17aD01 大気圧ハライド気相成長法によるYSZ(111)基板上へのδ-Bi_2O_3薄膜の作製(結晶成長基礎(1),第35回結晶成長国内会議)
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概要
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Thin films of δ-Bi_2O_3 were prepared on yttria-stabilized zirconia (111) substrate by means of chemical vapour deposition under atmospheric pressure. X-ray diffraction measurement revealed the deposited δ-Bi_2O_3 films have good crystal quality and a flat surface. The full width at half maximum value of out-of-plane rocking curve is 0.0387deg.
- 日本結晶成長学会の論文
- 2005-08-17
著者
-
中村 高遠
静岡大学工学部
-
伊藤 節郎
旭硝子中研
-
高橋 直行
静大院理工
-
Nakamura T
Hokkaido Univ. Sapporo Jpn
-
竹山 知陽
Graduate School of Science and Technology, Shizuoka University
-
竹山 知陽
静大院理工
-
中村 高遠
静大院理工
-
Nakamura Tomohiko
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Nakamura T
Tokyo Metropolitan Univ. Tokyo Jpn
-
Nakamura T
Sumitomo Electric Industries Ltd.
-
Nakamura Tomoyuki
Fine Chemicals And Polymers Research Laboratory Nof Corporation
-
Nakamura Takatou
Department Of Electronics Faculty Of Engineering Shizuoka University
-
Nakamura Takuya
The Faculty Of Engineering Saitama University
-
Nakamura Tetsuro
Materials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology
-
Nakamura Tetsuro
School Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology
-
Nakamura Tetsuro
Department Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology
-
Nakamura Toshihiko
Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology
-
Nakamura T
Hokkaido Univ. Sapporo
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