Nakamura Takuya | The Faculty Of Engineering Saitama University

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概要

• 同名の論文著者
• The Faculty Of Engineering Saitama Universityの論文著者

関連著者

• Nakamura Tomohiko

  The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University

• Nakamura T

  Hokkaido Univ. Sapporo Jpn

• 中村 高遠

  静大院理工

• Nakamura Tomoyuki

  Fine Chemicals And Polymers Research Laboratory Nof Corporation

• 中村 高遠

  静岡大学工学部

• Nakamura T

  Sumitomo Electric Industries Ltd.

• Nakamura Takatou

  Department Of Electronics Faculty Of Engineering Shizuoka University

• 中西 洋一郎

  静岡大学電子工学研究所

• 畑中 義式

  静岡大学電子工学研究所

• Nakamura T

  Tokyo Metropolitan Univ. Tokyo Jpn

• 小南 裕子

  静岡大学電子工学研究所

• 青木 徹

  静岡大学電子工学研究所

• 堀河 敬司

  静岡大学電子工学研究所

• 東 直人

  静岡大学工学部

• 東 直人

  静岡大学地域共同研究センター

• 高橋 直行

  静大院理工

• 橘 邦英

  愛媛大学大学院工学研究科電子情報工学専攻

• Tachibana Kunihide

  Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University

• Nakamura Toshihiro

  Departments of Cardiology, National Hospital Organization Kyushu Medical Center

• Nakamura T

  Kyoto Univ. Kyoto Jpn

• MOMOSE Shun

  Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University

• 橘 邦英

  京都工繊大工芸

• Izumi Naoki

  Process Technology Div. Ulsi R&d Headquarters Rohm Co. Ltd.

• Nakamura T

  Waseda Univ. Tokyo Jpn

• 中村 高遠

  静岡大学 電子工学研究所・工学部

• 青木 徹

  静岡大学 電子工学研究所

• 高橋 直行

  静岡大学工学部物質工学科

• 竹山 知陽

  Graduate School of Science and Technology, Shizuoka University

• 竹山 知陽

  静大院理工

• 中村 龍史

  阪大

• 中西 洋一郎

  静岡大学 電子科学研究科

• 畑中 義式

  静岡大学 電子科学研究科

• 貝谷 和彦

  静岡大学工学部物質工学科

• NAKAMURA Terutaro

  The Institute for Solid State Physics,Tokyo University

• Nakamura T

  National Defense Acad. Kanagawa Jpn

• NIKI Toshikazu

  Ishikawa Seisakusho, Ltd.

• AKUTAGAWA Tomoyuki

  Research Institute for Electronic Science, Hokkaido University

• NAKAMURA Takayoshi

  Research Institute for Electronic Science, Hokkaido University

• 貝谷 和彦

  静岡大学工学部

• 畑中 義式

  愛知工科大学

• 小南 裕子

  静岡大学 電子工学研究所

• Nakamura Takashi

  Rohm Co. Ltd.

• 中村 龍史

  Department Of Applied Physics Waseda University

• TOMITA Hirofumi

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• Kottaisamy M.

  静岡大学電子工学研究所

• 立岡 浩一

  静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部

• 三宅 亜紀

  静岡大学電子科学研究科

• 稲田 紘

  兵庫県大 大学院応用情報科学研究科

• 桑原 弘

  静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部

• NAKAMURA Takato

  Faculty of Engineering, Shizuoka University

• Komiya S

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• Komiya Satoshi

  Fujitsu Laboratories Lid.

• Nakamura Takato

  Faculty Of Engineering Shizuoka University

• Hasegawa Toshihide

  Department Of Applied Chemistry Graduate School Of Engineering Osaka Prefecture University

• 堀河 敬司

  静岡大学 電子工学研究所

• Inada Hiroshi

  Sumitomo Electric Industries Ltd.

