岸田 悟 | 鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻

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概要

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関連著者

• 岸田 悟

  鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻

• 岸田 悟

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 岸田 悟

  鳥取大学大学院工学研究科

• 岸田 悟

  鳥大工

• 徳高 平蔵

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 岸田 悟

  鳥取大 工

• 木下 健太郎

  鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻

• 藤村 喜久郎

  鳥取大学工学部

• 石原 永伯

  鳥取大学工学部

• 岸田 悟

  鳥取大学大学院 工学研究科

• 西守 克己

  鳥取大学工学部

• 渡部 徹

  松江工業高等専門学校情報工学科

• 石原 永伯

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 西守 克己

  鳥取大 大学院

• 西守 克己

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 西村 晃一

  鳥取大学工学部

• 田中 章浩

  鳥取大学大学院工学研究科

• 木下 健太郎

  鳥取大学大学院工学研究科

• 長谷川 弘

  鳥取大学大学院工学研究科

• 岸田 悟

  鳥取大学工学部

• 石原 永伯

  鳥取大学大学院工学研究科

• 田中 隼人

  鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻

• 牧野 達也

  鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻

• 吉田 大一郎

  鳥取県産業技術センター

• 土橋 一史

  鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻

• 花田 明紘

  鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻

• 渡部 徹

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 岸田 悟

  鳥取大学

• 佐々木 貴啓

  富士通株式会社

• 小林 光

  鳥取大学大学院工学研究科

• 中川 雅人

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 依田 貴稔

  鳥取大学電気電子工学科

• 木下 健太郎

  鳥取大学電気電子工学科

• 福島 整

  独立行政法人物質・材料研究機構 ナノ計測センター先端表面化学分析グループ

• 依田 貴稔

  鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻

• 山内 康弘

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 大観 光徳

  鳥取大学工学部

• 土田 浩之

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 福島 整

  物質・材料研究機構物質研究所

• 葛原 宏治

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 田中 章浩

  鳥取大学工学部

• 奥谷 匠

  鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻

• 土橋 一史

  鳥取大学電気電子工学科

• 高橋 智一

  鳥取県産業技術センター

• 大観 光徳

  鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻

• 石原 顕永

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 河相 宰昭

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 直江 寛之

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 戸田 典彦

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 岩本 和之

  鳥取大学工学部

• 後藤 祐介

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 大西 俊輔

  鳥取大学大学院工学研究科

• 佐々木 貴啓

  鳥取大学工学部附属電子ディスプレイ研究センター(TEDREC)

