パルスレーザー堆積法によりシクロオレフィンポリマー基板上に作製したアルミニウムドープ酸化亜鉛系透明導電膜
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概要
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Approximately 230 nm-thick Al-doped transparent conducting zinc oxide films (AZO) have been deposited on Cyclo Olefin Polymer (COP) substrates with ZnO buffer layer fabricated under oxygen partial pressure of 0.5~5.3 Pa, by pulsed laser deposition (PLD) using ArF excimer laser (λ=193 nm). When the ZnO buffer layer was fabricated with oxygen partial pressure of 5.3 Pa, the lowest resistivity obtained for the AZO film was 4.12×10-4 Ω•cm.
- 日本真空協会の論文
- 2008-03-20
著者
-
青木 孝憲
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
鈴木 晶雄
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
松下 辰彦
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
奥田 昌宏
奥田技術事務所
-
鈴木 晶雄
大阪産業大学工学部電気電子工学科
-
松下 辰彦
大阪産業大学工学部電気電子工学科
-
中村 篤宏
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
道畑 良太
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
秋月 真
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
松下 辰彦
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
-
鈴木 晶雄
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
-
青木 孝憲
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
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