アンモニアとメタンを用いたマグネトロンスパッタ法によって作製したa-SiC:N:H薄膜の特性
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概要
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- 1995-09-20
著者
-
斎藤 順雄
宮崎大学
-
吉岡 捷爾
香川大学
-
中村 茂昭
高松工業高等専門学校
-
斎藤 順雄
高松工専
-
仲秋 勇
静岡県静岡工業技術センタ
-
山口 十六夫
静岡大学
-
中村 茂昭
高松工専
-
吉岡 捷爾
高松工専
-
齋藤 順雄
高松工業高等専門学校
-
仲秋 勇
静岡県工業技術センター
-
後藤 智弘
静岡大学電子工学研究所
-
山口 十六夫
静岡大学電子工学研究所
-
山口 十六夫
静岡大 電子工研
-
中村 茂昭[他]
高松工専
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