藤安 洋小 | 静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部電気電子工学科

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概要

• 同名の論文著者
• 静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部電気電子工学科の論文著者

関連著者

• 藤安 洋小

  静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部電気電子工学科

• 藤安 洋

  静岡大学工学部

• 藤安 洋

  静岡大学工学部電子工学科

• 石田 明広

  静岡大学 工学部電気電子工学科

• 藤安 洋

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 藤安 洋

  静岡大

• 藤安 洋

  静岡大 工

• 石田 明広

  静岡大学工学部

• 以西 雅章

  静岡大学工学部

• 以西 雅章

  静岡大学工学研究科

• 石野 建英

  静岡大学工学部電気電子工学科

• 石野 健英

  静岡大学工学部

• 井上 翼

  工学部電気電子工学科

• 井上 翼

  静岡大学工学部電気工学科

• 井上 翼

  静岡大学工学部

• 稲垣 優輝

  静岡大学理工学研究科

• 深谷 健太郎

  静岡大学工学部

• 増田 健一郎

  静岡大学工学部

• 藤安 洋

  静岡大学大学院電子科学研究科・静岡大学工学部電子工学科

• 長澤 仁也

  静岡大学工学部

• 笠井 崇史

  静岡大学大学院理工学研究科、工学部

• 石田 明広

  静岡大学大学院電子科学研究科・静岡大学工学部電子工学科

• 以西 雅章

  静岡大学大学院工学研究科

• 市川 哲章

  静岡大学理工学研究科

• 増田 健一郎

  静岡大学大学院 理工学研究科

• 深谷 健太郎

  静岡大学大学院 理工学研究科

• 以西 雅章

  静岡大 工

• 伊藤 泰充

  Miyakoda Electronics Technical Center Suzuki Motor Corporation

• 以西 雅章

  静岡大学理工学研究科

• 藤安 洋

  静岡大学理工学研究科

• 清水 寛俊

  静岡大学理工学研究科工学部

• 永塩 豊

  静岡大学工学部

• 清水 寛俊

  静岡大学理工学研究科

• 市川 裕士

  Department Of Electrical And Electronic Engineering Shizuoka University

• 榊原 慎吾

  ヤマハ(株)

• 伊藤 泰充

  スズキ(株)都田電子技術研究開発センター

• 立岡 浩一

  静岡大学工学部

• 大橋 達也

  静岡大学工学部電気電子工学科

• 立井 友浩

  静岡大学工学部

• 曽根 直樹

  静岡大学工学部

• 王 淑蘭

  静岡大学大学院電子科学研究料

• 尾勢 朋久

  静岡大学工学部電気電子工学料

• 王 淑蘭

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 尾勢 朋久

  静岡大学工学部電気電子工学科

• 竹内 要二

  静岡大学電子科学研究科

• 田鍋 智章

  三重大学工学部電気電子工学科

• 河村 義彦

  静岡大学工学部電気・電子工学科

• 笠井 崇史

  静岡大学工学部電気・電子工学科

• 市川 裕士

  静岡大学工学部

• 西田 英治

  静岡大学工学部

• 稲垣 優輝

  静岡大学大学院 理工学研究科

• 杉田 樹宏

  静岡大学大学院 理工学研究科

• 田鍋 智幸

  静岡大学大学院 理工学研究科

• 市川 哲章

  静岡大学工学部

• 稲垣 優輝

  静岡大学工学部

• 柴田 佳幸

  静岡大学理工学研究科

• 本田 真士

  静岡大学工学部

• 岡村 正吾

  静岡大学大学院 理工学研究科、工学部

• 岡村 正吾

  静岡大学大学院理工学研究科、工学部

• 以西 雅章

  静岡大学大学院 工学研究科

• 中西 洋一郎

  静岡大学電子工学研究所

• 菅 博文

  浜松ホトニクス

• 太田 正志

  浜松ホトニクス(株)

• 桑原 正和

  浜松ホトニクス株式会社

• 八百 隆文

  JASRI

• 八百 隆文

  東北大金研

• 八百 隆文

  東北大学金属材料研究所

• 立岡 浩一

  静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部

• 櫻井 伸弘

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 鈴木 大介

  Asti(株)

