奥田 昌宏 | 大阪府立大学
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概要
関連著者
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奥田 昌宏
大阪府立大学工学部電子物理工学科
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鈴木 晶雄
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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松下 辰彦
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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松下 辰彦
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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青木 孝憲
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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奥田 昌宏
奥田技術事務所
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鈴木 晶雄
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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安倉 秀明
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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岡本 昭夫
大阪府立産業技術総合研究所
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石川 順三
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
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内藤 裕義
大阪府立大学大学院工学研究科
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坂本 吉亮
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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和田 直己
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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安井 光弘
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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池田 和巧
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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安井 利明
大阪大学大学院基礎工学研究科
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鈴木 一弘
川崎製鉄(株)技術研究所
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高橋 夏木
日本真空技術(株)産業機器事業部
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大久保 治
日本真空技術(株)産業機器事業部
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橋本 和博
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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加地 博子
岡山理科大学工学部
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奥田 昌宏
阪府大工
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吉森 昭夫
岡山理科大学
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沖中 広和
株式会社 日立ハイテクノロジーズ
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仲前 一男
大阪府立大学
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道園 真一郎
高エネルギー加速器研究機構
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黒澤 宏
宮崎大学工学部
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甲藤 正人
宮崎大学産学連携センター
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川合 知二
大阪大学産業科学研究所
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田中 俊一郎
科学技術振興事業団 田中固体融合プロジェクト
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草野 英二
金沢工業大学
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重田 和俊
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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奥島 浩久
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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藤村 喜久郎
鳥取大学工学部
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岡本 良雄
(株)日立製作所機械研究所
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笠原 章
金属材料技術研究所
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吉原 一紘
金属材料技術研究所
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村上 寛
電子技術総合研究所
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辻 博司
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
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佐藤 義幸
大阪工業技術研究所
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奥田 昌宏
大阪府大・工
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土佐 正弘
金属材料技術研究所
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甲藤 正人
大阪府立大学工学部電子物性工学科
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黒澤 宏
宮崎大学工学部電気電子工学科
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佐々木 亘
宮崎大学工学部電気電子工学科
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木内 正人
大阪工業技術研究所
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美本 和彦
大阪大学大学院工学研究科超高温理工学研究施設
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松本 貴士
大阪大学大学院工学研究科超高温理工学研究施設
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日比野 豊
(株)イオン工学研究所
