UHFプラズマ源の特性評価およびドライエッチングへの応用
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概要
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φ300mmウェーハの処理を目的とした、UHF(500MHz)プラズマ源を開発し、特性評価を行った。UHF電力の放射には共振周波数を500MHzに設計したスポークアンテナを用いた。プラズマ密度は従来の誘導結合プラズマ源と同程度の高い密度が得られた。電子温度は3eV以下と低く、プラズマ密度分布も良好であった。UHFプラズマ源を用いたシリコン酸化膜のエッチング結果も示す。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-11-01
著者
-
寒川 誠二
日本電気株式会社シリコンシステム研究所
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寒川 誠二
日本電気株式会社 シリコンシステム研究所
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塚田 勉
日電アネルバ株式会社研究開発本部
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中川 行人
アネルバ株式会社装置事業部第一製品技術グループ
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中川 行人
アネルバ
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小出 知昭
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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和仁 悦夫
アネルバ株式会社
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塚田 勉
アネルバ株式会社
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高木 憲一
アネルバ株式会社開発研究所
-
野上 裕
アネルバ株式会社開発研究所
-
塚田 勉
日電アネルバ(株)
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小出 知昭
アネルバ株式会社開発研究所
-
中川 行人
アネルバ株式会社
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