奥田 昌宏 | 奥田技術事務所
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概要
関連著者
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奥田 昌宏
奥田技術事務所
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青木 孝憲
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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松下 辰彦
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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鈴木 晶雄
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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松下 辰彦
大阪産業大学工学部電気電子工学科
-
松下 辰彦
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
-
鈴木 晶雄
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
-
青木 孝憲
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
-
秋月 真
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
奥田 昌宏
大阪府立大学工学部電子物理工学科
-
奥田 昌宏
大阪府立大学
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鈴木 晶雄
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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安倉 秀明
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
安倉 秀明
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
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中村 篤宏
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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東村 佳則
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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沖中 広和
株式会社 日立ハイテクノロジーズ
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甫木 茂靖
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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上西 俊道
大阪産業大学工学研究科
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安井 光弘
大阪産業大学工学部電気電子工学科
-
池田 和巧
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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安居 利将
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
中村 圭太
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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生田 公洋
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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上原 賢二
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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高瀬 康則
大阪産業大学 工学部 電子情報通信工学科
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前田 剛
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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沖中 広和
大阪産業大学工学部電気電子工学科
-
高瀬 康則
大阪産業大学工学部電気電子工学科
-
前田 剛
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
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上野 優樹
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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重田 和俊
大阪産業大学工学部電気電子工学科
-
奥島 浩久
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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兼田 真司
大阪産業電子情報通信工学科
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青木 孝憲
大阪産業電子情報通信工学科
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松下 辰彦
大阪産業電子情報通信工学科
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鈴木 晶雄
大阪産業電子情報通信工学科
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中村 真貴
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
三代 一真
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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重田 和俊
大阪産業大学
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三塚 和弘
東邦亜鉛株式会社
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谷 善之
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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秋月 真
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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中村 吉伸
大阪産業大学工学研究科
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一井 直弥
大阪産業大学工学研究科
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深田 三夫
山口大学農学部
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橋本 和博
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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李 坪燃
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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道畑 良太
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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吉田 和夫
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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奥野 智也
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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臼田 昭司
大阪府立工業高等専門学校
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高橋 謙太郎
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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田辺 憲司
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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守 昭人
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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坂本 淳
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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三津橋 武
大阪産業大学工学部電気電子工学科
-
深田 三夫
山口大学農学部生物資源環境科学科
著作論文
- GZO透明導電膜へのNd:YAGレーザによるアニーリング効果
- PLD法によりCOP基板上へ作製した酸化亜鉛系透明導電膜の諸特性
- プラスチック基板上に堆積した酸化亜鉛系透明導電膜のレーザーアニーリングによる特性改善
- ArFエキシマレーザーによりレーザーアニーリングを施したβ-FeSi_2薄膜
- 省インジウムを目的として作製した積層型透明導電膜の特性
- 超薄膜領域におけるパルスレーザー堆積法で作製したガリウム添加酸化亜鉛透明導電膜
- パルスレーザー堆積法によりSnO2 系材料を用いて作製した積層型透明導電膜
- パルスレーザー堆積法で作製した積層型透明導電膜の特性
- Nd:YAGレーザーを用いた酸化亜鉛系透明導電膜へのアニール
- ポリマー基板上へ作製したZnOバッファ層によるAl添加ZnO透明導電膜の特性改善
- パルスレーザー堆積法により作製したアルミドープ酸化亜鉛透明導電膜の超薄膜化
- パルスレーザー堆積法により作製したモリブデン酸化物光記録膜の光記録特性
- パルスレーザー堆積法によりシクロオレフィンポリマー基板上に作製したアルミニウムドープ酸化亜鉛系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法により作製した酸化亜鉛系透明導電膜の仕事関数制御
- 高周波マグネトロンスパッタ法により作製したFe系酸化物光記録膜の光記録特性
- パルスレーザー堆積法によるZnO系透明導電膜のバッファー層付有機基板上への成膜
- ArFエキシマレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で成膜した積層透明導電膜の特性
- パルスレーザ堆積法により低温基板に作製した酸化亜鉛系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法により低温成膜したAl-Zn-O系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法によるGa-Zn-O系透明導電膜の成膜温度の低温化
- パルスレーザー堆積法により作製したZnO系透明導電膜の特性改善
- パルスレーザー堆積法によりSnO_2系材料を用いて作製した積層型透明導電膜
- GZO透明導電膜へのNd:YAGレーザによるアニーリング効果
- プラスチック基板上に堆積した酸化亜鉛系透明導電膜のレーザーアニーリングによる特性改善
- 超薄膜領域におけるパルスレーザー堆積法で作製したガリウム添加酸化亜鉛透明導電膜
- パルスレーザー堆積法による酸化亜鉛系透明導電膜の有機基板上への成膜
- PLD法によりPVC基板上へ作製した酸化亜鉛系透明導電膜の成膜条件の最適化
- パルスレーザー堆積法により作製したWO_3光記録膜(2)
- レーザー波長を変化させたパルスレーザー堆積法により作製した酸化亜鉛系透明導電膜
- レーザーアブレーション法により作製したアルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)膜のレーザーアニールによる特性改善
- Nd:YAG レーザを用いたPLD法によるβ-FeSi_2薄膜の作製と評価
- ArFエキシマレーザーによるβ-FeSi_2薄膜の作製とアニール効果
- Nd:YAGレーザーを用いたパルスレーザー堆積法によるβ-FeSi_2薄膜の作製と特性改善
- レーザーアブレーション法により作製した透明導電膜のレーザーアニールによる特性改善
- パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製した酸化亜鉛系透明導電膜のドーパント依存性
- Low Resistivity Transparent Conducting Oxide Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition
- PLD法により作製したZnO/In_2O_3積層構造光記録膜
- 磁場を印加したPLD法で作製した低抵抗AZO系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製したAl-Zn-O系透明導電膜
- 加熱したメッシュを用いたレーザーアブレーション法により作製した酸化亜鉛透明導電膜
- ブルーレーザー対応型光ディスクにおける特性の改善
- 高出力エキシマレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製した酸化インジウムスズ透明導電膜
- 高出力パルスレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製した鉄シリサイド(β-FeSi_2)薄膜
- 高周波スパッタリング法により作製した金属・酸化物積層型光記録膜
- 酸化物スプリットターゲットを用いたパルスレーザー堆積法で作製した積層型光記録膜
- ホタルの光計測
- パルスレーザー堆積法で作製した酸化亜鉛・酸化ガリウム系光記録膜
- β-FeSi_2薄膜のNd:YAGレーザーによるアニーリング効果