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甲藤 正人
近畿大学
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平山 孝人
学習院大学理学部
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甲藤 正人
宮崎大学 産学連携センター
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佐藤 吉博
高エネルギー加速器研究機構
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重田 和俊
大阪産業大学
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吉信 達夫
大阪大学産業科学研究所
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岩崎 裕
大阪大学産業科学研究所
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加藤 正明
群馬工業高等専門学校
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北河 勝
金沢工業大学 高度材料科学研究開発センター
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佐藤 彰繁
金沢工業大学 高度材料科学研究開発センター
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前田 昭徳
愛知工業大学
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落合 鎮康
愛知工業大学
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大橋 朝夫
愛知工業大学
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小嶋 憲三
愛知工業大学
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杉山 渉
秋田大学工学資源学部
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本島 修
核融合科学研究所
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高橋 正光
日本原子力研究所放射光科学研究センター
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田村 和久
北海道大学大学院理学研究科
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近藤 敏啓
北海道大学大学院理学研究科
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田中 彰博
アルバック・ファイ(株)
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李 奎毅
大阪大学工学部
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尾浦 憲治郎
大阪大学工学部
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大熊 春夫
理化学研究所
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林 智広
早稲田大学各務記念材料技術研究所
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山内 大輔
横浜国立大学工学部知能物理工学科
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平井 正明
岡山大学自然科学研究科
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金子 英司
東洋大学工学部
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長谷川 和彦
大阪大学大学院工学研究科
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中野 寛之
愛知工業大学
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井上 幸二
大阪府立産業技術総合研究所
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加藤 茂樹
高エネルギー加速器研究機構
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浦谷 文博
大阪府立産業技術総合研究所
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久保 和也
北海道大学工学部
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安 振連
岡山大学自然科学研究科
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服部 望
岡山大学自然科学研究科
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森居 隆史
岡山大学自然科学研究科
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日下 征彦
岡山大学自然科学研究科
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岩見 基弘
岡山大学自然科学研究科
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井上 昭浩
福井工業高等専門学校
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斎藤 和雄
名古屋工業技術研究所
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筧 芳治
大阪府立産業技術総合研究所
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吉川 俊夫
愛知工業大学総合技術研究所
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水谷 五郎
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
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鈴木 芳生
日立製作所中央研究所
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水木 純一郎
日本原子力研究所
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清水 肇
電子技術総合研究所
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小林 康宏
川崎製鉄(株)技術研究所
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四谷 任
(財)大阪科学技術センター
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山本 陽一
日本電子株式会社
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柴田 明
福井工業高等専門学校
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畑村 洋太郎
東京大学工学部
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吉村 雅満
豊田工業大学
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小嶋 薫
豊田工業大学
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嘉藤 誠
日本電子株式会社
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境 悠治
日本電子株式会社
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木内 正人
大阪大学大学院工学研究科原子分子イオン制御理工学センター
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杉本 敏司
大阪大学大学院工学研究科原子分子イオン制御理工学センター
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藤田 雅美
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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高草木 達
