沖中 広和 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ

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概要

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• 同名の論文著者
• 株式会社 日立ハイテクノロジーズの論文著者

関連著者

• 青木 孝憲

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 鈴木 晶雄

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 松下 辰彦

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 奥田 昌宏

  奥田技術事務所

• 松下 辰彦

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 安倉 秀明

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 沖中 広和

  株式会社 日立ハイテクノロジーズ

• 安倉 秀明

  大阪産業大学 工学部電気電子工学科

• 松下 辰彦

  大阪産業大学 工学部電気電子工学科

• 鈴木 晶雄

  大阪産業大学 工学部電気電子工学科

• 青木 孝憲

  大阪産業大学 工学部電気電子工学科

• 奥田 昌宏

  大阪府立大学工学部電子物理工学科

• 沖中 広和

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 奥田 昌宏

  大阪府立大学

• 甫木 茂靖

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 秋月 真

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 中村 篤宏

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 上原 賢二

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 東村 佳則

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 高瀬 康則

  大阪産業大学 工学部 電子情報通信工学科

• 高瀬 康則

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

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著作論文

• パルスレーザ堆積法により低温基板に作製した酸化亜鉛系透明導電膜
• レーザー波長を変化させたパルスレーザー堆積法により作製した酸化亜鉛系透明導電膜
• 磁場を印加したPLD法で作製した低抵抗AZO系透明導電膜
• パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製したAl-Zn-O系透明導電膜

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