マルチウィンドウ型アンテナを用いた極超短波プラズマ源
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1998-03-20
著者
-
寒川 誠二
日本電気株式会社シリコンシステム研究所
-
寒川 誠二
日本電気株式会社 シリコンシステム研究所
-
塚田 勉
日電アネルバ株式会社研究開発本部
-
中川 行人
アネルバ株式会社装置事業部第一製品技術グループ
-
中川 行人
アネルバ
-
和仁 悦夫
アネルバ株式会社
-
佐藤 久明
アネルバ株式会社
-
塚田 勉
アネルバ株式会社
-
塚田 勉
日電アネルバ(株)
-
中川 行人
アネルバ株式会社
関連論文
- 高周波放電電極上の自己バイアス電位分布の研究
- マルチウィンドウ型アンテナを用いた極超短波プラズマ源
- レーザ誘起蛍光法によるパルスN_2誘導結合プラズマの診断
- 27pA01P 平面ECRプラズマ生成用高効率マイクロ波伝送路(プラズマ基礎・応用)
- 29a-N-1 プローブ特性に対する高周波電位変動の影響
- 60MHzの高周波を用いたマグネトロンスパッタにおけるプラズマ及び成膜特性
- Biased Directional Sputtering装置におけるプラズマ特性と金属原子のイオン化率の計測
- 小型ECRイオン源のイオン分析 (第30回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- 5. UHFプラズマ (プロセス用の新しい高密度プラズマの生成と診断V)
- 3. タイムモジュレーションプラズマによる高精度エッチング (ドライエッチング用プラズマ)
- SiO2 Etching using high density plasma sources
- UHFプラズマ源の特性評価およびドライエッチングへの応用
- 帯状1ループアンテナプラズマ源のプラズマ特性
- 帯状1ループアンテナによる低圧力高密度プラズマの生成
- 地球温暖化PFCガス対策の進捗と展望 : CVDクリーニングRITE Pj成果展開と産学官連携による実用化の展望
- サマリー・アブストラクト
- サマリー・アブストラクト
- ドライエッチング装置における安全対策
- 半導体製造装置からの全フッ素化合物(PFC)排出削減の取組
- 小型ECRイオン源のイオン分析
- 四塩化炭素および四塩化炭素・ヘリウムによるアルミニウム膜の反応性イオンエッチング加工特性
- プラズマプロセス(特にRIEを中心とした)におけるシ-スの問題 (平成3年度理研シンポジウム「プラズマの基礎過程--最近のシ-ス問題」(1991年12月16日開催)特集号)
- 各種ドライエッチング装置と加工特性 : リアクティブイオンエッチング装置と加工特性(半導体素子 : 材料とプロセス技術)