マグネトロン・スパッタリングによるアルミニウム薄膜のX線解析
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 高密度プラズマを用いた化学蒸着(CVD)法によるチタン系薄膜の作製と評価
- CVD-Al薄膜の成長過程とその下地依存性 : 堆積膜表面からの反射光強度のモニタ
- 低圧および低温のMO-CVD法によるTiN薄膜の作製
- ハイテクを支える真空技術と真空化学(話題を探る)
- マグネトロン・スパッタ・ターゲットの***ージョン・レート分布の数値シミュレーション
- マルチターゲットスパッタ法による Pb(Zr,Ti)O_3 強誘電体薄膜の作製とその評価
- 定量的解析手法によるITOスパッタ時の酸素添加メカニズムの研究
- 多元同時スパッタリング法によるY_1Ba_2Cu_3O_y薄膜の作製
- 高真空平板マグネトロン放電の開発
- 制御電極による2極スパッタの放電々流の制御(I) : 薄膜
- 直流二極スパッタの制御電極による制御
- サマリー・アブストラクト
- アブストラクト
- 人材開発と科学技術教育 : 企業における技術者育成活動と大学教育への要望
- スパッタリングの歴史と応用
- Gas-Temperature-Controlled CVDによる単結晶Al膜の作成
- 焼結ターゲットによるシリサイド・スパッタ膜の特性 (II)
- 小型ECRイオン源のイオン分析
- マグネトロン・スパッタリングによるアルミニウム薄膜のX線解析
- 超LSI量産用スパッタ装置によるTiN膜の特性
- 高速マグネトロンスパッタリングによる炭素薄膜の作製
- 高速マグネトロンRFスパッタ法によるタンタル薄膜
- 焼結タ-ゲットによるシリサイド・スパッタ膜の特性(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- 2重構造タ-ゲットによるAlスパッタ膜のステップカバレッジ(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)