東京大学大学院理学系化学専攻
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後藤 康仁
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
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小林 哲彦
大阪工業技術研究所
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安藤 昌儀
大阪工業技術研究所
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福谷 克之
東京大学生産技術研究所
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張 小威
高エネルギー加速器研究機構
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広畑 優子
北海道大学大学院工学研究科
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小林 司
アネルバ(株)プロセス開発研究所
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上田 新次郎
株式会社日立製作所機械研究所
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山西 博史
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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石川 雄一
株式会社日立製作所機械研究所
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長谷川 繁彦
大阪大学産業科学研究所
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竹内 晃久
(財)高輝度光科学研究センター
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斎藤 一也
日本真空技術株式会社
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関根 重幸
電子技術総合研究所
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本間 芳和
NTT基礎技術総合研究所
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瀧川 靖雄
阪電通大
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黒澤 宏
宮崎大学
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瀧川 靖雄
大阪電気通信大学
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佐々木 亘
宮崎大学
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堂丸 隆祥
大阪府立大学付属研究所
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清水 克祐
三菱重工業(株)
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佐藤 幸恵
日本真空技術(株)筑波超材研
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内田 悦行
愛知工業大学
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梅咲 則正
大阪工業技術研究所光機能材料部
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黒河内 智
理化学研究所
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渡部 秀
理化学研究所
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本間 禎一
千葉工業大学工学部
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赤石 憲也
核融合科学研究所
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武智 誠次
大阪大学大学院工学研究科
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田中 勝敏
大阪大学大学院工学研究科附属超高温理工学研究施設
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上田 一之
豊田工業大学 ナノハイテクリサーチセンター
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岩澤 康裕
東京大学大学院理学研究科
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鷹野 一朗
工学院大学電気工学科
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沢田 芳夫
工学院大学電気工学科
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酒井 明
京都大学工学部付属メゾ材料研究センター
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岸本 俊二
高エネルギー加速器機構・物質構造科学研究所
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岡野 達雄
東京大学生産技術研究所
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笠井 秀明
大阪大学大学院工学研究科
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高木 望
日本真空技術
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張 小威
高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所
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廣木 成治
日本原子力研究所・那珂研究所
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丹澤 貞光
日本原子力研究所・那珂研究所
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野田 耕司
放射線医学総合研究所
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小島 昭
群馬工業高等専門学校
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藤本 圭一
大阪大学工学研究科電子工学専攻
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大倉 重治
大阪大学工学研究科電子工学専攻
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本多 信一
大阪大学工学研究科電子工学専攻
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片山 光浩
大阪大学工学研究科電子工学専攻
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戸坂 亜希
学習院大学理学部
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五十嵐 慎一
学習院大学理学部
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神戸 美雪
学習院大学理学部
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阿部 雪子
学習院大学理学部
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入江 泰雄
学習院大学理学部
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西岡 泰城
テキサスインスツルメント筑波研究開発センター
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櫻井 芳昭
大阪府立産業技術総合研究所
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鈴木 芳生
(財)高輝度光科学研究センター
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山本 雅彦
