高密度プラズマを用いた化学蒸着(CVD)法によるチタン系薄膜の作製と評価
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概要
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- 1995-09-20
著者
-
岡田 修
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
-
関口 敦
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
-
関口 敦
日電アネルバ
-
戸部 了己
日電アネルバ株式会社
-
佐々木 雅夫
日電アネルバ株式会社
-
岡田 修
日電アネルバ株式会社
-
細川 直吉
日電アネルバ株式会社
-
細川 直吉
アネルバ株式会社
-
細川 直吉
日電アネルバ研究開発本部
-
佐々木 雅夫
アネルバ株式会社
-
細川 直吉
日電アネルバ
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