中村 茂昭 | 高松工業高等専門学校
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概要
関連著者
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宮崎大学
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徳島文理大工
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(株)アルバック・コーポレートセンター
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室蘭工業大学大学院工学研究科
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大阪府立産業技術総合研究所
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大阪大学産業科学研究所
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大阪大学大学院基礎工学研究科
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鈴木 一弘
川崎製鉄(株)技術研究所
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高橋 夏木
日本真空技術(株)産業機器事業部
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大久保 治
日本真空技術(株)産業機器事業部
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岡本 良雄
(株)日立製作所機械研究所
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村上 寛
電子技術総合研究所
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京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
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佐藤 義幸
大阪工業技術研究所
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日比野 豊
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加藤 正明
群馬工業高等専門学校
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岡野 寛
高松工業高等専門学校一般教育科
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道園 真一郎
高エネルギー加速器研究機構
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徐 國春
(株)イオン工学研究所
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今西 幸男
奈良先端科学技術大学院大学
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鈴木 泰雄
(株)イオン工学研究所
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田畑 仁
大阪大学産業科学研究所
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小川 倉一
大阪府立産業技術総合研究所
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棚橋 克人
大阪府立大学先端科学研究所
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吉竹 正明
大阪府立産業技術総合研究所
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野坂 俊紀
大阪府立産業技術総合研究所
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辻 泰
(株)アルバック・コーポレートセンター
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秋道 斉
(株)アルバック・コーポレートセンター
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田中 智成
(株)アルバック・コーポレトーセンター
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谷原 正夫
(株)イオン工学研究所
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横山 哲志
玉川大学工学部
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酒井 創
福島女子短期大学
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大越 康宏
福島女子短期大学
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小池 卓郎
玉川大学工学部
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後藤 康仁
京都大学大学院工学研究科
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持地 広造
科学技術振興事業団さきがけ研究21
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一村 信吾
電子技術総合研究所
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大手 丈夫
群馬工業高等専門学校
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杉山 渉
秋田大学工学資源学部
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鈴木 晶雄
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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松下 辰彦
大阪産業大学工学部電子情報通信工学科
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本島 修
核融合科学研究所
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田中 俊一郎
科学技術振興事業団 田中固体融合プロジェクト
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山内 大輔
横浜国立大学工学部知能物理工学科
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豊田 政男
大阪大学大学院
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金子 英司
東洋大学工学部
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井上 幸二
大阪府立産業技術総合研究所
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加藤 茂樹
高エネルギー加速器研究機構
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草野 英二
金沢工業大学
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久保 和也
北海道大学工学部
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鈴木 晶雄
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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坂本 吉亮
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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和田 直己
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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奥田 昌宏
大阪府立大学工学部電子物理工学科
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松下 辰彦
大阪産業大学工学部電気電子工学科
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藤村 喜久郎
鳥取大学工学部
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斎藤 和雄
名古屋工業技術研究所
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筧 芳治
大阪府立産業技術総合研究所
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水谷 五郎
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
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鈴木 芳生
日立製作所中央研究所
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清水 肇
電子技術総合研究所
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小林 康宏
川崎製鉄(株)技術研究所
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四谷 任
(財)大阪科学技術センター
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柴田 明
福井工業高等専門学校
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畑村 洋太郎
東京大学工学部
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笠原 章
金属材料技術研究所
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吉原 一紘
金属材料技術研究所
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嘉藤 誠
日本電子株式会社
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境 悠治
