高周波スパッタリング法にて作製したZnO : Al薄膜の結晶成長-スパッタ圧力依存性-
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概要
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- 1995-09-20
著者
-
鈴木 晶雄
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
松下 辰彦
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
鈴木 晶雄
大阪産業大学工学部電気電子工学科
-
坂本 吉亮
大阪産業大学工学部電気電子工学科
-
和田 直己
大阪産業大学工学部電気電子工学科
-
奥田 昌宏
大阪府立大学工学部電子物理工学科
-
松下 辰彦
大阪産業大学工学部電気電子工学科
-
奥田 昌宏
大阪府立大学
-
松下 辰彦
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
-
鈴木 晶雄
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
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- サマリー・アブストラクト
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- β-FeSi_2薄膜のNd:YAGレーザーによるアニーリング効果
- パルスレーザー堆積法により作製した耐熱特性を有する酸化亜鉛上のアンチモンドープ酸化スズ積層型透明導電膜の電気的・光学的特性
- (3) 透明導電膜
- PLD法により作成したZnO系光記録膜