中村 茂昭[他] | 高松工専
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概要
関連著者
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中村 茂昭
高松工業高等専門学校
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中村 茂昭[他]
高松工専
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吉岡 捷爾
香川大学
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吉岡 捷爾
高松工業高等専門学校電気工学科
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仲秋 勇
静岡県静岡工業技術センタ
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吉岡 捷爾
高松工業高等専門学校
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斎藤 順雄
宮崎大学
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齋藤 順雄
高松工業高等専門学校
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斎藤 順雄
高松工業高等専門学校
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山口 十六夫
静岡大学
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山口 十六夫
静岡大 電子工研
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斎藤 順雄
高松工専
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仲秋 勇
静岡県富士工業技術センタ
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中村 茂昭
高松工専
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仲秋 勇
静岡県工業技術センター
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仲秋 勇
静岡県富士工技センタ
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辻村 瑛
徳島文理大工
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岩田 弘
香川高等専門学校機械工学科
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岩田 弘
香川県工技センタ
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吉岡 捷爾
高松工専
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辻村 瑛
徳島文理大学
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山口 十六夫
静岡大学電子工学研究所
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斎藤 順雄
静岡大学電子工学研究所
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中村 茂昭[他]
高松工業高等専門学校一般教育科
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長谷川 弘治
室蘭工業大学大学院工学研究科
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岡野 寛
高松工業高等専門学校一般教育科
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岡野 寛
高松工業高等専門学校
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山口 十六夫
静大電子研
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長谷川 弘治
室蘭工業大学
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中村 茂明
高松工業高等専門学校
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仲秋 勇
浜松技能開発専門校
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後藤 智弘
静岡大学電子工学研究所
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中村 茂明
高松工専
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乾 靖彦
静岡大学電子工学研究所
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長谷川 弘治
室蘭工業大学 電気電子工学科
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岡田 光孝
高松工業高等専門学校
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宮脇 巧磨
高松工業高等専門学校
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長谷川 弘治
室蘭工大
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乾 靖彦
静岡大学工学部
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斎藤 順雄[他]
高松工業高等専門学校電気工学科
著作論文
- 二酸化炭素とメタンを用いたマグネトロンスパッタ法によって作製した a-SiC:O:H 薄膜の特性
- スパッタ法によるアモルファスGeCO:H薄膜
- 基準振動による炭化ケイ素膜の構造解析
- 反応性スパッタ法による酸素添加a-GeC : H薄膜
- プラズマ化学気相成長法によるB(C,N)薄膜の機械的強度
- Co-sputter法によるGe添加a-Si_xC_y:H薄膜の特性
- プラズマ化学気相成長法による窒素添加a-SiGe:H膜
- Fabrication and Mechanical Properties of Boron-Carbon-Nitrogen Film by Chemical Vapour Deposition
- 高周波プラズマ反応蒸着によるGeSe_2 : H薄膜の電気・光学特性
- 高周波プラズマ活性化蒸着によるGeSe^2:H薄膜の電気・光学特性-高周波電力依存性-
- 高周波プラズマ活性化蒸着によるGeSe_2:H薄膜の電気・光学特性
- アンモニアとメタンを用いたマグネトロンスパッタ法によって作製したa-SiC:N:H薄膜の特性
- 電子ビーム蒸着によるGeSe:Bi_x薄膜の電気・光学特性
- 高周波スパッタ法によるゲルマニウム-炭素系非晶質薄膜
- 反応性プラズマアシスト蒸着による a-Ge_Se_x:H 薄膜の電気的光学的特性
- PREPARATION AND MECHANICAL CHARACTERIZATION OF B(C,N) COATING ON GRAPHITE BYCHEMICAL VAPOR DEPOSITION
- 高周波プラズマ支援蒸着による水素添加ゲルマニウム : セレン系薄膜の光学的電気的特性
- 窒素微量添加によるP-CVD a-SiC:H膜の光導電率の改善
- 高真空蒸着によるGe_1_-_xSe_x薄膜の作成と電気的光学的特性
- 電子ビーム蒸着法によるニオブ酸カリウム薄膜の作製