眞田 則明 | 静岡大学電子工学研究所
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概要
関連著者
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眞田 則明
静岡大学電子工学研究所
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福田 安生
静岡大学電子工学研究所
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鈴木 佳子
静岡大学電子工学研究所
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安田 安生
静岡大学電子工学研究所
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福田 安生
静岡大学電子科学研究科
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福田 安生
日本鋼管(株)中央研究所
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鈴木 佳子
静大
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大澤 隆雄
セイコー電子工業(株)
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佐々木 澄夫
セイコー電子工業(株)
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福田 安生
静岡大 電子工研
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大澤 隆雄
東工大原子炉
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大沢 隆雄
東工大原子炉
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大澤 隆雄
(株)第二精工舎
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熊野 裕司
静岡大学電子工学研究所
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市川 祐永
静岡大 電子工研
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虻川 匡司
東北大多元研
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虻川 匡司
東北大学多元物質科学研究所
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市川 祐永
鋼管計測(株)
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下村 勝
東北大学科学計測研究所
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虻川 匡司
東北大学科学計測研究所
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河野 省三
東北大学科学計測研究所
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河野 省三
東北大科研
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河野 省三
東北大多元研
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下村 勝
静岡大電子研
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市川 祐永
静岡大学大学院電子科学研究科・鋼管計測株式会社 分析センター
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河野 省三
東北大・理
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竹内 彰矢
静岡大学電子工学研究所
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村田 純一
静岡大学電子工学研究所
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河野 省三
東北大
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友田 和一
静岡大学地域共同研究センター
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友田 和一
地域共同研究センター
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金田 源太
静岡大学電子科学研究科
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下村 勝
静岡大 大学院電子科学研究科
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眞田 則明[他]
静岡大学電子工学研究所
著作論文
- (NH_4)_2S_x溶液処理したInAs(lll)表面の研究
- (NH_4)_2S_x処理したInAs(111)A-(2×2)-S表面の構造解析
- 高分解能X線光電子分光(XPS)による(NH4)2Sx処理GaAs(001),(111)A,(111)B表面の研究
- (NH4)2Sx処理GaP(001),(111)A,(111)B表面の高分解能X線光電子分光(XPS)による研究
- 27a-PB-2 ターシャリブチルホスフィン(TBP)のSi(001)上での分解機構の研究
- 高分解能X線光電子分光(XPS)による(NH_4)_2S_x処理GaAs(001),(111)A,(111)B表面の研究
- (NH_4)_2S_x処理GaP(001),(111)A,(111)B表面の高分解能X線光電子分光(XPS)による研究
- 窒素イオンビームによるInAs(001)表面の窒化
- 窒素イオンビームによるInP(001)表面の窒化
- 高分解能電子エネルギー損失分光器(HREELS)の作製とトリメチルホスフィンのSi(111)表面での分解過程への応用