(NH4)2Sx処理GaP(001),(111)A,(111)B表面の高分解能X線光電子分光(XPS)による研究
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概要
著者
-
安田 安生
静岡大学電子工学研究所
-
福田 安生
静岡大学電子工学研究所
-
福田 安生
静岡大学電子科学研究科
-
眞田 則明
静岡大学電子工学研究所
-
鈴木 佳子
静岡大学電子工学研究所
-
大澤 隆雄
セイコー電子工業(株)
-
佐々木 澄夫
セイコー電子工業(株)
-
福田 安生
日本鋼管(株)中央研究所
-
鈴木 佳子
静大
-
大澤 隆雄
東工大原子炉
-
大沢 隆雄
東工大原子炉
-
大澤 隆雄
(株)第二精工舎
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