細川 直吉 | 日電アネルバ株式会社
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概要
関連著者
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細川 直吉
日電アネルバ株式会社
-
細川 直吉
アネルバ株式会社
-
細川 直吉
日電アネルバ研究開発本部
-
関口 敦
日電アネルバ
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岡田 修
日電アネルバ株式会社
-
岡田 修
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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麻蒔 立男
東京理科大学工学部電気工学科
-
麻蒔 立男
東京理科大学工学部・電気工学科
-
関口 敦
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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小林 司
日電アネルバ
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中川 行人
日電アネルバ株式会社研究開発本部
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平田 和男
日電アネルバ(株)
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戸部 了己
日電アネルバ株式会社
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佐々木 雅夫
日電アネルバ株式会社
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鈴木 晶雄
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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松下 辰彦
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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本島 修
核融合科学研究所
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金子 英司
東洋大学工学部
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加藤 茂樹
高エネルギー加速器研究機構
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久保 和也
北海道大学工学部
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鈴木 晶雄
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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坂本 吉亮
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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和田 直己
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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奥田 昌宏
大阪府立大学工学部電子物理工学科
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松下 辰彦
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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鈴木 一弘
川崎製鉄(株)技術研究所
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高橋 夏木
日本真空技術(株)産業機器事業部
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大久保 治
日本真空技術(株)産業機器事業部
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斎藤 和雄
名古屋工業技術研究所
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宮坂 洋一
NEC基礎研究所
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鈴木 芳生
日立製作所中央研究所
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清水 肇
電子技術総合研究所
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麻蒔 立男
東京理科大学・工学部
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小林 康宏
川崎製鉄(株)技術研究所
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畑村 洋太郎
東京大学工学部
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笠原 章
金属材料技術研究所
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吉原 一紘
金属材料技術研究所
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村上 寛
電子技術総合研究所
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辻 博司
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
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石川 順三
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
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広畑 優子
北海道大学大学院工学研究科
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宮坂 洋一
NEC 基礎研究所
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小林 司
アネルバ(株)プロセス開発研究所
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上田 新次郎
株式会社日立製作所機械研究所
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石川 雄一
株式会社日立製作所機械研究所
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斎藤 一也
日本真空技術株式会社
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土佐 正弘
金属材料技術研究所
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関根 重幸
電子技術総合研究所
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佐藤 幸恵
日本真空技術(株)筑波超材研
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黒河内 智
理化学研究所
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渡部 秀
理化学研究所
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本間 禎一
千葉工業大学工学部
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赤石 憲也
核融合科学研究所
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木内 正人
大阪工業技術研究所
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小島 昭
群馬工業高等専門学校
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後藤 誠
北陸職業能力開発大学校
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佐久間 泰
ダイゴールド株式会社
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加藤 隆男
株式会社荏原総合研究所精密電子研究所
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高木 祥示
東邦大学理学部
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柿原 和久
高エネルギー加速器研究機構
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麻蒔 立男
日電バリアン(株)
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加藤 正明
群馬工業高等専門学校
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久保田 雄輔
核融合科学研究所
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斉藤 芳男
高エネルギー物理学研究所
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永井 康睦
日立電線(株)システムマテリアル研究所