• TOMITA Hisashi

  Sony Corporation Research Center

• 小南 裕子

  静岡大学

• 中西 洋一郎

  静岡大学

• 山元 明

  東京工科大学

• OHTANI Shunsuke

  The University of Electro-Communications

• 畑中 義式

  静岡大

• 中西 洋一郎

  静岡大学大学院工学研究科電子工学

• 小南 裕子

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 畑中 義式

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 山元 明

  東京工科大

• 百瀬 与志美

  静大電研

• 百瀬 与志美

  静岡大学電子工学研究所

• Kottaisamy M.

  静岡大学 電子工学研究所

• KAWAI Tomoji

  The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University

• TABATA Hitoshi

  The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University

• 松沢 隆嗣

  根本特殊化学(株)技術開発センター

• 立岡 浩一

  静岡大学工学部

• 桑原 弘

  静岡大学工学部

• 青木 徹

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 伊藤 節郎

  旭硝子中研

• OHTANI Shunsuke

  Institute for Laser Science, The University of Electro-Communications

• 百瀬 与志美

  静岡大学電子工学研究所技術部

• 大道 浩児

  静岡大学工学部物質工学科

• Aoki T

  Research Institute Of Electronics Shizuoka University

• 中西 洋一郎

  静岡大

• Aoki Toru

  Research Institute Of Electronics Shizuoka University

• 上倉 直喜

  静岡大学電子工学研究所

• 中野 文樹

  静岡大学電子工学研究所

• 芝 文広

  静岡大学 電子工学研究所・工学部

• 東 直人

  静岡大学 工学部

• TANAKA Hiroyuki

  The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University

• Azumi R

  National Inst. Of Advanced Industrial Sci. And Technol. (aist) Ibaraki Jpn

• KOMINAMI Hiroko

  Graduate School of Electronic Science and Technology, Shizuoka University

• NAKANISHI Yoichiro

  Graduate School of Electronic Science and Technology, Shizuoka University

• HATANAKA Yoshinori

  Graduate School of Electronic Science and Technology, Shizuoka University

• Arai Takeshi

  The Faculty Of Engineering Saitama University

• Kanno Takashi

  The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University

• Tabata H

  Department Of Bioengineering School Of Engineering University Of Tokyo

• Tabata Hitoshi

  The Institute Of Science And Industrial Research Osaka University

• Christensen Christian

  Department Of Chemistry Odense University

• Kominami H

  Shizuoka Univ. Shizuoka Jpn

• Kominami Hiroko

  Graduate School Of Electronic Science And Technology Shizuoka University

• Nakanishi Yoichiro

  Graduate School Of Electronic Science And Technology Shizuoka University

• Hatanaka Y

  Shizuoka Univ. Hamamatsu Jpn

• Hatanaka Y

  Research Institute Of Electronics

• Hatanaka Y

  Research Institute Of Electronics Shizuoka University

• Hatanaka Yoshinori

  Research Institute Of Electronics Shizuoka University:graduate School Of Electric Science And Techno

• Aoki T

  Department Of Electrical Engineering And Electronics College Of Engineering Osaka Sangyo University

• Okada K

  The Graduate School Of Natural Science And Technology Okayama University

• IIYAMA Michitomo

  Sumitomo Electric Industries, Ltd.

• NAKAMURA Takao

  Basic High-Technology Laboratories, Sumitomo Electric Industries, Ltd.

• INADA Hiroshi

  Basic High-Technology Laboratories, Sumitomo Electric Industries, Ltd.

• IIYAMA Michitomo

  Basic High-Technology Laboratories, Sumitomo Electric Industries, Ltd.

• Kawai Tomoji

  The Institute Of Science And Industrial Research (isir-sanken) Osaka University

• Aoki T

  Department Of Electronics And Information Systems Osaka University

• 成瀬 紀裕

  静岡大学電子工学研究所

• SAHARA Ryusuke

  Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University

• 澤田 和明

  豊橋技術科学大学電気・電子工学系

• 伊藤 節郎

  旭硝子株式会社中央研究所

• AZUMI Reiko

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

• MATSUMOTO Mutsuyoshi

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

• 太田 雅壽

  新潟大学工学部

• 太田 雅壽

  新潟大工

• 山崎 比登志

  岡山大・理

• 太田 雅壽

  新潟大学工学部電気電子工学科

• 太田 雅壽

  新潟大学工学部機能材料工学科

• 中島 宏佳

  静岡大学電子科学研究科

• 伊藤 節郎

  旭硝子(株)中央研究所

• NAKAMURA Takashi

  Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials (IMRAM), Tohoku University

