Biased Directional Sputtering装置におけるプラズマ特性と金属原子のイオン化率の計測
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概要
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- 2000-03-20
著者
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中川 行人
アネルバ株式会社装置事業部第一製品技術グループ
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中川 行人
アネルバ
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水野 茂
アネルバ株式会社装置事業部第一製品技術グループ
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佐々木 雅夫
アネルバ株式会社
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佐藤 英樹
アネルバ株式会社
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佐藤 誠
アネルバ株式会社装置事業部第一製品技術グループ
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田口 信一郎
アネルバ株式会社
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水野 茂
アネルバ株式会社
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中川 行人
アネルバ株式会社
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