Co-sputter法によるAl及びIn添加a-SiC:H薄膜の作製と光学的特性
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概要
著者
-
斉藤 順雄
高松工専
-
山口 十六夫
静岡大学
-
乾 靖彦
静大電子研
-
冨岡 雄吾
新日本製鉄株式会社中央研究本部エレクトロニクス研究所
-
河村 和彦
静岡理工科大学電子工学科
-
山口 十六夫
静岡大 電子工研
-
乾 靖彦
静岡大学工学部
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