低圧および低温のMO-CVD法によるTiN薄膜の作製
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概要
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- 1995-05-25
著者
-
岡田 修
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
-
関口 敦
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
-
関口 敦
日電アネルバ
-
岡田 修
日電アネルバ株式会社
-
細川 直吉
日電アネルバ株式会社
-
金 瑞元
日電アネルバ(株)
-
神馬 仁志
日電アネルバ(株)
-
細川 直吉
アネルバ株式会社
-
細川 直吉
日電アネルバ
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