窒素微量添加によるP-CVD a-SiC:H膜の光導電率の改善
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概要
著者
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吉岡 捷爾
香川大学
-
吉岡 捷爾
高松工業高等専門学校電気工学科
-
中村 茂昭
高松工業高等専門学校
-
仲秋 勇
静岡県静岡工業技術センタ
-
斎藤 順雄
静岡大学電子工学研究所
-
乾 靖彦
静岡大学電子工学研究所
-
乾 靖彦
静岡大学工学部
-
中村 茂昭[他]
高松工専
-
吉岡 捷爾
高松工業高等専門学校
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