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長谷 卓
NEC基礎研究所
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板倉 明子
金属材料技術研究所
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大谷 和男
大阪工業技術研究所
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道園 真一郎
高エネルギー加速器研究機構
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後藤 哲二
東邦大学理学部
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大塚 康二
サンケン電気
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田中 武
広島工業大学
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矢部 勝昌
北海道工業技術研究所
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中川 行人
アネルバ株式会社装置事業部第一製品技術グループ
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岸田 俊二
日本電気株式会社
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川畑 敬志
広島工業大学
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田村 繁治
大阪工業技術研究所
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福田 茂樹
高エネルギー加速器研究機構
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穴見 昌三
高エネルギー物理学研究所
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林 和孝
三菱電機通信機製作所
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井上 成美
防衛大学校
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柏原 茂
防衛大学校
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尾崎 立哉
防衛大学校
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戸嶋 成忠
防衛大学校
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吉田 貞史
電子技術総合研究所
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浅野 清光
高エネルギー加速器研究機構
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工藤 勲
電子技術総合研究所
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小林 明子
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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柿原 和久
高エネルギー物理学研究所
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高橋 直樹
日本真空技術(株)
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辻 泰
(株)アルバック・コーポレートセンター
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秋道 斉
(株)アルバック・コーポレートセンター
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竹内 協子
(株)アルバック・コーポレートセンター
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荒井 孝夫
(株)アルバック・コーポレトーセンター
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田中 智成
(株)アルバック・コーポレトーセンター
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橋場 正男
北海道大学工学部
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山科 俊郎
北海道大学工学部
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新澤 勉
日本電気株式会社
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菅井 和己
日本電気株式会社
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小林 明子
日電アネルバ株式会社
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岡林 秀和
日本電気株式会社
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八子 忠明
住友化学工業株式会社
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池田 省三
金属材料技術研究所
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蟹江 壽
東京理科大学
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三浦 勉
東京理科大学工学部電気工学科
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広畑 優子
北海道大学工学部
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門倉 秀公
住友化学工業株式会社
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金 瑞元
日電アネルバ(株)
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神馬 仁志
日電アネルバ(株)
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後藤 康仁
京都大学大学院工学研究科
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平塚 一
日本原子力研究所那珂研究所
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佐々木 雅夫
アネルバ株式会社
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稲吉 さかえ
日本真空技術(株)筑波超材料研究所
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三沢 俊司
日本真空技術(株)筑波超材料研究所
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一村 信吾
電子技術総合研究所
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永関 一也
山梨大学工学部
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楠 秀樹
山梨大学工学部
-
斉藤 幸典
山梨大学工学部
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菅ノ又 伸治
山梨大学工学部
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石川 稜威男
山梨大学工学部
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大手 丈夫
群馬工業高等専門学校
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板垣 克則
日電アネルバ研究開発本部
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内山 智雄
日電アネルバ研究開発本部
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伊佐 弘
大阪工業大学
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茶谷原 昭義
大阪工業技術研究所
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阪口 享
大阪工業技術研究所
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泉 順
群馬工業高等専門学校電子情報工学科
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根岸 恒雄
群馬工業高等専門学校
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藤井 隆満
(株)セントラル硝子
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上條 栄治
龍谷大学理工学部
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遠藤 和弘
電子技術総合研究所
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市川 洋
松下中央研究所
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瀬恒 謙太郎
松下中央研究所
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吉岡 捷爾
高松工業高等専門学校電気工学科
