甫木 茂靖 | 大阪産業大学工学部電気電子工学科
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概要
関連著者
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青木 孝憲
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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鈴木 晶雄
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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奥田 昌宏
奥田技術事務所
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大阪産業大学工学部電気電子工学科
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甫木 茂靖
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奥田 昌宏
大阪府立大学
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大阪産業大学 工学部電気電子工学科
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鈴木 晶雄
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
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青木 孝憲
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
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安倉 秀明
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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沖中 広和
株式会社 日立ハイテクノロジーズ
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沖中 広和
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秋月 真
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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安倉 秀明
大阪産業大学 工学部電気電子工学科
著作論文
- レーザーアブレーション法により作製したアルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)膜のレーザーアニールによる特性改善
- レーザーアブレーション法により作製した透明導電膜のレーザーアニールによる特性改善
- 磁場を印加したPLD法で作製した低抵抗AZO系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製したAl-Zn-O系透明導電膜