立岡 浩一 | 静岡大学工学部
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概要
関連著者
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立岡 浩一
静岡大学工学部
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立岡 浩一
静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部
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桑原 弘
静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部
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畑中 義式
静岡大学電子工学研究所
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中西 洋一郎
静岡大学電子工学研究所
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桑原 弘
静岡大学工学部
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三宅 亜紀
静岡大学電子科学研究科
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青木 徹
静岡大学大学院電子科学研究科
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小南 裕子
静岡大学大学院電子科学研究科
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川角 明人
静岡大学電子工学研究所
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小南 裕子
静岡大学大学院工学研究科
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Nakamura Tetsuro
Department Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology
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Nakamura Toshihiko
Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology
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池田 浩也
静岡大学電子工学研究所
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早川 泰弘
静岡大学電子工学研究所
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中村 高遠
静岡大学工学部
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桑原 弘
静岡大学大学院電子科学研究科
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藤安 洋
静岡大学工学部電子工学科
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藤安 洋
静岡大学工学部
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立岡 浩一
静大工
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桑原 弘
静大工
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伊藤 達也
静岡大学電子工学研究所
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Ikeda H
National Laboratory For High Energy Physics
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藤安 洋小
静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部電気電子工学科
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石田 明広
静岡大学工学部
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菅 博文
浜松ホトニクス
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八百 隆文
JASRI
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八百 隆文
東北大金研
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石田 明広
静岡大学 工学部電気電子工学科
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青木 徹
静岡大学電子工学研究所
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八百 隆文
東北大学金属材料研究所
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立岡 浩一
静岡大
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井上 翼
工学部電気電子工学科
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井上 翼
静岡大学工学部電気工学科
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高井 吉明
名大院工
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長澤 仁也
静岡大学工学部
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牧野 久雄
東北大学金属材料研究所
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牧野 久雄
高知工科大学 総合研究所 マテリアルデザインセンター
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桑原 弘
静岡大学 電子科学研究科
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桑原 弘
静岡大学電子科学研究科
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上倉 直喜
静岡大学電子工学研究所
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中野 文樹
静岡大学電子工学研究所
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Nakamura Tomohiko
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
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大石 琢也
静岡大学大学院理工学研究科
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水由 雄介
静岡大学大学院理工学研究科
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森 晋也
静岡大学電子工学研究所
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井上 翼
静岡大学工学部
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Nakamura Takuya
The Faculty Of Engineering Saitama University
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Nakamura Tetsuro
School Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology
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中野 文樹
静岡大学 電子工学研究所
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立岡 浩一
静岡大学電子工学研究所
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水野 章敏
学習院大学理学部
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中西 洋一郎
静岡大学
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小南 裕子
静岡大学電子工学研究所
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木村 秀夫
物質・材料研究機構
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八百 隆文
東北大学学際科学国際高等研究センター
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田中 克
NHK放送技術研究所
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島村 清史
早稲田大学各務記念材料技術研究所
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田渕 雅夫
名大VBL
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木村 秀夫
物材研
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鈴木 友久
ミネベア株式会社
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三宅 秀人
三重大学大学院工学研究科
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内山 裕士
JASRI
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島村 清史
独立行政法人 物質・材料研究機構 光材料センター
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島村 清史
(独)物質・材料研究機構 物質研究所
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島村 清史
物材研
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安達 千波矢
九大未来化学
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和田 隆博
龍谷大理工
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神野 伊策
京大
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三宅 秀人
三重大工
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木村 秀夫
物材機構
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近藤 康洋
NTTフォトニクス研
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安田 安生
静岡大学電子工学研究所
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中西 洋一郎
静大電研
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畑中 義式
静岡大
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福田 安生
日本鋼管(株)中央研究所
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難波江 宏一
NECシステムデバイス研究所
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鵜殿 治彦
