スプリットターゲットを用いるパルスレーザー堆積法により作製したGa_2O_3-In_2O_3系透明導電膜
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概要
著者
-
青木 孝憲
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
鈴木 晶雄
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
松下 辰彦
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
奥田 昌宏
大阪府立大学工学部電子物理工学科
-
松下 辰彦
大阪産業大学工学部電気電子工学科
-
藤田 雅美
大阪産業大学工学部電気電子工学科
-
橋本 和博
大阪産業大学工学部電気電子工学科
-
奥田 昌宏
大阪府立大学
-
松下 辰彦
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
-
鈴木 晶雄
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
-
青木 孝憲
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
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