奥田 昌宏 | 大阪府立大学工学部電子物理工学科

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概要

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• 大阪府立大学工学部電子物理工学科の論文著者

関連著者

• 奥田 昌宏

  大阪府立大学工学部電子物理工学科

• 鈴木 晶雄

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 松下 辰彦

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 松下 辰彦

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 青木 孝憲

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 奥田 昌宏

  奥田技術事務所

• 鈴木 晶雄

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 安倉 秀明

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 安井 光弘

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 内藤 裕義

  大阪府立大学大学院工学研究科

• 杉村 明彦

  大阪産大工

• 坂本 吉亮

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 和田 直己

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 重田 和俊

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 奥島 浩久

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 池田 和巧

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 橋本 和博

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 奥田 昌宏

  阪府大工

• 沖中 広和

  株式会社 日立ハイテクノロジーズ

• 仲前 一男

  大阪府立大学

• 黒澤 宏

  宮崎大学工学部

• 高木 俊宜

  (株)イオン工学研究所

• 甲藤 正人

  宮崎大学産学連携センター

• 笠原 章

  金属材料技術研究所

• 吉原 一紘

  金属材料技術研究所

• 辻 博司

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 石川 順三

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 奥田 昌宏

  大阪府大・工

• 土佐 正弘

  金属材料技術研究所

• 甲藤 正人

  大阪府立大学工学部電子物性工学科

• 黒澤 宏

  宮崎大学工学部電気電子工学科

• 佐々木 亘

  宮崎大学工学部電気電子工学科

• 木内 正人

  大阪工業技術研究所

• 甲藤 正人

  近畿大学

• 甲藤 正人

  宮崎大学 産学連携センター

• 重田 和俊

  大阪産業大学

• 高木 俊宜

  イオン工学センター

• 前田 昭徳

  愛知工業大学

• 落合 鎮康

  愛知工業大学

• 大橋 朝夫

  愛知工業大学

• 小嶋 憲三

  愛知工業大学

• 岡本 昭夫

  大阪府立産業技術総合研究所

• 本島 修

  核融合科学研究所

• 高橋 正光

  日本原子力研究所放射光科学研究センター

• 田村 和久

  北海道大学大学院理学研究科

• 近藤 敏啓

  北海道大学大学院理学研究科

• 田中 彰博

  アルバック・ファイ(株)

