半導体デバイス用バイアス方向性スパッタリングの開発
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- CVD法による垂直配向カーボンナノチューブの成長と磁性薄膜触媒の磁気特性(光記録及び一般)
- CVD法による垂直配向カーボンナノチューブの成長と磁性薄膜触媒の磁気特性
- CVD法による垂直配向カーボンナノチューブの成長と磁性薄膜触媒の磁気特性(光記録及び一般)
- 磁性金属内包カーボンナノチューブの磁気特性
- Biased Directional Sputtering装置におけるプラズマ特性と金属原子のイオン化率の計測
- 半導体デバイス用バイアス方向性スパッタリングの開発
- BDS装置におけるプラズマ密度とスパッタ金属原子のイオン化率の測定
- サマリー・アブストラクト
- カーボンナノチューブへの強磁性金属の内包と磁気特性制御(有機材料,一般)
- カーボンナノチューブへの強磁性金属の内包と磁気特性制御