茨城大工
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末益 崇
筑波大物理工
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宇佐美 徳隆
東北大学金属材料研究所
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酒井 朗
大阪大学
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江川 満
富士通研究所
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江川 満
(株)富士通研究所
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島村 清史
物材機構
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水野. 章敏
学習院大学理学部物理学科
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田中 功
山梨大院医工
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木村 秀夫
NIMS
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山田 祥二
静岡理工科大学電子工学科
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中西 洋一郎
静岡大学 電子科学研究科
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畑中 義式
静岡大学 電子科学研究科
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神野 伊策
松下電器産業(株)中央研究所
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神野 伊策
京大院工
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土屋 朋信
日立製作所中央研究所
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小野 春彦
神産技セ
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鍋谷 暢一
山梨大
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五明 明子
NEC
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酒井 朗
阪大
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小椋 厚志
明大
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土屋 忠厳
日立電線
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西尾 譲司
東芝
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松原 浩司
産総研
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反保 衆志
産総研
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島村 清史
NIMS
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鍋谷 暢一
山梨大学大学院医学工学総合研究部
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青木 徹
静岡大学 電子工学研究所
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和田 隆博
龍谷大
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五明 明子
NEC基礎研
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土屋 朋信
日立中研
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島岡 五朗
The University of New South Wales
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三浦 健太郎
静岡大学工学部電気・電子工学科
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喜多尾 道火児
静岡大学電子工学研究所
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難波江 宏一
Nec
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伊藤 達也
静岡大学大学院工学研究科
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三宅 秀人
三重大
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中西 洋一郎
静岡大
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土屋 朋信
日立
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末益 崇
筑波大学大学院数理物質科学研究科電子・物理工学専攻
-
末益 崇
筑波大
-
Nakamura T
Hokkaido Univ. Sapporo Jpn
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山田 祥二
静岡大学電子工学研究所
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伊ケ崎 泰宏
静大電子研
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川角 明人
静岡大学 電子工学研究所
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立岡 浩一
静岡大学 電子科学研究科
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立岡 浩一
静岡大学電子科学研究科
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松本 享広
静大工
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牧野 吉孝
静大工
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海野 晶裕
静大工
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中西 洋一郎
静大電子研
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松田 孝司
静大工
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松永 和晴
静大工
-
伊左次 晃司
静大工
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Brown P
ケンブリッジ大
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Xin Y
ケンブリッジ大
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Humphreys C
ケンブリッジ大
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芝 文広
静岡大学電子工学研究所
-
芝 文広
静岡大学 電子工学研究所・工学部
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立岡 浩一
静岡大学工業短期大学部電気工学科
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安達 千波矢
九大
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アクラム ホセイン
静岡大学大学院電子科学研究科
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田渕 雅夫
名大
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高木 教行
静岡大学大学院理工学研究科
-
稲葉 崇
静岡大学大学院理工学研究科
-
山田 竜二
静岡大学工学部電気・電子工学科
-
中村 高遠
静岡大工学部
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島村 清史
物質・材料研究機構
-
木村 秀夫
物質・材料研究機構応用結晶科学グループ
-
田中 克
Nhk
-
宇佐美 徳隆
東北大
-
近藤 康洋
Ntt
-
福田 安生
静岡大 電子工研
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江川 満
富士通(株):(財)光産業技術振興協会
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八百 隆文
東北大 学際科学国際高等研究セ
-
江川 満
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所:富士通(株):(株)富士通研究所
-
鵜殿 治彦
茨城大
-
水野 章敏
学習院大
-
宇佐美 徳隆
東北大学金属材料研究所:科学技術振興機構(jst-crest)
-
反保 衆志
産業技術総合研究所
-
喜多尾 道火児
静岡大 電子工研
-
中川 洋一郎
静岡大学電子工学研究所
著作論文
- ホットウォール蒸着法により作製したSrSe薄膜の構造
- 結晶成長技術
- Si基板上にZnSバッファ層を用いてエピタキシャル成長したZnO薄膜の発光特性
- フレッシュパーソン12-8 Si基板上にエピタキシャル成長したZnO薄膜の発光特性
- 真空蒸着法によるZnO薄膜の作製
- 電子ビーム蒸着法で作製したZnO薄膜の発光特性
- 平成20年度第11回リフレッシュ理科教室 : 東海支部浜松会場
- 平成19年度第10回リフレッシュ理科教室-東海支部浜松会場-開催報告
- 平成18年度第9回リフレッシュ理科教室-東海支部浜松会場- : 開催報告
- Si基板上にZnSバッファ層を用いてエピタキシャル成長したZnO薄膜の発光特性
- 真空蒸着法によるZnO薄膜の作製
- 電子ビーム蒸着法で作製したZnO薄膜の発光特性
- HWE法によるAlN/GaN量子カスケード構造の作製と構造評価(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
- HWE法によるAlN/GaN量子カスケード構造の作製と構造評価(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
- 青色発光CaS:Cu, F薄膜の発光特性
- 青色発光CaS:Cu,F薄膜の発光特性
- 18-3 CaS : Cu, F薄膜の構造及び発光特性
- 青色発光CaS : Cu, F薄膜の熱処理と発光特性
- 青色発光CaS:Cu, F薄膜の熱処理と発光特性
- ZnTeへのMn拡散によるzb-MnTeの生成(Sb照射効果) : 気相成長I
- ホットウォール法によるCdTe,ZnTeの原子層成長 : 気相成長I
- Sb照射下で成長させたMnSi/Si薄膜のTEMによる評価 : 気相成長I
- 4-3 多元蒸着法により作製したSrGa_2S_4 : Ce薄膜の構造及び発光特性
- 多元蒸着法による青色発光SrGa_2S_4 : Ce薄膜の作製
- 6)多元蒸着により作製したSrSe : Ce薄膜の構造および発光特性(情報ディスプレイ研究会)
- 多元蒸着により作製したSrSe:Ce薄膜の構造及び発光特性 : 発光型ディスプレイ関連 : 情報ディスプレイ
- 東海支部 (教育の広場 2007年度リフレッシュ理科教室報告)
- 東海支部 (教育の広場 2005年度リフレッシュ理科教室報告)
- エコマテリアルとしてのシリサイド半導体
- シリサイド半導体薄膜の結晶成長と特性(1)熱反応堆積法に始まる新しいシリサイド半導体薄膜の成長 (特集 シリサイド半導体の最新動向)
- 酸化タングステン・スパッタ膜の着色効率とエージング
- ZnS:Tm,F薄膜の電荷補償 : 発光型ディスプレイ関連 : 情報ディスプレイ
- ZnS:Tm薄膜ELの電荷補償と発光特性
- 多元蒸着法により作製したSrSe:Ce薄膜の構造及び発光特性