• SUZUKI Seiji

  明海大学歯学部口腔外科学第2講座

• 澤田 和明

  豊橋技術科学大学

• Drozdova Olga

  Institute For Molecular Science

• 曽和 国容

  デンソー工業技術短期大学校

• Yamada H

  Univ. Electro‐communications Tokyo Jpn

• Sugiura K

  Department Of Chemistry Graduate School Of Science Tokyo Metropolitan University

• ITOH Mitsuru

  Materials and Structures Laboratory, Tokyo Institute of Technology

• MOMOSE Yoshimi

  Research Institute of Electronics, Shizuoka University

• Saito G

  Kyoto Univ. Kyoto

• Saito G

  Division Of Chemistry Graduate School Of Science Kyoto University

• Saito Gunzi

  Chemistry Department Kyoto University

• YAMAZAKI Hitoshi

  Department of Physics,Faculty of Science,Okayama University

• 立岡 浩一

  静岡大学 電子科学研究科

• 桑原 弘

  静岡大学 電子科学研究科

• 芝 文広

  静岡大学電子工学研究所

• 中野 文樹

  静岡大学 電子工学研究所・工学部

• 上倉 直喜

  静岡大学 電子工学研究所・工学部

• 武内 麻理子

  静岡大学大学院理工学研究科

• 竹山 知陽

  静岡大学大学院理工学研究科

• 高橋 直行

  Department of Materials Science and Technology, Faculty of Engineering, Shizuoka University

• 中村 高遠

  Department of Materials Science and Technology, Faculty of Engineering, Shizuoka University

• 伊藤 節郎

  Research Center, Asahi Glass Co., Ltd

• Kottaisamy M.

  静岡大学SVBL

• M Kottaisamy

  静岡大学SVBL

• Kottaisamy M

  静岡大学サテライトベンチャービジネスラボラトリー

• 掘河 敬司

  静岡大学電子工学研究所

• NISHIMURA Kazukuni

  Division of Chemistry, Graduate School of Science, Kyoto University

• YAMOCHI Hideki

  Research Center for Low Temperature and Materials Sciences, Kyoto University

• OTSUKA Akihiro

  Research Center for Low Temperature and Materials Sciences, Kyoto University

• Boesten Ludwig

  Department Of Physics Sophia University

• AZUMA Naoto

  Faculty of Engineering, Shizuoka University

• TERADA Tomoaki

  Faculty of Engineering, Shizuoka University

• ISHINO Kenei

  Faculty of Engineering, Shizuoka University

• FUJIYASU Hiroshi

  Faculty of Engineering, Shizuoka University

• UENO Akifumi

  Faculty of Engineering, Shizuoka University

• NAKANISHI Yoichiro

  Research Institute of Electronics, Shizuoka University

• HORIKAWA Keiji

  Research Institute of Electronics, Shizuoka University

• AOKI Toru

  Graduate School of Electronic Science and Technology, Shizuoka University

• 稲田 紘

  東京大学大学院工学系研究科

• Arai Takeshi

  Faculty Of Pharmaceutical Sciences Josai University

• Momose Yoshimi

  Research Institute Of Electronics Shizuoka University

• Shan Yue

  Department of Material and Environmental Chemistry, Graduate School of Engineering, Utsunomiya Unive

• 高見 実智己

  新潟大院自然

• Fujiyasu Hiroshi

  Faculty Of Engineering Shizuoka University

• Fujiyasu Hiroshi

  Department Of Electronics Faculty Of Engineering Shizuoka University

• Nakanishi Yoichiro

  Research Institute Of Electronics Graduate School Of Electronic Science And Technology Shizuoka Univ