日本電子株式会社
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木内 正人
大阪大学大学院工学研究科原子分子イオン制御理工学センター
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高草木 達
東京大学大学院理学系化学専攻
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豊田 政男
大阪大学 工学部
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辻 博司
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
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小林 哲彦
大阪工業技術研究所
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安藤 昌儀
大阪工業技術研究所
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広畑 優子
北海道大学大学院工学研究科
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加地 博子
岡山理科大学工学部
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吹田 義一
高松工業高等専門学校
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上田 新次郎
株式会社日立製作所機械研究所
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石川 雄一
株式会社日立製作所機械研究所
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吉森 昭夫
岡山理科大学
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斎藤 一也
日本真空技術株式会社
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土佐 正弘
金属材料技術研究所
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関根 重幸
電子技術総合研究所
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本間 芳和
NTT基礎技術総合研究所
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佐藤 幸恵
日本真空技術(株)筑波超材研
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梅咲 則正
大阪工業技術研究所光機能材料部
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黒河内 智
理化学研究所
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渡部 秀
理化学研究所
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本間 禎一
千葉工業大学工学部
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赤石 憲也
核融合科学研究所
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木内 正人
大阪工業技術研究所
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美本 和彦
大阪大学大学院工学研究科超高温理工学研究施設
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松本 貴士
大阪大学大学院工学研究科超高温理工学研究施設
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岩澤 康裕
東京大学大学院理学研究科
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小島 昭
群馬工業高等専門学校
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戸坂 亜希
学習院大学理学部
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五十嵐 慎一
学習院大学理学部
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平山 孝人
学習院大学理学部
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神戸 美雪
学習院大学理学部
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阿部 雪子
学習院大学理学部
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入江 泰雄
学習院大学理学部
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西岡 泰城
テキサスインスツルメント筑波研究開発センター
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佐藤 吉博
高エネルギー加速器研究機構
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佐久間 泰
ダイゴールド株式会社
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加藤 隆男
株式会社荏原総合研究所精密電子研究所
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高木 祥示
東邦大学理学部
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吉信 達夫
大阪大学産業科学研究所
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岩崎 裕
大阪大学産業科学研究所
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柿原 和久
高エネルギー加速器研究機構
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松尾 二郎
京都大学工学研究科附属量子理工学研究実験センター
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関口 敦
日電アネルバ
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久保田 雄輔
核融合科学研究所
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石川 一政
千葉工業大学精密機械工学科
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斉藤 芳男
高エネルギー物理学研究所
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永井 康睦
日立電線(株)システムマテリアル研究所
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菊地 直人
金沢工業大学AMS R&D C
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北河 勝
金沢工業大学 高度材料科学研究開発センター
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佐藤 彰繁
金沢工業大学 高度材料科学研究開発センター
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岡野 寛
高松工業高等専門学校
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須崎 嘉文
香川大学工学部
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板倉 明子
金属材料技術研究所
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清水 達夫
テキサスインスツルメント筑波研究開発センター
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市川 昌和
アトムテクノロジー研究体
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大谷 和男
大阪工業技術研究所
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中川 行人
日電アネルバ株式会社研究開発本部
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奥野 和彦
東京都立大学理学部
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奥野 和彦
東京都立大学
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清水 宏
電気通信大学
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後藤 哲二
東邦大学理学部
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芳井 熊安
大阪大学大学院工学研究科
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大塚 康二
サンケン電気
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田中 武
広島工業大学
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矢部 勝昌
北海道工業技術研究所
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山口 十六夫
静大電子研
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久保 富夫
高エネルギー加速器研究機構
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京都大学工学部附属イオン工学実験施設
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平野 俊雄
高松工業高等専門学校
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川畑 敬志
広島工業大学
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安本 正人
大阪工業技術研究所
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中野 博彦
