高周波スパッタリング法を用いて作製した金属インジウム・酸化ガリウム光記録膜
スポンサーリンク
概要
著者
-
青木 孝憲
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
鈴木 晶雄
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
松下 辰彦
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
奥田 昌宏
大阪府立大学工学部電子物理工学科
-
松下 辰彦
大阪産業大学工学部電気電子工学科
-
奥田 昌宏
大阪府立大学
-
松下 辰彦
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
-
鈴木 晶雄
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
-
青木 孝憲
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
関連論文
- GZO透明導電膜へのNd:YAGレーザによるアニーリング効果
- COP基板上に成膜した酸化亜鉛系透明導電膜
- 薄膜太陽電池用ダブルテクスチャー型ACZO透明導電膜の作製
- PLD法によりCOP基板上へ作製した酸化亜鉛系透明導電膜の諸特性
- プラスチック基板上に堆積した酸化亜鉛系透明導電膜のレーザーアニーリングによる特性改善
- 磁場印加したパルスレーザー堆積(PLD)法で作製した酸化亜鉛系透明導電膜
- RFマグネトロンスパッタ法にて作成したZnO:Al薄膜の電気的光学的性質
- 相変化形Ag-In-Te-Sb系光記録膜
- Ga-Se-Te-Ge系薄膜を用いた光メモリ素子
- Ga-Se-Te系薄膜を用いた光メモリ素子
- As-Se-Tl系半導体の電気的光学的性質と熱電発電素子への応用
- N2レ-ザ励起による色素レ-ザ発振--可視パルス光源の製作
- 非晶質Ge-Se-Te系薄膜のPhotocrystallization
- 非晶質Tex(Ge0.2Se0.8)1-x薄膜の電気的光学的性質とその応用 (〔大阪産業大学〕学園創立50周年記念)
- 非晶質GexSe1-x薄膜のphotocrystallization
- N2ガスレ-ザの製作
- 非晶質GexSe1-x薄膜ショットキ-ダイオ-ドの光起電力効果
- 非晶質GaxSe1-x-SnO2ヘテロ構造の光起電力効果
- 非晶質GexSe1-x薄膜の電気的光学的性質とその応用--光起電力素子
- In-Te系半導体中の高電流密度通路
- 非晶質InxSe1-x薄膜の電気的光学的性質とその応用--光起電力素子
- Te-In系半導体の電流-電圧特性とその応用
- レ-ザ-アブレ-ション法にて作製したZnO:Al薄膜の電気的光学的特性
- 高周波スパッタリング法にて作製したZnO : Al薄膜の結晶成長-スパッタ圧力依存性-
- Bi-Pb-Sb-Sr-Ca-Cu-O系高温超伝導体のバルクおよび薄膜の作成
- 消去可能Ag-In-Te-Sb系光記録膜
- パルスレーザー堆積法で作製した酸化亜鉛・酸化ガリウム系光記録膜
- β-FeSi_2薄膜のNd:YAGレーザーによるアニーリング効果
- ArFエキシマレーザーによりレーザーアニーリングを施したβ-FeSi_2薄膜
- 省インジウムを目的として作製した積層型透明導電膜の特性
- スプリットターゲットを用いるパルスレーザー堆積法により作製したGa_2O_3-In_2O_3系透明導電膜
- 超薄膜領域におけるパルスレーザー堆積法で作製したガリウム添加酸化亜鉛透明導電膜
- パルスレーザー堆積法によりSnO2 系材料を用いて作製した積層型透明導電膜
- パルスレーザー堆積法で作製した積層型透明導電膜の特性
- Nd:YAGレーザーを用いた酸化亜鉛系透明導電膜へのアニール
- ポリマー基板上へ作製したZnOバッファ層によるAl添加ZnO透明導電膜の特性改善
- パルスレーザー堆積法により作製したアルミドープ酸化亜鉛透明導電膜の超薄膜化
- パルスレーザー堆積法により作製したモリブデン酸化物光記録膜の光記録特性
- パルスレーザー堆積法によりシクロオレフィンポリマー基板上に作製したアルミニウムドープ酸化亜鉛系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法により作製した酸化亜鉛系透明導電膜の仕事関数制御
- 高周波マグネトロンスパッタ法により作製したFe系酸化物光記録膜の光記録特性
- パルスレーザー堆積法によるZnO系透明導電膜のバッファー層付有機基板上への成膜
- ArFエキシマレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で成膜した積層透明導電膜の特性
- パルスレーザ堆積法により低温基板に作製した酸化亜鉛系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法により低温成膜したAl-Zn-O系透明導電膜
- Optimization of transparent conducting Al-doped zinc oxide filmsprepared by pulsed laser deposition
