TDEATを用いたMOCVD-TiN膜の段差被覆性に与えるNH3添加効果
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概要
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- 1999-06-10
著者
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関口 敦
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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鈴木 薫
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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肖 石琴
アネルバ株式会社プロセス開発研究所
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戸部 了己
アネルバ(株)
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関口 敦
アネルバ(株)
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肖 石琴
アネルバ(株)
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徐 暁斌
アネルバ(株)
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鈴木 薫
アネルバ(株)
-
土井 浩志
アネルバ(株)
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