上原 賢二 | 大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

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概要

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関連著者

• 青木 孝憲

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 鈴木 晶雄

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 松下 辰彦

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 奥田 昌宏

  奥田技術事務所

• 松下 辰彦

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 上原 賢二

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 安倉 秀明

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 秋月 真

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 安倉 秀明

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• 松下 辰彦

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• 鈴木 晶雄

  大阪産業大学 工学部電気電子工学科

• 青木 孝憲

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• 中村 篤宏

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• 東村 佳則

  大阪産業大学工学部電子情報通信工学科

• 高瀬 康則

  大阪産業大学 工学部 電子情報通信工学科

• 沖中 広和

  株式会社 日立ハイテクノロジーズ

• 高橋 謙太郎

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

• 高瀬 康則

  大阪産業大学工学部電気電子工学科

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著作論文

• パルスレーザー堆積法によるZnO系透明導電膜のバッファー層付有機基板上への成膜
• パルスレーザ堆積法により低温基板に作製した酸化亜鉛系透明導電膜
• パルスレーザー堆積法によるGa-Zn-O系透明導電膜の成膜温度の低温化

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