• 山田 聖悟

  島取大学医学部附属病院放射線部

• 吉川 英樹

  物材機構

• 吉川 英樹

  物質・材料研究機構 SPring-8

• 藤原 直樹

  鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻

• 大嶋 重利

  山形大学工学部

• 平田 吉春

  鳥取大学医学部附属病院放射線部

• 吉川 英樹

  物材機構はりま

• 吉川 英樹

  科学技術庁無機材質研究所

• 松本 浩介

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 福島 整

  科学技術庁無機材質研究所

• 藤原 哲也

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 大西 隆洋

  鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻

• 小林 光

  鳥取大学工学部

• 長谷川 弘

  鳥取大学工学部

• 吉原 一紘

  物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所

• 檜木 利雄

  鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻

• 岸田 悟

  鳥取大学電気電子工学科

• 福島 整

  無機材研

• 出口 恭平

  鳥取大学工学部

• 三谷 謙

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 三谷 譲

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 細川 英治

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 圓山 敬史

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 原田 寛治

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 岡井 大祐

  姫路工業大学工学部

• 片山 誠

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 平田 吉春

  島取大学医学部附属病院放射線部

• 福間 眞澄

  松江工業高等専門学校

• 角 博文

  ソニー(株)半導体(事)イメージセンサ事業部

• 伊藤 良生

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 岡本 昭夫

  大阪府立産業技術総合研究所

• 田中 俊一郎

  科学技術振興事業団 田中固体融合プロジェクト

• 大熊 春夫

  理化学研究所

• 林 智広

  早稲田大学各務記念材料技術研究所

• 向田 昌志

  山形大学工学部

• 草野 英二

  金沢工業大学

• 鈴木 一弘

  川崎製鉄(株)技術研究所

• 高橋 夏木

  日本真空技術(株)産業機器事業部

• 大久保 治

  日本真空技術(株)産業機器事業部

• 中井 生央

  鳥取大工

• 山本 陽一

  日本電子株式会社

• 八木 信弘

  スプリングエイトサービス株式会社

• 小椋 満

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 水谷 剛

  物質・材料研究機構物質研究所

• 福島 整

  無機材質研究所超微細構造解析ステーション

• 石川 順三

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 福谷 克之

  東京大学生産技術研究所

• 張 小威

  高エネルギー加速器研究機構

• 加地 博子

  岡山理科大学工学部

• 斎藤 賢治

  鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻

• 尾内 由香里

  鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻

• 小椋 満

  鳥取大学・工

• 楠 正暢

  山形大学工学部電子情報工学科

• 大北 正昭

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 吉森 昭夫

  岡山理科大学

• 岸本 俊二

  高エネルギー加速器機構・物質構造科学研究所

• 岡野 達雄

  東京大学生産技術研究所

• 張 小威

  高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所

• 鈴木 峰晴

  NTTアドバンステクノロジ

• 平山 孝人

  学習院大学理学部

• 牧野 達也

  鳥取大学電気電子工学科

• 平田 吉春

  鳥取大学医学部附属病院 放射線部

• 安 東秀

  早稲田大学応用物理学科

• 関 整爾

  日本真空技術株式会社

• 伊藤 良生

  鳥取大学工学部

• 北河 勝

  金沢工業大学 高度材料科学研究開発センター

• 佐藤 彰繁

  金沢工業大学 高度材料科学研究開発センター

• 櫻井 利夫

  東北大学金属材料研究所

• 長谷川 弘

  セコム山陰(株)

• 中井 生央

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 小西 亮介

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 高巣 聡

  鳥取大学工学部

• 木佐 幸司

  松江工業高等専門学校

• 吉田 大一郎

  鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻

• 道園 真一郎

  高エネルギー加速器研究機構

• 岡井 大祐

  山形大学工学部

• 山田 聖悟

  鳥取大学医学部附属病院・放射線部

• 大谷 茂樹

  科学技術庁 無機材質研究所

• 田沼 繁夫

  独立行政法人物質・材料研究機構 ナノ計測センター先端表面化学分析グループ

• 永山 勝也

  Miyagi National College Of Technology

• 田口 充

  ソニー(株)