• 李 奎毅

  大阪大学工学部

• 尾浦 憲治郎

  大阪大学工学部

• 平井 正明

  岡山大学自然科学研究科

• 金子 英司

  東洋大学工学部

• 長谷川 和彦

  大阪大学大学院工学研究科

• 中野 寛之

  愛知工業大学

• 加藤 茂樹

  高エネルギー加速器研究機構

• 浦谷 文博

  大阪府立産業技術総合研究所

• 久保 和也

  北海道大学工学部

• 安井 利明

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 安 振連

  岡山大学自然科学研究科

• 服部 望

  岡山大学自然科学研究科

• 森居 隆史

  岡山大学自然科学研究科

• 日下 征彦

  岡山大学自然科学研究科

• 岩見 基弘

  岡山大学自然科学研究科

• 井上 昭浩

  福井工業高等専門学校

• 鈴木 一弘

  川崎製鉄(株)技術研究所

• 高橋 夏木

  日本真空技術(株)産業機器事業部

• 大久保 治

  日本真空技術(株)産業機器事業部

• 斎藤 和雄

  名古屋工業技術研究所

• 吉川 俊夫

  愛知工業大学総合技術研究所

• 鈴木 芳生

  日立製作所中央研究所

• 水木 純一郎

  日本原子力研究所

• 清水 肇

  電子技術総合研究所

• 小林 康宏

  川崎製鉄(株)技術研究所

• 畑村 洋太郎

  東京大学工学部

• 吉村 雅満

  豊田工業大学

• 小嶋 薫

  豊田工業大学

• 杉本 敏司

  大阪大学大学院工学研究科原子分子イオン制御理工学センター

• 村上 寛

  電子技術総合研究所

• 藤田 雅美

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 後藤 康仁

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 広畑 優子

  北海道大学大学院工学研究科

• 加地 博子

  岡山理科大学工学部

• 小林 司

  アネルバ(株)プロセス開発研究所

• 上田 新次郎

  株式会社日立製作所機械研究所

• 山西 博史

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 石川 雄一

  株式会社日立製作所機械研究所

• 長谷川 繁彦

  大阪大学産業科学研究所

• 竹内 晃久

  (財)高輝度光科学研究センター

• 吉森 昭夫

  岡山理科大学

• 斎藤 一也

  日本真空技術株式会社

• 関根 重幸

  電子技術総合研究所

• 瀧川 靖雄

  阪電通大

• 黒澤 宏

  宮崎大学

• 瀧川 靖雄

  大阪電気通信大学

• 佐々木 亘

  宮崎大学

• 堂丸 隆祥

  大阪府立大学付属研究所

• 清水 克祐

  三菱重工業(株)

• 佐藤 幸恵

  日本真空技術(株)筑波超材研

• 内田 悦行

  愛知工業大学

• 黒河内 智

  理化学研究所

• 渡部 秀

  理化学研究所

• 本間 禎一

  千葉工業大学工学部

• 赤石 憲也

  核融合科学研究所

• 武智 誠次

  大阪大学大学院工学研究科

• 田中 勝敏

  大阪大学大学院工学研究科附属超高温理工学研究施設

• 美本 和彦

  大阪大学大学院工学研究科超高温理工学研究施設

• 松本 貴士

  大阪大学大学院工学研究科超高温理工学研究施設

• 上田 一之

  豊田工業大学 ナノハイテクリサーチセンター

• 鷹野 一朗

  工学院大学電気工学科

• 沢田 芳夫

  工学院大学電気工学科

• 酒井 明

  京都大学工学部付属メゾ材料研究センター

• 笠井 秀明

  大阪大学大学院工学研究科

• 高木 望

  日本真空技術

• 廣木 成治

  日本原子力研究所・那珂研究所

• 丹澤 貞光

  日本原子力研究所・那珂研究所

• 野田 耕司

  放射線医学総合研究所

• 小島 昭

  群馬工業高等専門学校

• 藤本 圭一

  大阪大学工学研究科電子工学専攻

• 大倉 重治

  大阪大学工学研究科電子工学専攻

• 本多 信一

  大阪大学工学研究科電子工学専攻

• 片山 光浩

  大阪大学工学研究科電子工学専攻

• 櫻井 芳昭

  大阪府立産業技術総合研究所

• 佐藤 吉博

  高エネルギー加速器研究機構

• 鈴木 芳生

  (財)高輝度光科学研究センター

• 山本 雅彦

  大阪大学大学院工学研究科

• 佐久間 泰

  ダイゴールド株式会社

• 文 元鐵

  大阪大学産業科学研究所

• 加藤 隆男

  株式会社荏原総合研究所精密電子研究所

• 高木 祥示

  東邦大学理学部

• 田辺 徹美

  高エネルギー加速器研究機構(kek)

• 吉信 達夫

  大阪大学産業科学研究所

• 岩崎 裕

  大阪大学産業科学研究所

• 柿原 和久

  高エネルギー加速器研究機構

• 関口 敦

  日電アネルバ

• 加藤 正明

  群馬工業高等専門学校

• 久保田 雄輔

  核融合科学研究所

• 岡田 隆弘

  千葉工業大学精密機械工学科

• 山村 泰道

  岡山理科大学

• 水野 善之

  日本バルカー工業(株)