• Horikawa Keiji

  Research Institute Of Electronics Shizuoka University

• Ueno Akifumi

  Faculty Of Engineering Shizuoka University

• Terada Tomoaki

  Faculty Of Engineering Shizuoka University

• Azuma Naoto

  Faculty Of Engineering Shizuoka University

• KURODA Shin-ichi

  Electrotechnical Laboratory

• 中沢 叡一郎

  工学院大

• MATSUMOTO Mutsuyoshi

  Department of Materials Science and Technology, Tokyo University of Science

• Okada Kunihiro

  Department of Cardiology, Prefectural Gifu Hospital

• TACHIBANA Hiroaki

  National Institute of Materials and Chemical Research

• Itoh Mitsuru

  Materials & Structures Laboratory Tit

• Aoki Toru

  Graduate School Of Electronic Science And Technology Shizuoka University

• Yamazaki H

  Okayama Univ. Okayama

• Takasu Hidemi

  Rohm Co. Ltd. Kyoto Jpn

• Takasu H

  R0hm Corp. Ltd. Kyoto Jpn

• Takasu Hidemi

  Device Technology Div. Semiconductor Research And Development Headquarters Rohm Co. Ltd.

• Takasu Hidemi

  Rohm Co. Ltd.

• Otsuka Akihiro

  Research Center For Low Temperature And Materials Sciences Kyoto University

• Otsuka Akihiro

  Division Of Chemistry Graduate School Of Science Kyoto University

• NAKAMURA Takao

  Sumitomo Electric Industries, Ltd.

