 貴則

  横浜国大工

• 佐藤 和成

  横浜国大工

• 青木 健志

  横浜国大工

• 市川 雄一

  横浜国大工

• 広林 茂樹

  富山大学工学部

• 古橋 秀夫

  愛知工業大学 電気学科 情報通信工学専攻

• 藤田 静雄

  京都大学大学院

• 久保 富夫

  高エネルギー加速器研究機構

• 関川 健太郎

  埼玉大学

• 西岡 広明

  横浜国立大学工学府

• 宮本 泰敬

  NHK放送技術研究所

• 寅丸 雅光

  横国大工

• 飯田 貴則

  横国大工

• 九鬼 隆良

  横浜国大工

• 三戸部 史岳

  横浜国立大学

• 鈴木 隆則

  防衛大学校

• 淡路 晃弘

  (財)高輝度光科学研究センター

• 高野 秀和

  (財)高輝度光科学研究センター

• 興地 斐男

  和歌山工業高等専門学校

• 沖村 邦雄

  東海大学工学部電子工学科

• 星野 英光

  大阪府立産業技術総合研究所

• 石神 逸男

  大阪府立産業技術総合研究所

• 三浦 健一

  大阪府立産業技術総合研究所

• 水越 朋之

  大阪府立産業技術総合研究所

• 小林 信一

  埼玉大学

• 鷹野 一朗

  工学院大学

• 吉竹 正明

  大阪府立産業技術総合研究所

• 野坂 俊紀

  大阪府立産業技術総合研究所

• 大田 暢彦

  (株)安川電機 開発研究所

• 山納 康

  埼玉大学

• 壁谷 善三郎

  三菱重工業

• 中谷 訓幸

  富山大学工学部

• 戸部 了己

  アネルバ(株)

• 守 昭人

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 坂本 淳

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 三津橋 武

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 後藤 康仁

  京都大学大学院工学研究科

• 一村 信吾

  電子技術総合研究所

• Deng Dongmel

  理研

• Deng Dongmel

  理研:埼玉大

• 斉藤 茂

  東京理科大学工学部電気工学科

• 須藤 孝一

  大阪大学産業科学研究所

• 礒野 修治

  東京理科大学工学部電気工学科

• 山崎 英樹

  東京理科大学工学部電気工学科

• 村上 伯人

  東京理科大学工学部電気工学科

• 須東 稔実

  東京理科大学工学部電気工学科

• 梅沢 朋宏

  東京理科大学工学部電気工学科

• 江刺家 大亮

  東京理科大学工学部電気工学科

• 宗村 哲雄

  東京理科大学工学部電気工学科

• 柳 正鐸

  Department Of Computer And Communication Taeg University

• 田村 繁治

  経済産業省産業技術総合研究所/(財)高輝度光科学研究センター

• 安本 正人

  経済産業省産業技術総合研究所

• 上條 長生

  (財)高輝度光科学研究センター/関西医科大学

• 吉沢 寿夫

  富山大学工学部

• 国分 清秀

  電子技術総合研究所

• 中島 尚男

  大阪大学産業科学研究所

• 加地 博子

  岡山理科大学工学部電子工学科

• 大冨 賢一

  福岡工業大学

• 末金 皇

  大阪大学産業科学研究所

• 田中 優数

  大阪大学産業科学研究所

• 奥井 登志子

  大阪大学産業科学研究所

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著作論文

• 26aYG-2 酸素吸着Ti/Si(001)表面の構造と電子状態II(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 22pPSA-6 Si(001)表面におけるTiシリサイド形成過程へのサーファクタント効果の検討(22pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 22aXA-5 酸素吸着Ti/Si(001)表面の構造と電子状態(22aXA 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 表面差分反射分光と反射率差分光を用いたSi(001)表面初期酸化過程のリアルタイム解析
• 酸素存在下におけるSi(001)-2×1上でのチタンシリサイド形成の走査トンネル顕微鏡(STM)観察
• 29pPSB-56 Si(001)表面におけるO_2,NO,CO反応過程の反射分光による検討(29pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 29pPSB-52 Ruシリサイドのナノ構造作製と電子状態の測定(29pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 27aTE-7 Si(001)表面におけるNO吸着構造の反射分光による解析(27aTE 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 23aXB-3 Si表面上におけるRuの拡散と表面構造の観察(23aXB 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 22pPSB-3 Si(001)表面上の銀薄膜成長過程のリアルタイム反射分光(22pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 酸素吸着Ti/Si(001)の走査トンネル顕微鏡(STM)観察
• Si(111)面におけるRuシリサイドの形成と成長過程
• 25pTD-4 表面光反射分光によるSi(001)表面反応の解析(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 26aTD-2 Ti/Si(001)表面におけるシリサイド形成過程と局所電子状態の考察(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 22pPSA-77 Si(001)表面における電子線励起欠陥形成過程の実時間反射分光(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 22pPSA-78 Ruシリサイドの形成と局所電子状態の測定(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 24aXB-5 Ti/Si(001)表面における局所電子状態の解析(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 24pXJ-11 Ti/Si(001)表面における拡散過程の解析(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 半導体表面からの励起電子誘起脱離(I) : ハロゲン吸着シリコンへの電子・正孔注入の場合
• 25pPSB-9 水素終端Si(001)表面における表面光反射スペクトルの考察(25pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 25pPSB-46 Si表面上のチタンの拡散とSi吸収によるシリサイドの形成(25pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• Si(111)表面上のBr吸着における多臭化物の形成過程
• Si(001)初期酸化過程における表面差分反射スペクトルの波長依存性
• 14aXG-2 銀原子蒸着が引き起こす Si(111)-√×√-Ag 表面からの SHG 応答変化 : 温度依存性と波長依存性(表面界面電子物性, 領域 9)
• 表面第二高調波発声法によるSi(111)表面の塩素吸着・脱離過程の観測
• 23aWX-8 チタン薄膜直下におけるSi(001)酸化促進反応の解析(23aWX 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
• サマリー・アブストラクト
• Si(111)表面反射スペクトルのクラスター計算による評価

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