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中尾 節男
名古屋工業技術研究所
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宮川 草児
名古屋工業技術研究所
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上條 長生
大阪工業技術研究所
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松岡 長
鳥取大工
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圓山 敬史
鳥取大工
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原田 寛治
鳥取大工
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岸田 悟
鳥取大工
-
徳高 平蔵
鳥取大工
-
藤村 喜久郎
鳥取大工
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小柳 剛
山口大工
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塩川 善郎
アトムテクノロジー研究体
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塩川 善郎
JRCAT(アトムテクノロジー研究体)-ATP
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菊地 俊雄
日電アネルバ株式会社
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中村 茂昭
高松工業高等専門学校
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岸田 俊二
日本電気(株)材料部品分析評価センター
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国分 清秀
電子技術総合研究所
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安納 勝人
日本原子力研究所
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宮坂 洋一
Nec 基礎研
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伊ヶ崎 泰宏
静岡大学電子工学研究所
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斎藤 順雄
高松工業高等専門学校
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仲秋 勇
静岡県工業技術センター
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後藤 智弘
静岡大学電子工学研究所
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山口 十六夫
静岡大学電子工学研究所
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吉野 幸夫
(株)村田製作所
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森井 浩
広島工業大学工学部電子工学科
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峯岡 和博
広島工業大学工学部電子工学科
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佐久間 敏幸
日本電気(株)
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長谷 卓
NEC 基礎研究所
-
佐久間 敏幸
NEC 基礎研究所
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伊藤 進
(株)東芝京浜事業所
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池山 雅美
名古屋工業技術試験所
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平田 正紘
電子技術総合研究所
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伊藤 進
(株)東芝 電力システム社 京浜事業所
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島田 茂樹
京都大学大学院工学研究科電子物性工学教室
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丹羽 博昭
名古屋工業技術研究所
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原田 誠
北海道大学工学部原子工学科
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東 健司
(株)村田製作所
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佐藤 勝
ダイゴールド株式会社
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池田 佳直
日本真空技術株式会社筑波超材料研究所
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西浦 正満
ダイゴールド株式会社
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大石 政治
ダイゴールド株式会社
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種村 誠太
名古屋工業技術研究所
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中尾 政之
東京大学工学部産業機械工学科
-
中尾 政之
東京大学工学系大学院総合研究機構連携工学研究プロジェクト
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石川 順三
京都大学大学院工学研究科電子物性工学教室
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尾高 憲二
株式会社日立製作所
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黒河 明
電子技術総合研究所
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青柳 健二
山梨大学工学部
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佐々木 伸也
山梨大学工学部
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柏原 茂
防衛大学校電気工学科
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相原 育貴
北海道大学工学部
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日野 友明
北海道大学
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中野 寛
龍谷大学理工学研究科
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江崎 和弘
核融合科学研究所
-
井谷 誠
広島工業大学工学部電子工学科
-
辻村 瑛
徳島文理大学
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谷内 友希子
日本真空技術(株)筑波超材料研
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大谷 杉郎
東海大学 開発工学部素材工学科
-
千代田 博宜
日立粉末冶金(株) 松戸工場
-
湊 道夫
真空冶金株式会社
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市川 昌和
Jrcat
-
塩川 善郎
アネルバ(株)開発研究所 JRCAT(アトムテクノロジー研究体)
-
石橋 啓次
アネルバ(株)開発研究所
-
細川 直吉
アネルバ(株)開発研究所
-
米内山 誠吾
東京理科大学工学部
-
長谷川 秀雄
防衛大学校電気工学科
著作論文
- 高密度プラズマを用いた化学蒸着(CVD)法によるチタン系薄膜の作製と評価
- CVD-Al薄膜の成長過程とその下地依存性 : 堆積膜表面からの反射光強度のモニタ
- 低圧および低温のMO-CVD法によるTiN薄膜の作製
- ハイテクを支える真空技術と真空化学(話題を探る)
- マグネトロン・スパッタ・ターゲットの***ージョン・レート分布の数値シミュレーション
- マルチターゲットスパッタ法による Pb(Zr,Ti)O_3 強誘電体薄膜の作製とその評価
- 定量的解析手法によるITOスパッタ時の酸素添加メカニズムの研究
- 多元同時スパッタリング法によるY_1Ba_2Cu_3O_y薄膜の作製
- 高真空平板マグネトロン放電の開発
- 制御電極による2極スパッタの放電々流の制御(I) : 薄膜
- 直流二極スパッタの制御電極による制御
- サマリー・アブストラクト
- 人材開発と科学技術教育 : 企業における技術者育成活動と大学教育への要望
- スパッタリングの歴史と応用
- Gas-Temperature-Controlled CVDによる単結晶Al膜の作成
- 小型ECRイオン源のイオン分析
- マグネトロン・スパッタリングによるアルミニウム薄膜のX線解析
- 超LSI量産用スパッタ装置によるTiN膜の特性
- 高速マグネトロンスパッタリングによる炭素薄膜の作製
- 高速マグネトロンRFスパッタ法によるタンタル薄膜
- 焼結タ-ゲットによるシリサイド・スパッタ膜の特性(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- 2重構造タ-ゲットによるAlスパッタ膜のステップカバレッジ(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)