• Ishino Kenei

  Faculty Of Engineering Shizuoka University

• Saito Gunji

  Department Of Chemistry Kyoto University

• 太田 雅壽

  新潟大・工

• 武藤 悠悟

  新潟大院自然研

• Yamochi H

  Jst‐crest Kawaguchi

• Yamochi Hideki

  Research Center For Low Temperature And Materials Sciences Kyoto University

• Yamochi Hideki

  Crest Jst:chemistry Department Kyoto University

• Yamochi Hideki

  Division Of Chemistry Graduate School Of Science Kyoto University

• YAMAMUKA Mikio

  Advanced Technology R&D Center, Mitsubishi Electric Corporation

• TAKADA Hiroshi

  Advanced Technology R&D Center, Mitsubishi Electric Corporation

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著作論文

• Electron transport in a gold nanoparticle assembly structure stabilized by a physisorbed porphyrin derivative
• Si基板上ZnSエピタキシャル薄膜のZnOへの酸化過程
• Si基板上ZnSエピタキシャル薄膜のZnOへの酸化過程(発光型・非発光型ディスプレイ合同研究会)
• ハライドVPEによる紫外発光ZnO薄膜の作製
• ハライドVPEによる紫外発光ZnO薄膜の作製
• Si基板上ZnSエピタキシャル薄膜のZnOへの酸化過程
• 4-3 多元蒸着法により作製したSrGa_2S_4 : Ce薄膜の構造及び発光特性
• 多元蒸着法による青色発光SrGa_2S_4 : Ce薄膜の作製
• 多元蒸着法による青色発光SrGa_2S_4:Ce薄膜の作製
• 電気化学析出法による非晶質酸化ビスマス薄膜の作製
• AP-HCVD法により作製したσ-Bi_2O_3薄膜へのガス供給の影響と表面モフォロジー
• 17aD01 大気圧ハライド気相成長法によるYSZ(111)基板上へのδ-Bi_2O_3薄膜の作製(結晶成長基礎(1),第35回結晶成長国内会議)
• 大気圧ハライド気相成長法によるδ-Bi2O3薄膜の作製と薄膜構造評価用X線回折装置による結晶性評価
• 薄膜化プロセスにより実現した室温で安定な螢石型酸化ビスマスの作製
• オプトアジレント機能を有する金属窒化物薄膜の創製--金属窒化物薄膜の不思議な機能
• ユーロピウムをドープした青色および緑色発光アルミン酸塩のEPR評価
• ユーロピウムをドープした青色および緑色発光アルミン酸塩のEPR評価
• 低電圧駆動ディスプレイ用微粒子蛍光体の合成
• 中速電子線励起における導電性被覆蛍光体の寿命特性
• 低電圧駆動ディスプレイ用微粒子蛍光体の合成
• 中速電子線励起における導電性被覆蛍光体の寿命特性
• SrTiO_3:Pr, Al赤色蛍光体のCL特性に対するAl添加効果
• SrTiO_3:Pr, Al赤色蛍光体のCL特性に対するAl添加効果
• ゾル-ゲル法により導電処理した蛍光体の低速電子線励起発光特性
• 赤色発光SrTiO_3:PrAl蛍光体におけるAl添加効果
• ゾルーゲル法により導電処理した蛍光体の低速電子線励起発光
• Preparation of aluminum oxide films at low temperatures by a hot wall technique
• 常磁性共鳴における新しい展開
• Dependence of Cathodoluminescent and Electrical Properties of Phosphors with Conducting Layer by Sol-Gel Method on Layer Thickness
• Improvement of Low Voltage Cathodoluminescent Properties of Zinc Sulfide Phosphors by Sol-Gel Method
• 希土類付活SrGa_2S_4蛍光体薄膜の発光特性
• 18-1 低速電子線励起時における蛍光体表面の電位変化
• 14)蛍光体へ被覆した導電層の膜厚と低速電子線励起発光に関する考察(情報ディスプレイ研究会)
• 蛍光体表面の改質による低速電子励起発光特性の向上
• 蛍光体へ被覆した導電層の膜厚と低速電子線励起発光に関する考察
• 蛍光体へ被覆した導電層の膜厚と低速電子線励起発光に関する考察
• 4-5 低速電子線励起における蛍光体の発光特性の改善
• 15)ゾル-ゲル法による蛍光体の被覆状態と発光特性の変化(情報ディスプレイ研究会 : 発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• ゾル-ゲル法による蛍光体の被覆状態と発光特性の変化
• ゾルーゲル法による蛍光体の被覆状態と発光特性の変化
• 遷移金属付活Ga_2O_3薄膜の製法と構造及び発光特性
• 遷移金属付活Ga_2O_3薄膜の製法と構造及び発光特性
• Contact Structure for a Superconducting Field Effect Transistor Using SrTiO_3/YBa_2Cu_3O_ Films
• In Situ Surface Characterization of SrTiO_3(100)Substrates for Well-defined SrTiO_3 and YBa_2Cu_3O_ Thin Film Growth
• In Situ Surface Characterization of YBa_2Cu_3O_ Thin Films Grown by Pulsed Laser Deposition
• ZnS:Cu,Br蛍光体中の不純物準位
• 常磁性共鳴によるII-VI化合物薄膜および超格子材料の局所歪
• Eu付活アルミン酸ストロンチウム蛍光体の残光特性に及ぼす共付活希土類イオンの影響
• Does the Macrostructure of Deoxyribonucleic Acid Molecules Adsorbed on Substrates by the Pulse Injection Method Reflect That in Solution?
• Real Space Observation of Double-Helix DNA Structure Using a Low Temperature Scanning Tunneling Microscopy
• Reaction Mechanism of Alkoxy Derivatives of Titanium Diketonates as Source Molecules in Liquid Source Metalorganic Chemical Vapor Deposition of (Ba,Sr)TiO_3 Films : A Study by In Situ Infrared Absorption Spectroscopy
• Effects of O_2 Gas on Reaction Mechanisms in the Chemical Vapor Deposition of (Ba, Sr)TiO_3 Thin Film
• Film Precursor Formation in Metalorganic Chemical Vapor Deposition of Barium Strontium Titanate Films : A Study by Microdischarge Optical Emission Spectroscopy
• Formation Mechanism of Strontium and Titaniuln Oxide Fillns by Metalorganlc Chemlcal Vapor Deposition: An Isotopic Labeling Study Using ^O_2 : Atoms, Molecules, and Chemical Physics