• 井藤 浩志

  早稲田大学応用物理学科

• 川崎 豊誠

  早稲田大学応用物理学科

• 大島 忠平

  早稲田大学応用物理学科

• 小川 倉一

  大阪府立産業技術総合研究所

• 桜井 誠

  分子科学研究所

• 中山 正昭

  大阪市立大学大学院 工学研究科電子情報系専攻 応用物理学講座

• 北川 利幸

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 永見 忠久

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 吉原 一紘

  金材研

• 田中 章人

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 谷川 泰造

  鳥取大学工学部電気電子工学部

• 佐藤 直樹

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 吉原 一紘

  金材伎研

• 中村 誠

  富士通(株)デバイス開発部第5プロセス開発部

• 岸田 悟

  鳥取大学 工学部

• 柴崎 敦彦

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 羽田野 毅

  物質・材料研究機構

• 安達 俊

  学習院大学理学部

• 吉竹 正明

  大阪府立産業技術総合研究所

• 野坂 俊紀

  大阪府立産業技術総合研究所

• 寺井 真之

  早稲田大学

• 石川 眞澄

  九州工業大学大学院生命体工学研究科

• 羽山 彰

  学習院大学理学部

• 小林 信一

  埼玉大学工学部電気電子システム工学科

• 早川 和延

  北海道大学触媒化学研究センター

• 正木 満博

  高輝度光科学研究センター

• 高橋 研

  東北大学大学院工学研究科

• 中島 秀文

  玉川大学工学部

• 酒井 創

  福島女子短期大学

• 小池 卓郎

  玉川大学工学部

• 野口 正俊

  玉川大学工学部

• 小越 康弘

  福島女子短期大学

• 坂井 大輔

  早稲田大学大学院

• 猪狩 佳幸

  東北大学科学計測研究所

• 石塚 真治

  東北大学科学計測研究所

• 峰 哲朗

  東北大学科学計測研究所

• 高岡 毅

  東北大学科学計測研究所

• 高見 知秀

  東北大学科学計測研究所

• 楠 勲

  東北大学科学計測研究所

• 小西 亮介

  鳥取大学大学院工学研究科

• 後藤 康仁

  京都大学大学院工学研究科

• 岩井 秀夫

  独立行政法人物質・材料研究機構

• 市ノ川 竹男

  早稲田大学

• 一村 信吾

  電子技術総合研究所

• 大北 正昭

  鳥取大学

• 川田 洋揮

  (株)日立ハイテクノロジーズ ナノテクノロジー製品事業本部研究開発本部

• 松岡 長

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 斉藤 一也

  日本真空(株)筑波超材研

• 塩川 善郎

  JRCAT(アトムテクノロジー研究体)-ATP

• 長谷川 弘

  鳥取大学電子ディスプレイ研究センター(TEDREC)

