プレーナー型VHF(60MHz)マグネトロンを用いたイオン化スパッタによるCuシード層形成技術の開発
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 60MHzの高周波を用いたマグネトロンスパッタにおけるプラズマ及び成膜特性
- Biased Directional Sputtering装置におけるプラズマ特性と金属原子のイオン化率の計測
- 60MHzの高周波を用いたマグネトロンスパッタにおけるプラズマ及び成膜特性
- PCM (Point Cusp Magnetron) 成膜技術の銅配線プロセスへの応用
- ヘリコンプラズマバイアスCVDにおける層間絶縁膜の埋設特性評価
- プレーナー型VHF(60MHz)マグネトロンを用いたイオン化スパッタによるCuシード層形成技術の開発
- サマリー・アブストラクト