• Diagnosis of Oxidation Reactions in Metalorganic Chemical Vapor Deposition of (Ba,Sr)TiO_3 Films by In Situ Fourier Transform Infrared Spectroscopy
• Effects of Gas-Phase Thermal Decompositions of Chemical Vapor Deposition Source Molecules on the Deposition of(Ba, Sr)TiO_3 Films : A Study by In Situ Fourier Transform Infared Spectroscopy
• Gas Phase Reactions in the MOCVD of (Ba, Sr)TiO_3 Films : A Study by Microdischarge Optical Emission Spectroscopy
• Microdischarge Optical Emission Spectroscopy as a Novel Diagnostic Tool for Metalorganic Chemical Vapor Deposition of(Ba, Sr)TiO_3 Films
• Properties of Ferroelectric Memory FET Using Sr_2(Ta,Nb)_2O_7 Thin Film
• Application of Sr_2Nb_2O_7 Family Ferroelectric Films for Ferroelectric Memory Field Effect Transistor
• Study of Ferroelectric Materials for Ferroelectric Memory FET(Special Issue on Advanced Memory Devices Using High-ε and Ferroelectric Films)
• Properties of Ferroelectric Memory with Ir System Materials as Electrodes(Special Issue on Advanced Memory Devices Using High-ε and Ferroelectric Films)
• Fabrication Technology of Ferroelectric Memories
• Development of Low Dielectric Constant Ferroelectric Materials for the Ferroelectric Memory Feild Effect Transistor
• Fabrication Technology of Ferroelectric Memories
• Electroabsorption of Amphiphilic Tetrathiafulvalene Derivatives/7, 7, 8, 8-Tetracyano-2, 3, 5, 6-tetrafluorequinodimethane Systems in Langmuir-Blodgett Films
• Langmuir Layers and Langmuir-Blodgett Films of Bis-tetrathiafulvalene Annelated Macrocycle
• Tuning of Intramolecular π-π Overlap Mode of Tetrathiafulvalene Bisannulated Macrocycles in the Open-Shell Electronic State
• 4-5 ゾル-ゲル法による蛍光体の発光特性改善
• Langmuir-Blodgett Films of Charge-Transfer Complexes : Ethylenedithio-Substituted Amphiphilic Bis-TTF Macrocycle and F_4TCNQ or Br_2TCNQ
• Shallow p-Type Layers in Si by Rapid Vapor-Phase Doping for High-Speed Bipolar and MOS Applications (Special Issue on Ultra-High-Speed LSIs)
• MEASUREMENT OF REACTION RATE COEFFICIENT OF LASER-EXCITED Ca^+ IONS WITH H_2O MOLECULES IN AN ION TRAP
• Laser-Microwave Double-Resonance Spectroscopy of Laser-Cooled ^9Be^+ Ions in a Weak Magnetic Field for Studying Unstable Be Isotopes
• Conducting Langmuir-Blodgett Films of Bis[bis(methylthio)tetrathiafulvalenedithiolate]-gold Complex
• Temperature dependence of band gap energies of GaAsN alloys
• Organic nanodots of a cation radical salt of amphiphilic bis-TTF annulated macrocycle
• Electrical Properties of Pb(Zr, Ti)O_3 Thin Film Capacitors on Pt and Ir Electrodes
• Alkali-Metal Doping of Langmuir-Blodgett Films of C_ Studied by ESR
• Dielectric Behavior of (1-x)LaAlO_3-xSrTiO_3 Solid Solution System at Microwave Frequencies
• Ionicity Phase Diagram of Trifluoromethyl-TCNQ (CF_3TCNQ) Charge-Transfer Solids
• Properties of Ferroelectric Memory FET Using Sr_2(Ta,Nb)_2O_7 Thin Film
• Suppression of the Phase Transition to C54 TiSi_2 due to Epitaxial Growth of C49 TiSi_2 on Si(001) Substrates in Silicidation Process
• Grazing Incidence X-Ray Diffraction Study on Effect of Implanted BF^+_2 and Linewidth on Titanium Silicidation
• Transmission Electron Microscopy Observation of CoSi_x Spikes in Si Substrates during Co-silicidation Process
• Fast Deposition of Amorphous and Microcrystalline Silicon Films from SiH2Cl2– SiH4– H2 by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
• Initial Stage of Microcrystalline Silicon Growth by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
• Molecular Motions and Hydrogen-Bonding Networks in (o-Aminoanilinium)-(Crown Ethers)-[PMo_O_]^ Crystals

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