a-Si_1-xC_x:H薄膜のXPS,ESRによる評価
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概要
著者
-
鈴木 佳子
静岡大学電子工学研究所
-
鈴木 佳子
静大
-
中村 高遠
静岡大学工学部
-
島岡 五朗
The University of New South Wales
-
斉藤 順雄
高松工専
-
Nakamura Toshihiko
Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology
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