安倉 秀明 | 大阪産業大学 工学部電気電子工学科
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概要
関連著者
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奥田 昌宏
奥田技術事務所
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秋月 真
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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奥田 昌宏
大阪府立大学工学部電子物理工学科
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奥田 昌宏
大阪府立大学
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中村 篤宏
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東村 佳則
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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沖中 広和
株式会社 日立ハイテクノロジーズ
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上原 賢二
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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沖中 広和
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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高瀬 康則
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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前田 剛
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甫木 茂靖
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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前田 剛
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
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中村 真貴
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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奥野 智也
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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高橋 謙太郎
大阪産業大学工学部電気電子工学科
著作論文
- パルスレーザー堆積法によるZnO系透明導電膜のバッファー層付有機基板上への成膜
- ArFエキシマレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で成膜した積層透明導電膜の特性
- パルスレーザ堆積法により低温基板に作製した酸化亜鉛系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法により低温成膜したAl-Zn-O系透明導電膜
- Optimization of transparent conducting Al-doped zinc oxide filmsprepared by pulsed laser deposition
- パルスレーザー堆積法によるGa-Zn-O系透明導電膜の成膜温度の低温化
- パルスレーザー堆積法により作製したZnO系透明導電膜の特性改善
- パルスレーザー堆積法による酸化亜鉛系透明導電膜の有機基板上への成膜
- PLD法によりPVC基板上へ作製した酸化亜鉛系透明導電膜の成膜条件の最適化
- レーザー波長を変化させたパルスレーザー堆積法により作製した酸化亜鉛系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製した酸化亜鉛系透明導電膜のドーパント依存性
- Low Resistivity Transparent Conducting Oxide Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition
- 磁場を印加したPLD法で作製した低抵抗AZO系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製したAl-Zn-O系透明導電膜
- 電界を印加したPLD法で作製した酸化亜鉛系透明導電膜