細川 直吉 | アネルバ株式会社
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概要
関連著者
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細川 直吉
日電アネルバ株式会社
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細川 直吉
アネルバ株式会社
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細川 直吉
日電アネルバ
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細川 直吉
日電アネルバ研究開発本部
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岡田 修
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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麻蒔 立男
東京理科大学工学部電気工学科
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麻蒔 立男
東京理科大学工学部・電気工学科
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関口 敦
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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関口 敦
日電アネルバ
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岡田 修
日電アネルバ株式会社
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石橋 啓次
キヤノンアネルバ株式会社 エレクトロンデバイス装置事業部
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平田 和男
日電アネルバ(株)
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石橋 啓次
日電アネルバ(株)
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小林 司
日電アネルバ
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宮坂 洋一
NEC基礎研究所
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麻蒔 立男
東京理科大学・工学部
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宮坂 洋一
NEC 基礎研究所
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小林 司
アネルバ(株)プロセス開発研究所
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麻蒔 立男
日電バリアン(株)
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長谷 卓
NEC基礎研究所
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岸田 俊二
日本電気株式会社
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小林 明子
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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新澤 勉
日本電気株式会社
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菅井 和己
日本電気株式会社
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小林 明子
日電アネルバ株式会社
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岡林 秀和
日本電気株式会社
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八子 忠明
住友化学工業株式会社
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三浦 勉
東京理科大学工学部電気工学科
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戸部 了己
日電アネルバ株式会社
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佐々木 雅夫
日電アネルバ株式会社
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門倉 秀公
住友化学工業株式会社
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金 瑞元
日電アネルバ(株)
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神馬 仁志
日電アネルバ(株)
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佐々木 雅夫
アネルバ株式会社
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板垣 克則
日電アネルバ研究開発本部
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内山 智雄
日電アネルバ研究開発本部
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塩川 善郎
アトムテクノロジー研究体
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岸田 俊二
日本電気(株)材料部品分析評価センター
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宮坂 洋一
Nec 基礎研
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佐久間 敏幸
日本電気(株)
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長谷 卓
NEC 基礎研究所
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佐久間 敏幸
NEC 基礎研究所
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塩川 善郎
アネルバ(株)開発研究所 JRCAT(アトムテクノロジー研究体)
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石橋 啓次
アネルバ(株)開発研究所
-
細川 直吉
アネルバ(株)開発研究所
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米内山 誠吾
東京理科大学工学部
-
竹谷 道生
日電バリアン(株)
-
伊野 洋一
アネルバ株式会社
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中村 言
東京理科大学工学部
-
保立 浩一
東京理科大学工学部
-
細川 直吉
日電バリアン(株)
-
北原 洋明
日電アネルバ株式会社
-
福島 志郎
日電アネルバ株式会社
-
水田 高之
日本電気株式会社
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麻蒔 立男
日電バリアン (株)
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石橋 啓次
アネルバ(株)プロセス開発研究所
著作論文
- 高密度プラズマを用いた化学蒸着(CVD)法によるチタン系薄膜の作製と評価
- CVD-Al薄膜の成長過程とその下地依存性 : 堆積膜表面からの反射光強度のモニタ
- 低圧および低温のMO-CVD法によるTiN薄膜の作製
- ハイテクを支える真空技術と真空化学(話題を探る)
- マグネトロン・スパッタ・ターゲットの***ージョン・レート分布の数値シミュレーション
- マルチターゲットスパッタ法による Pb(Zr,Ti)O_3 強誘電体薄膜の作製とその評価
- 定量的解析手法によるITOスパッタ時の酸素添加メカニズムの研究
- 多元同時スパッタリング法によるY_1Ba_2Cu_3O_y薄膜の作製
- 高真空平板マグネトロン放電の開発
- 制御電極による2極スパッタの放電々流の制御(I) : 薄膜
- 直流二極スパッタの制御電極による制御
- 人材開発と科学技術教育 : 企業における技術者育成活動と大学教育への要望
- スパッタリングの歴史と応用
- マグネトロン・スパッタリングによるアルミニウム薄膜のX線解析
- 高速マグネトロンRFスパッタ法によるタンタル薄膜