高速マグネトロンスパッタリングによる炭素薄膜の作製
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概要
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基板の種類により炭素膜は, 煤状になったり平滑状になったりすることがわかった.これは基板下地の単なる平滑性の影響なのか, 材質的影響なのか判明できていない.<BR>スパッタ炭素膜の自然剥離は膜に比較的大きな圧縮応力が生ずる為であるように思われる.自然剥離の進行状況は森崎等の報告と酷似している.高圧下でスパッタを行うと, ターゲットで反跳されるアルゴン原子が基板をより低エネルギーで衝撃する為に, 内部応力の発生が抑制され, 付着力の強い膜が得られる思われる.<BR>尚トカマク炉に炭素スパッタリングを用いる場合には, 作製された膜とブナズマの関係及び装置の配置等をさらに検討する必要がある.
- 日本真空協会の論文
著者
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細川 直吉
日電アネルバ株式会社
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平塚 一
日本原子力研究所那珂研究所
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安納 勝人
日本原子力研究所
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小西 暁夫
日電アネルバ株式会社
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細川 直吉
日電アネルバ
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平塚 一
日本原子力研究所東海研究所
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安納 勝人
日本原子力研究所東海研究所
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