• 国分 清秀

  電子技術総合研究所

• 小西 亮介

  鳥取大学

• 小西 亮介

  鳥取大学工学部

• 小林 和彦

  玉川大学工学部

• 北河 勝

  金沢工業大学amsrc

• 渡邊 剛

  高輝度光科学研究センター

• 佐伯 宏

  高輝度光科学研究センター

• 鈴木 康明

  理化学研究所

• 谷内 友希子

  理化学研究所

• 野田 隆

  理化学研究所

• 前野 理生

  帝国電機製作所

• 〓 碩喜

  韓国標準科学研究院

• 佐藤 修

  (株)日立製作所機械研究所

• 藤沼 明子

  科学技術振興事業団 田中固体融合プロジェクト

• 酒井 由美子

  鳥取大学工学部電気電子工学科

• 矢城 陽一朗

  岡山理科大学総合情報学部

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著作論文

• ニューラルネットワークを用いた胸部X線画像の異常検出システム (ニューロコンピューティング)
• 声紋による個人認証システムの構築
• 多元高周波マグネトロンスパッタ法による高品質Bi_2Sr_2CaCu_2O_y超伝導薄膜の作製
• Heガスを用いたBi_2Sr_2Ca_Cu_nO_yスパッタ薄膜の組成制御
• 堆積部位に磁場を印加しつつ堆積した高周波マグネトロンスパッタ法によるBi_2Sr_2Ca_Cu_nO_y超伝導薄膜の作製
• 磁場印加型高周波マグネトロンスパッタ法によるBi系超伝導薄膜の作製
• 階層型ニューラルネットワークを用いた声紋による個人認証システムの構築
• B-18-2 ニューラルネットワークを用いた声紋による個人認証システムの構築(B-18.バイオメトリクス・セキュリティ,一般講演)
• 音声による個人認証システムの構築
• GaドープZnO薄膜における不揮発性抵抗変化現象の成膜雰囲気依存性
• 大面積透明フレキシブルオールGaドープZnO抵抗変化メモリ(ReRAM)の作製と評価
• フォーミングを必要としない抵抗変化メモリ(ReRAM)の作製に関する研究
• 高周波マグネトロンスパッタ法によるBaTiO_3/Pt自立膜の作製と評価
• ニューラルネットワークを用いた高速フーリエ変換前処理法における指紋照合システムの構築
• 鳥取大学工学部電気電子工学科における教育改革と評価
• ニューラルネットワークを用いた指紋照合システムの性能の改善
• 指紋による個人認証へのニューラルネットワークの適用(音声・音響情報システム及び一般)
• ニューラルネットワークを用いた指紋照合システム
• 点字翻訳へのニューラルネットワークの適用
• ニューラルネットワークを用いた指紋照合システムの構築
• NiOを用いた抵抗変化型メモリ(ReRAM)の結晶性とメモリ特性
• BaTiO_3自立薄膜におけるクラック密度の低減と配向性の成長基板温度依存性
• ニューラルネットワークの化学分析への適用
• Ba_Rb_xBiO_yスパッタ薄膜の作製
• 種々の雰囲気におけるBi_2Sr_2CaCu_2O_y 単結晶表面の加熱処理効果
• 化学分析における自己組織化マップ(SOM)の応用
• 高周波マグネトロンスパッタ法によるBaRbBiO薄膜の作製
• 清浄化したBi系単結晶のX線光電子分光による状態分析
• BaRbBiO超伝導セラミックスのX線光電子分光測定
• ニューラルネットワークの定量分析への適用
• 分析データへのニューラルネットワークの適用
• 自己組織化マップ(SOM)の化学データ分析への応用
• 電子分光法による酸化シリコン測定時のダメージについて
• 高周波マグネトロンスパッタ法によるバイアス印加時のBi_2Sr_2Ca_Cu_nO_y超伝導薄膜の作製
• X線光電子分光法で評価したBi_2Sr_2CaCu_2O_y(Bi系)超伝導体の清浄化
• プローブ結合型マイクロストリップ共振器法によるBi-Sr-Ca-Cu-Oウィスカの表面抵抗測定
• プローブ結合型マイクロストリップ線路共振器法による線状試料の表面抵抗測定の一検討
• 最近の分析装置に望むこと
• 指紋による個人認証へのニューラルネットワークの適用(音声・音響情報システム及び一般)
• 指紋による個人認証へのニューラルネットワークの適用(音声・音響情報システム及び一般)
• He-O_2ガスを用いた高周波マグネトロンスパッタ法によるBi-Sr-Ca-Cu-O薄膜の作製
• ニューラルネットワークを用いた胸部X線画像の異常検出システム
• ニューラルネットワークを用いた声紋認証システムにおける入力層ユニット数の効果
• 強磁性体/超伝導体構造の製作とその特性に関する研究
• マニューシャ法により得られた指紋の特徴点とニューラルネットワーク用いた認証システムの構築
• 80K相Bi系バルク単結晶のXPS測定
• 不純物を添加したBi系超伝導単結晶のXPS測定
• 二次電子像によるC-AFM抵抗書き込み領域識別技術の適用によるReRAM動作機構の解明(シリコン関連材料の作製と評価)
• Bi-Sr-Ca-Cu酸化物超電導体へのPb酸化物添加効果
• Bi-Sr-Ca-Cu酸化物超伝導体表面への電極形成
• Bi系酸化物超伝導セラミックスへの電極形成
• 距離素子を用いた階層型ニューラルネットワーク
• Kohonenモデルにおける側方相互作用と近傍形状についての考察
• 反射高速電子線回析およびX線光電子分光法による Bi 系超伝導バルク単結晶上の CeO_2 薄膜の評価
• Bi系バルク単結晶表面上へのY_2O_3の成長
• 80K相Bi系超伝導単結晶上でのAu及びAg薄膜成長の比較
• Bi系酸化物高温超伝導バルク単結晶表面上への金属および絶縁薄膜の成長
• 階層型ニューラルネットワークの学習における付加項の探索
• 自己最適化ニューラルネットワークの応用
• 隠れユニット削減システムにおける相関と分散係数の最適化
• 隠れユニット自動削減ニューラルネットワークの構築
• 各種のファジィ推論法による模型自動車の走行制御シミュレーション