• 斉藤 芳男

  高エネルギー物理学研究所

• 永井 康睦

  日立電線(株)システムマテリアル研究所

• 広林 茂樹

  富山大学工学部

• 板倉 明子

  金属材料技術研究所

• 古橋 秀夫

  愛知工業大学 電気学科 情報通信工学専攻

• 首藤 健一

  横浜国立大学工学部知能物理工学科

• 大谷 和男

  大阪工業技術研究所

• 道園 真一郎

  高エネルギー加速器研究機構

• 中川 行人

  日電アネルバ株式会社研究開発本部

• 後藤 哲二

  東邦大学理学部

• 大塚 康二

  サンケン電気

• 田中 武

  広島工業大学

• 矢部 勝昌

  北海道工業技術研究所

• 藤田 静雄

  京都大学大学院

• 久保 富夫

  高エネルギー加速器研究機構

• 関川 健太郎

  埼玉大学

• 川畑 敬志

  広島工業大学

• 淡路 晃弘

  (財)高輝度光科学研究センター

• 高野 秀和

  (財)高輝度光科学研究センター

• 田村 繁治

  大阪工業技術研究所

• 興地 斐男

  和歌山工業高等専門学校

• 沖村 邦雄

  東海大学工学部電子工学科

• 福田 茂樹

  高エネルギー加速器研究機構

• 穴見 昌三

  高エネルギー物理学研究所

• 林 和孝

  三菱電機通信機製作所

• 星野 英光

  大阪府立産業技術総合研究所

• 石神 逸男

  大阪府立産業技術総合研究所

• 三浦 健一

  大阪府立産業技術総合研究所

• 水越 朋之

  大阪府立産業技術総合研究所

• 井上 成美

  防衛大学校

• 柏原 茂

  防衛大学校

• 尾崎 立哉

  防衛大学校

• 戸嶋 成忠

  防衛大学校

• 吉田 貞史

  電子技術総合研究所

• 黒澤 宏

  宮崎大学地域共同研究センター

• 浅野 清光

  高エネルギー加速器研究機構

• 工藤 勲

  電子技術総合研究所

• 小林 信一

  埼玉大学

• 鷹野 一朗

  工学院大学

• 吉竹 正明

  大阪府立産業技術総合研究所

• 野坂 俊紀

  大阪府立産業技術総合研究所

• 柿原 和久

  高エネルギー物理学研究所

• 大田 暢彦

  (株)安川電機 開発研究所

• 高橋 直樹

  日本真空技術(株)

• 辻 泰

  (株)アルバック・コーポレートセンター

• 秋道 斉

  (株)アルバック・コーポレートセンター

• 竹内 協子

  (株)アルバック・コーポレートセンター

• 荒井 孝夫

  (株)アルバック・コーポレトーセンター

• 田中 智成

  (株)アルバック・コーポレトーセンター

• 山納 康

  埼玉大学

• 壁谷 善三郎

  三菱重工業

• 橋場 正男

  北海道大学工学部

• 山科 俊郎

  北海道大学工学部

• 池田 省三

  金属材料技術研究所

• 蟹江 壽

  東京理科大学

• 中谷 訓幸

  富山大学工学部

• 広畑 優子

  北海道大学工学部

• 戸部 了己

  アネルバ(株)