- パルスレーザー堆積法によるGa-Zn-O系透明導電膜の成膜温度の低温化
- パルスレーザー堆積法により作製したZnO系透明導電膜の特性改善
- パルスレーザー堆積法によりSnO_2系材料を用いて作製した積層型透明導電膜
- GZO透明導電膜へのNd:YAGレーザによるアニーリング効果
- プラスチック基板上に堆積した酸化亜鉛系透明導電膜のレーザーアニーリングによる特性改善
- 超薄膜領域におけるパルスレーザー堆積法で作製したガリウム添加酸化亜鉛透明導電膜
- パルスレーザー堆積法による酸化亜鉛系透明導電膜の有機基板上への成膜
- PLD法によりPVC基板上へ作製した酸化亜鉛系透明導電膜の成膜条件の最適化
- パルスレーザー堆積法により作製したWO_3光記録膜(2)
- レーザー波長を変化させたパルスレーザー堆積法により作製した酸化亜鉛系透明導電膜
- レーザーアブレーション法により作製したアルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)膜のレーザーアニールによる特性改善
- Nd:YAG レーザを用いたPLD法によるβ-FeSi_2薄膜の作製と評価
- ArFエキシマレーザーによるβ-FeSi_2薄膜の作製とアニール効果
- Nd:YAGレーザーを用いたパルスレーザー堆積法によるβ-FeSi_2薄膜の作製と特性改善
- レーザーアブレーション法により作製した透明導電膜のレーザーアニールによる特性改善
- パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製した酸化亜鉛系透明導電膜のドーパント依存性
- Low Resistivity Transparent Conducting Oxide Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition
- PLD法により作製したZnO/In_2O_3積層構造光記録膜
- 磁場を印加したPLD法で作製した低抵抗AZO系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製したAl-Zn-O系透明導電膜
- 加熱したメッシュを用いたレーザーアブレーション法により作製した酸化亜鉛透明導電膜
- ブルーレーザー対応型光ディスクにおける特性の改善
- 高出力エキシマレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製した酸化インジウムスズ透明導電膜
- 高出力パルスレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製した鉄シリサイド(β-FeSi_2)薄膜
- 高周波スパッタリング法により作製した金属・酸化物積層型光記録膜
- 酸化物スプリットターゲットを用いたパルスレーザー堆積法で作製した積層型光記録膜
- ArFエキシマレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製したITO透明導電膜の電気特性の成膜速度依存性
- パルスレーザー堆積法により作製したZoO系光記録膜(II)
- 金属+酸化物混合薄膜を用いた青色レーザー対応型高密度光ディスク
- 電界を印加したPLD法で作製した酸化亜鉛系透明導電膜
- 高周波スパッタリング法による相変化形Ge-Sb-Te+Ag系光記録膜
- パルスレーザー堆積法により作製した凹凸構造を有するZnO系透明導電膜
- 酸化亜鉛系ホモp-i-n接合の作製と光起電力特性
- パルスレーザー堆積法を用いて作製した積層型透明導電膜
- スプリットターゲットを用いるパルスレーザー堆積法により作製したZnO系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法でプルームに垂直な磁場を印加して作製したZnO:Ga透明導電膜
- パルスレーザー堆積法を用いて磁場下で作製した透明導電膜
- 高周波スパッタリング法を用いて作製した金属インジウム・酸化ガリウム光記録膜
- 多元同時スパッタリング法により作製したZnO系光記録膜
- 高周波スパッタ法により作製したZnO系光記録膜
- パルスレーザー堆積法により作製した凹凸構造を有するZnO系透明導電膜(II)
- 高周波スパッタ法により作製したGaIn系酸化物光記録膜
- パルスレーザー堆積法により作製したGa_2O_3+In_2O_3光記録膜
- スパッタ法により作製したZnO系光記録膜
- パルスレーザー堆積法で作製した酸化亜鉛・酸化ガリウム系光記録膜
- β-FeSi_2薄膜のNd:YAGレーザーによるアニーリング効果
- パルスレーザー堆積法により作製した耐熱特性を有する酸化亜鉛上のアンチモンドープ酸化スズ積層型透明導電膜の電気的・光学的特性
- 磁場印加PLD法を用いて作製した酸化チタン添加酸化亜鉛透明導電膜 (小特集 第52回真空に関する連合講演会プロシーディングス(1))
- 磁場印加PLD法を用いて作製した酸化チタン添加酸化亜鉛透明導電膜
- 酸化シリコンを添加した酸化亜鉛系透明導電膜へのレーザーアニーリング
- 酸化亜鉛系材料を用いた赤外反射膜の作製
- 有機基板上に成膜したTZO透明導電膜に関する研究
- 酸化シリコンを添加した酸化亜鉛系透明導電膜へのレーザーアニーリング
- 酸化亜鉛系材料を用いた赤外反射膜の作製