細川 直吉 | 日電アネルバ研究開発本部
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概要
関連著者
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細川 直吉
日電アネルバ研究開発本部
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細川 直吉
日電アネルバ株式会社
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細川 直吉
アネルバ株式会社
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細川 直吉
日電アネルバ
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岡田 修
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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関口 敦
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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関口 敦
日電アネルバ
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岡田 修
日電アネルバ株式会社
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小林 司
日電アネルバ
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小林 司
アネルバ(株)プロセス開発研究所
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麻蒔 立男
東京理科大学工学部電気工学科
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麻蒔 立男
東京理科大学工学部・電気工学科
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麻蒔 立男
日電バリアン(株)
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岸田 俊二
日本電気株式会社
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小林 明子
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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新澤 勉
日本電気株式会社
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菅井 和己
日本電気株式会社
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小林 明子
日電アネルバ株式会社
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岡林 秀和
日本電気株式会社
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八子 忠明
住友化学工業株式会社
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戸部 了己
日電アネルバ株式会社
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佐々木 雅夫
日電アネルバ株式会社
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門倉 秀公
住友化学工業株式会社
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佐々木 雅夫
アネルバ株式会社
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板垣 克則
日電アネルバ研究開発本部
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内山 智雄
日電アネルバ研究開発本部
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岸田 俊二
日本電気(株)材料部品分析評価センター
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竹谷 道生
日電バリアン(株)
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細川 直吉
日電バリアン(株)
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吉原 秀一
日電アネルバ株式会社
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北原 洋明
日電アネルバ株式会社
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麻蒔 立男
日電バリアン (株)
著作論文
- 高密度プラズマを用いた化学蒸着(CVD)法によるチタン系薄膜の作製と評価
- CVD-Al薄膜の成長過程とその下地依存性 : 堆積膜表面からの反射光強度のモニタ
- ハイテクを支える真空技術と真空化学(話題を探る)
- マグネトロン・スパッタ・ターゲットの***ージョン・レート分布の数値シミュレーション
- 制御電極による2極スパッタの放電々流の制御(I) : 薄膜
- 焼結タ-ゲットによるシリサイド・スパッタ膜の特性(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- 焼結タ-ゲットによるシリサイド・スパッタ膜の特性(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)