RFマグネトロンスパッタ法にて作成したZnO:Al薄膜の結晶化過程
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概要
著者
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鈴木 晶雄
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
松下 辰彦
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
-
鈴木 晶雄
大阪産業大学工学部電気電子工学科
-
奥田 昌宏
大阪府立大学工学部電子物理工学科
-
松下 辰彦
大阪産業大学工学部電気電子工学科
-
奥田 昌宏
大阪府立大学
-
松下 辰彦
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
-
鈴木 晶雄
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
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- サマリー・アブストラクト
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- β-FeSi_2薄膜のNd:YAGレーザーによるアニーリング効果
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- (3) 透明導電膜
- PLD法により作成したZnO系光記録膜