• 戸部 了己

  日電アネルバ株式会社

• 佐々木 雅夫

  日電アネルバ株式会社

• 岡田 修

  日電アネルバ株式会社

• 細川 直吉

  日電アネルバ株式会社

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著作論文

• 高周波スパッタリング法にて作製したZnO : Al薄膜の結晶成長-スパッタ圧力依存性-
• パルスレーザー堆積法で作製した酸化亜鉛・酸化ガリウム系光記録膜
• β-FeSi_2薄膜のNd:YAGレーザーによるアニーリング効果
• ArFエキシマレーザーによりレーザーアニーリングを施したβ-FeSi_2薄膜
• スプリットターゲットを用いるパルスレーザー堆積法により作製したGa_2O_3-In_2O_3系透明導電膜
• 結晶Si_3N_4のArFエキシマレーザー照射効果
• イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用 : 画像変換技術関連 : 情報入力 : 情報ディスプレイ
• イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用
• PLD法によりPVC基板上へ作製した酸化亜鉛系透明導電膜の成膜条件の最適化
• パルスレーザー堆積法により作製したWO_3光記録膜(2)
• レーザー波長を変化させたパルスレーザー堆積法により作製した酸化亜鉛系透明導電膜
• レーザーアブレーション法により作製したアルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)膜のレーザーアニールによる特性改善
• Nd:YAG レーザを用いたPLD法によるβ-FeSi_2薄膜の作製と評価
• ArFエキシマレーザーによるβ-FeSi_2薄膜の作製とアニール効果
• Nd:YAGレーザーを用いたパルスレーザー堆積法によるβ-FeSi_2薄膜の作製と特性改善
• レーザーアブレーション法により作製した透明導電膜のレーザーアニールによる特性改善
• パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製した酸化亜鉛系透明導電膜のドーパント依存性
• Low Resistivity Transparent Conducting Oxide Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition
• PLD法により作製したZnO/In_2O_3積層構造光記録膜
• 磁場を印加したPLD法で作製した低抵抗AZO系透明導電膜
• パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製したAl-Zn-O系透明導電膜
• 加熱したメッシュを用いたレーザーアブレーション法により作製した酸化亜鉛透明導電膜
• ブルーレーザー対応型光ディスクにおける特性の改善
• 高出力エキシマレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製した酸化インジウムスズ透明導電膜
• 高出力パルスレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製した鉄シリサイド(β-FeSi_2)薄膜
• 高周波スパッタリング法により作製した金属・酸化物積層型光記録膜
• 酸化物スプリットターゲットを用いたパルスレーザー堆積法で作製した積層型光記録膜
• 無金属フタロシアニンの過渡正孔輸送 : パーコレーション過程の重要性
• ネマティック液晶の低周波領域における誘電特性
• 3G317 過渡電流法によるツイストネマティック液晶の回転粘性率測定
• 有機-無機複合系の新しい機能
• STSによる有機膜の負性抵抗特性
• アモルファス半導体の過渡光電流における分散パラメ-タの温度依存性について
• 3F105 ネマティック液晶の過渡放電電流
• 1L315 液晶光-光変調効果における吸着電荷の影響
• 1L310 液晶過渡電流における不純物イオンの影響
• Time-of-Flight法およびTransient Photodecay法により導出された非晶質As2Se3の局在準位について--表面準位の影響
• 3B19 ネマチック液晶における極性反転電流の配向依存性
• 3B18 ネマチック液晶の印加電圧極性反転による光透過特性
• 非晶質セレンのキャリア輸送について
• 非晶質As2Se3のキャリヤ輸送特性における光照射効果
• ArFエキシマレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製したITO透明導電膜の電気特性の成膜速度依存性
• パルスレーザー堆積法により作製したZoO系光記録膜(II)
• 2S06 ネマテック表面配向のモンテ・カルロ計算
• 2A19 ネマテック層の配向条件の検討
• オゾンとニオイ脱臭 (特集 電気技術者が知っておきたい 環境テクノロジー,クリーンエネルギー)
• 非対称2重障壁構造における共鳴トンネル効果の解析
• STMにおける共鳴トンネル効果とその負性抵抗特性
• 金属+酸化物混合薄膜を用いた青色レーザー対応型高密度光ディスク
• 電界を印加したPLD法で作製した酸化亜鉛系透明導電膜
• レーザーアブレーション法によって作製したZnO:A1薄膜の電気的光学的特性
• 基板回転型高周波マグネトロンスパッタ法にて作成したZnO:Al透明導電膜の特性
• RFマグネトロンスパッタ法にて作成したZnO:Al薄膜の結晶化過程
• 高周波スパッタリング法による相変化形Ge-Sb-Te+Ag系光記録膜
• 相変化光ディスクの高密度化
• パルスレーザー堆積法により作製した凹凸構造を有するZnO系透明導電膜
• スプリットターゲットを用いたレーザアブレーション法によるZnO系透明導電膜の作製
• 酸化亜鉛系ホモp-i-n接合の作製と光起電力特性
• パルスレーザー堆積法を用いて作製した積層型透明導電膜
• スプリットターゲットを用いるパルスレーザー堆積法により作製したZnO系透明導電膜
• パルスレーザー堆積法でプルームに垂直な磁場を印加して作製したZnO:Ga透明導電膜
• パルスレーザー堆積法を用いて磁場下で作製した透明導電膜
• 高周波スパッタリング法を用いて作製した金属インジウム・酸化ガリウム光記録膜
• 多元同時スパッタリング法により作製したZnO系光記録膜
• 高周波スパッタ法により作製したZnO系光記録膜
• パルスレーザー堆積法により作製した凹凸構造を有するZnO系透明導電膜(II)
• 高周波スパッタ法により作製したGaIn系酸化物光記録膜
• パルスレーザー堆積法により作製したGa_2O_3+In_2O_3光記録膜
• スパッタ法により作製したZnO系光記録膜
• サマリー・アブストラクト
• サマリー・アブストラクト
• パルスレーザー堆積法で作製した酸化亜鉛・酸化ガリウム系光記録膜
• β-FeSi_2薄膜のNd:YAGレーザーによるアニーリング効果

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