• 汎化能力向上のための階層型ニューラルネットワークの条件付き付加項
• 自己組織化マップを用いた多次元データの確率密度分布の可視化
• 高用波マグネトロンスパッタ法による 80K 相 Bi 系超伝導薄膜の作製
• 巡回セールスマン問題へのS0M繰り返し法の応用
• 多都市, 例えば米国532都市TSP問題でのSOM法の最適化
• Arイオンソフトエッチングを用いた微細接続孔内の自然酸化膜除去効果
• モンテカルロシュミレーションを用いた、次世代CMOSデバイス対応ソフトエッチコンタクトプロセスの開発
• コリメートスパッタ法で形成したTiN膜の特性
• 階層型ニューラルネットワークにおける隠れユニットの自動削減システムの検討
• 階層型ニューラルネットワークのボタン選定問題への適用
• 糸-ボタン問題における階層型ニューラルネットワークの汎化能力
• サマリー・アブストラクト
• Bi系7K相高温超伝導単結晶のXPS測定
• 原子間力顕微鏡を用いた遷移金属酸化物におけるメモリ効果の機構解明 (表面分析研究会 第36回研究会 講演資料)
• 平坦な80K相Bi系酸化物超伝導薄膜の作製
• rfマグネトロンスパッタ法によるBi-Sr-Ca-Cu-O超伝導薄膜の作製
• メッキ法による酸化物高温超伝導体上への電極形成
• フォーミングフリー抵抗変化型メモリにおけるリセット電流と初期抵抗値の普遍的な関係
• 胸部X線画像の異常位置検出へのニューラルネットワークの適用
• マルチステップニューラルネットワークを用いた声紋認証システムの構築
• 二元系遷移金属酸化物ReRAMにおける各抵抗状態の相関関係の分析(不揮発性メモリ,メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
• ペロブスカイト酸化物系ReRAMのスイッチングメカニズム(不揮発性メモリ,メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
• 原子間力顕微鏡を用いたReRAMフィラメントの物性解析(不揮発性メモリ,メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
• HfO_2-CB-RAMの基本メモリ特性(不揮発性メモリ,メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
• ReRAMの物性評価と基本メモリ特性の制御(シリコン関連材料の作製と評価)
• Kohonen自己組織化特徴マップの巡回セールスマン問題への応用
• Bi-Sr-Ca-Cu-O単結晶の清浄化方法 : LEED-AES法による評価
• RHEED法によるBi-Sr-Ca-Cu-O超伝導単結晶上でのAg薄膜のエピタキシャル成長観察
• 大気中および真空中劈開した80K相Bi系超伝導単結晶のSEM・SAMによる表面分析
• 磁場型LEED装置の試作
• 円筒共振器型マイクロ波プラズマCVD装置によるダイヤモンド薄膜の作製
• RHEEDによるSi (100) の2×1表面構造とその上でのSiエピタキシーの観察
• 80K相Bi系酸化物超伝導単結晶と薄膜のXPSによる評価
• 表面分析の基礎知識 反射高速電子線回析法
• カウンタープロパゲーションの改良とその応用
• Kohonenの自己組織化特徴マップ(SOM)の3次元化
• 自己組織化特徴マップの改良に関する一考察
• 適応部分空間SOM(ASSOM)を用いた音声データ処理
• 80K相Bi系酸化物超伝導単結晶と薄膜のSEM-SAMによる表面分析
• Si (001) 2×1表面上でのAgのエピタキシャル成長のRHEEDによる観察
• 80K相 Bi 系バルク単結晶の表面劣化層の状態分析
• 高温超伝導材料用試料冷却装置によるin-situ表面分析
• 80K相Bi系酸化物超伝導単結晶表面上のAu金属電極の形成とXPSによる評価
• 銅酸化物高温超伝導体単結晶を用いた抵抗変化メモリのスイッチングメカニズム
• 遷移金属酸化物における抵抗スイッチング現象と二次電子放出効率との相関関係
• HfO_2-CB-RAMの基本メモリ特性(集積エレクトロニクス)
• ニューラルネットワークを用いた肺野X線像の異常陰影検出システムの高性能化
• 胸部X線画像の異常検出システムの性能に及ぼすニューラルネットワークの入力層ユニット数の影響
• クラスター分類問題に対する距離ネットワークの適用
• オンライン手書き数字認識システムにおけるリカレントなKohonen型ネットワークの検討
• パーソナルコンピュータによる分光計測・制御装置
• 遷移金属酸化物抵抗変化メモリ(ReRAM)におけるフィラメント分布と動作特性の関係
• 電気配線用PVCの高温領域における空間電荷形成と絶縁破壊
• BaTiO3 薄膜の自立化に伴う特性変化
• BaTiO_3薄膜の自立化に伴う特性変化
• RHEEDによるSiC上のSiとGeの観察 (第28回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
• 長時間加熱したPVCの高温領域での空間電荷形成と絶縁破壊
• 3種のバックグラウンド除去法によるXPSスペクトルの比較
• 無限の服地色から15種類のボタン色を選定する問題へのKohonen自己組織化特徴マップの応用
• rfマグネトロンスパッタ法によるBi-Sr-Ca-Cu-O薄膜のXPSによる研究
• A circuit for extension of an interrupt input of personal computers.
• RF マグネトロンスパッタリング法によるBaTiO3 薄膜の低温堆積と評価
• 微細領域に閉じ込められたReRAMフィラメントのメモリ特性(シリコン関連材料の作製と評価)
• HfO2-Conducting-Bridge memoryにおけるリセットパラメータの相関関係(シリコン関連材料の作製と評価)

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