(株)サムコインターナショナル研究所
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立田 利明
(株)サムコインターナショナル研究所
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南戸 秀仁
金沢工業大学
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沖村 邦雄
東海大学電子工学科
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福田 茂樹
高エネルギー加速器研究機構
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穴見 昌三
高エネルギー物理学研究所
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林 和孝
三菱電機通信機製作所
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桜井 誠
分子科学研究所
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吹田 義一
高松工業高等専門学校制御情報工学科
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井上 成美
防衛大学校
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柏原 茂
防衛大学校
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尾崎 立哉
防衛大学校
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戸嶋 成忠
防衛大学校
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吉田 貞史
電子技術総合研究所
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浅野 清光
高エネルギー加速器研究機構
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阿川 義昭
日本真空技術(株)
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工藤 勲
電子技術総合研究所
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小林 信一
埼玉大学
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安達 俊
学習院大学理学部
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見附 孝一郎
分子科学研究所
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日置 亜也子
大阪府立産業技術総合研究所
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柿原 和久
高エネルギー物理学研究所
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山口 良隆
東京大学大学院理学系化学専攻
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吉川 貴文
大阪大学大学院工学研究科超高温理工学研究施設
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三谷 英機
阿南工業高等専門学校
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高橋 直樹
日本真空技術(株)
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荒井 孝夫
(株)アルバック・コーポレトーセンター
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浜松 諭子
学習院大学理学部
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菊池 通真
大阪府立大学先端科学研究所
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橋場 正男
北海道大学工学部
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山科 俊郎
北海道大学工学部
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潮田 資勝
北陸先端科学技術大学院大学
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池田 省三
金属材料技術研究所
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蟹江 壽
東京理科大学
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魚田 雅彦
高エネルギー加速器研究機構
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宮崎 俊彦
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
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広畑 優子
北海道大学工学部
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小原 宏之
玉川大学工学部
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中島 秀文
玉川大学工学部
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田中 英樹
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
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脇本 裕之
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
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戸部 了己
日電アネルバ株式会社
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佐々木 雅夫
日電アネルバ株式会社
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岡田 修
日電アネルバ株式会社
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細川 直吉
日電アネルバ株式会社
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板橋 直志
日立製作所中央研究所
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小林 信夫
東京都立大学理学部
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稲吉 さかえ
日本真空技術(株)筑波超材料研究所
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三沢 俊司
日本真空技術(株)筑波超材料研究所
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永関 一也
山梨大学工学部
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楠 秀樹
山梨大学工学部
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斉藤 幸典
山梨大学工学部
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菅ノ又 伸治
山梨大学工学部
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朝倉 清高
東京大学大学院理学研究科
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石川 稜威男
山梨大学工学部
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川辺 秀昭
大阪大学工学部
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伊佐 弘
大阪工業大学
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茶谷原 昭義
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阪口 享
大阪工業技術研究所
著作論文
- 蒸着薄膜および電着メッキ層の残留応力解析
- 二酸化炭素とメタンを用いたマグネトロンスパッタ法によって作製した a-SiC:O:H 薄膜の特性
- スパッタ法によるアモルファスGeCO:H薄膜
- 基準振動による炭化ケイ素膜の構造解析
- 反応性スパッタ法による酸素添加a-GeC : H薄膜
- プラズマ化学気相成長法によるB(C,N)薄膜の機械的強度
- Co-sputter法によるGe添加a-Si_xC_y:H薄膜の特性
- プラズマ化学気相成長法による窒素添加a-SiGe:H膜
- Fabrication and Mechanical Properties of Boron-Carbon-Nitrogen Film by Chemical Vapour Deposition
- 高周波プラズマ反応蒸着によるGeSe_2 : H薄膜の電気・光学特性
- 高周波プラズマ活性化蒸着によるGeSe^2:H薄膜の電気・光学特性-高周波電力依存性-
- 高周波プラズマ活性化蒸着によるGeSe_2:H薄膜の電気・光学特性
- アンモニアとメタンを用いたマグネトロンスパッタ法によって作製したa-SiC:N:H薄膜の特性
- 電子ビーム蒸着によるGeSe:Bi_x薄膜の電気・光学特性
- スパッタ法により作製したa-Si/a-SiC超格子薄膜の構造
- 高周波スパッタ法によるゲルマニウム-炭素系非晶質薄膜
- 反応性プラズマアシスト蒸着による a-Ge_Se_x:H 薄膜の電気的光学的特性
- PREPARATION AND MECHANICAL CHARACTERIZATION OF B(C,N) COATING ON GRAPHITE BYCHEMICAL VAPOR DEPOSITION
- 高周波プラズマ支援蒸着による水素添加ゲルマニウム : セレン系薄膜の光学的電気的特性
- 窒素微量添加によるP-CVD a-SiC:H膜の光導電率の改善
- 高真空蒸着によるGe_1_-_xSe_x薄膜の作成と電気的光学的特性
- イオンビームスパッタリング法によるITO薄膜の低温成膜におけるイオンビーム照射効果
- 電子ビーム蒸着法によるニオブ酸カリウム薄膜の作製
- サマリー・アブストラクト
- サマリー・アブストラクト
- 電子ビーム蒸着法によるニオブ酸カリウム薄膜の作製