大阪大学大学院工学研究科
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佐久間 泰
ダイゴールド株式会社
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文 元鐵
大阪大学産業科学研究所
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安 東秀
早稲田大学応用物理学科
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加藤 隆男
株式会社荏原総合研究所精密電子研究所
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高木 祥示
東邦大学理学部
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田辺 徹美
高エネルギー加速器研究機構(kek)
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柿原 和久
高エネルギー加速器研究機構
-
松尾 二郎
京都大学工学研究科附属量子理工学研究実験センター
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関 整爾
日本真空技術株式会社
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関口 敦
日電アネルバ
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久保田 雄輔
核融合科学研究所
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岡田 隆弘
千葉工業大学精密機械工学科
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山村 泰道
岡山理科大学
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水野 善之
日本バルカー工業(株)
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石川 一政
千葉工業大学精密機械工学科
-
斉藤 芳男
高エネルギー物理学研究所
-
永井 康睦
日立電線(株)システムマテリアル研究所
-
菊地 直人
金沢工業大学AMS R&D C
-
広林 茂樹
富山大学工学部
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櫻井 利夫
東北大学金属材料研究所
-
岸田 悟
鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻
-
板倉 明子
金属材料技術研究所
-
清水 達夫
テキサスインスツルメント筑波研究開発センター
-
古橋 秀夫
愛知工業大学 電気学科 情報通信工学専攻
-
首藤 健一
横浜国立大学工学部知能物理工学科
-
市川 昌和
アトムテクノロジー研究体
-
大谷 和男
大阪工業技術研究所
-
中川 行人
日電アネルバ株式会社研究開発本部
-
奥野 和彦
東京都立大学理学部
-
奥野 和彦
東京都立大学
-
清水 宏
電気通信大学
-
後藤 哲二
東邦大学理学部
-
大塚 康二
サンケン電気
-
田中 武
広島工業大学
-
矢部 勝昌
北海道工業技術研究所
著作論文
- 高周波スパッタリング法にて作製したZnO : Al薄膜の結晶成長-スパッタ圧力依存性-
- ArFエキシマレーザーによりレーザーアニーリングを施したβ-FeSi_2薄膜
- スプリットターゲットを用いるパルスレーザー堆積法により作製したGa_2O_3-In_2O_3系透明導電膜
- 結晶Si_3N_4のArFエキシマレーザー照射効果
- イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用 : 画像変換技術関連 : 情報入力 : 情報ディスプレイ
- イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用
- PLD法によりPVC基板上へ作製した酸化亜鉛系透明導電膜の成膜条件の最適化
- パルスレーザー堆積法により作製したWO_3光記録膜(2)
- レーザー波長を変化させたパルスレーザー堆積法により作製した酸化亜鉛系透明導電膜
- レーザーアブレーション法により作製したアルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)膜のレーザーアニールによる特性改善
- Nd:YAG レーザを用いたPLD法によるβ-FeSi_2薄膜の作製と評価
- ArFエキシマレーザーによるβ-FeSi_2薄膜の作製とアニール効果
- Nd:YAGレーザーを用いたパルスレーザー堆積法によるβ-FeSi_2薄膜の作製と特性改善
- レーザーアブレーション法により作製した透明導電膜のレーザーアニールによる特性改善
- パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製した酸化亜鉛系透明導電膜のドーパント依存性
- Low Resistivity Transparent Conducting Oxide Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition
- PLD法により作製したZnO/In_2O_3積層構造光記録膜
- 磁場を印加したPLD法で作製した低抵抗AZO系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製したAl-Zn-O系透明導電膜
- 加熱したメッシュを用いたレーザーアブレーション法により作製した酸化亜鉛透明導電膜
- ブルーレーザー対応型光ディスクにおける特性の改善
- 高出力エキシマレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製した酸化インジウムスズ透明導電膜
- 高出力パルスレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製した鉄シリサイド(β-FeSi_2)薄膜
- 高周波スパッタリング法により作製した金属・酸化物積層型光記録膜
- 酸化物スプリットターゲットを用いたパルスレーザー堆積法で作製した積層型光記録膜
- 無金属フタロシアニンの過渡正孔輸送 : パーコレーション過程の重要性
- ネマティック液晶の低周波領域における誘電特性
- 有機-無機複合系の新しい機能
- STSによる有機膜の負性抵抗特性
- ArFエキシマレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製したITO透明導電膜の電気特性の成膜速度依存性
- パルスレーザー堆積法により作製したZoO系光記録膜(II)
- 2S06 ネマテック表面配向のモンテ・カルロ計算
- 2A19 ネマテック層の配向条件の検討
- 非対称2重障壁構造における共鳴トンネル効果の解析
- STMにおける共鳴トンネル効果とその負性抵抗特性
- 金属+酸化物混合薄膜を用いた青色レーザー対応型高密度光ディスク
- 光ディスク(相変化形消去可能)開発の現状 (光に反応する新しい工業材料--その開発と利用の現状)
- Ge-As-Se膜の光照射による屈折率変化
- 電界を印加したPLD法で作製した酸化亜鉛系透明導電膜
- レーザーアブレーション法によって作製したZnO:A1薄膜の電気的光学的特性
- 基板回転型高周波マグネトロンスパッタ法にて作成したZnO:Al透明導電膜の特性
- RFマグネトロンスパッタ法にて作成したZnO:Al薄膜の結晶化過程
- 高周波スパッタリング法による相変化形Ge-Sb-Te+Ag系光記録膜
- 相変化光ディスクの高密度化
- パルスレーザー堆積法により作製した凹凸構造を有するZnO系透明導電膜
- スプリットターゲットを用いたレーザアブレーション法によるZnO系透明導電膜の作製
- 酸化亜鉛系ホモp-i-n接合の作製と光起電力特性
- パルスレーザー堆積法を用いて作製した積層型透明導電膜
- スプリットターゲットを用いるパルスレーザー堆積法により作製したZnO系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法でプルームに垂直な磁場を印加して作製したZnO:Ga透明導電膜
- パルスレーザー堆積法を用いて磁場下で作製した透明導電膜
- 高周波スパッタリング法を用いて作製した金属インジウム・酸化ガリウム光記録膜
- 多元同時スパッタリング法により作製したZnO系光記録膜
- 高周波スパッタ法により作製したZnO系光記録膜
- パルスレーザー堆積法により作製した凹凸構造を有するZnO系透明導電膜(II)
- 高周波スパッタ法により作製したGaIn系酸化物光記録膜
- パルスレーザー堆積法により作製したGa_2O_3+In_2O_3光記録膜
- スパッタ法により作製したZnO系光記録膜
- サマリー・アブストラクト
- サマリー・アブストラクト
- サマリー・アブストラクト
- サマリー・アブストラクト
- パルスレーザー堆積法で作製した酸化亜鉛・酸化ガリウム系光記録膜
- β-FeSi_2薄膜のNd:YAGレーザーによるアニーリング効果
- GaxSe1-xと薄膜光メモリにおける結晶-非晶転移機構
- 非晶質InxSe1-x-SnO2構造における光起電力効果