• 牧野 久雄

  東北大学金属材料研究所

• 牧野 久雄

  高知工科大学 総合研究所 マテリアルデザインセンター

• 山本 悦司

  静岡大学工学部電子工学科

• 藤安 洋

  Department of Electronics, Faculty of Engineering, Shizuoka University

• 高橋 博信

  Department of Electrical and Electronic Engineering, Shizuoka University

• 松井 才明

  静岡大学工学部電気・電子工学料

• 島田 剛喜

  静岡大学工学部電気・電子工学科

• 島田 剛喜

  静岡大学工学部電気・電子工学料

• 高橋 博信

  Department Of Electrical And Electronic Engineering Shizuoka University

• 山口 克馬

  静岡大学工学部

• 西田 英治

  静岡大学理工学研究科工学部

• 本田 真士

  静岡大学理工学研究科工学部

• 永塩 豊

  静岡大学理工学研究科工学部

• 上木原 浩輝

  静岡大学工学部

• 八百 隆文

  東北大学学際科学国際高等研究センター

• 鈴木 友久

  ミネベア株式会社

• 下村 哲

  理研 フロンティア

• 安田 安生

  静岡大学電子工学研究所

• 福田 安生

  日本鋼管(株)中央研究所

• 藤安 洋

  静大工

• 中村 高遠

  静岡大学工学部

• 桑原 弘

  静岡大学工学部

• 松下 景一

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 内藤 正英

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 野寄 靖史

  静岡大学工学部電子工学科

• 島岡 五朗

  The University of New South Wales

• 邑瀬 和生

  阪大・理

• 石田 明広

  Faculty of Engineering, Shizuoka University

• 藤安 洋小

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 桑原 弘

  静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部

• 伊ケ崎 泰宏

  静大電子研

• 中村 高遠

  静岡大学工学部材料精密化学科

• 藤安 洋

  静大・工

• 中村 隆幸

  静岡大学工学部

• 疋田 京子

  静岡大学工学部電子工学科

• 増尾 浩樹

  静岡大学工学部電子工学科

• 田中 貴久

  静岡大学工学部電子工学科

• 後藤 佳彦

  静岡大学工学部電子工学科

• 竹内 要二

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 以西 雅章

  静大工

• 笠井 崇史

  静大工

• 石野 健英

  静大工

• Choi Y.D.

  Department of Physics, Mokwon University

• 杉本 哲弘

  Department of Electronics, Faculty of Engineering, Shizuoka University

• 榊原 慎吾

  Graduate School of Electronic Science and Technology, Shizuoka University

• 石野 健英

  Department of Electronics, Faculty of Engineering, Shizuoka University

• 石田 明広

  Department of Electronics, Faculty of Engineering, Shizuoka University

• 天野 典保

  静岡大学工学部電子工学科

• 下村 哲

  阪大・理

• 浦川 幸宏

  阪大・理

• 石田 明広

  静大・工

• 以西 雅章

  Department of Electrical and Electronic Engineering, Shizuoka University

• 伊藤 泰充

  Miyakoda Electronics Technical Center, Suzuki Motor Corporation

• 島田 剛嘉

  静岡大学工学部

• 森元 圭一郎

  静岡大学工学部

• 高橋 博信

  静岡大学工学部

• 福田 安生

  静岡大 電子工研

• Choi Y.d.

  Department Of Physics Mokwon University

• 八百 隆文

  東北大 学際科学国際高等研究セ

• 榊原 慎吾

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 杉本 哲弘

  Department Of Electronics Faculty Of Engineering Shizuoka University

• 石田 明広

  Faculty Of Engineering Shizuoka University

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著作論文

• ホットウォール蒸着法により作製したSrSe薄膜の構造
• IV-VI族化合物半導体薄膜と赤外レーザへの応用
• 量子カスケードレーザ用AlN/GaN量子井戸構造の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 量子カスケードレーザ用AlN/GaN量子井戸構造の作製と評価(結晶成長評価およびデバイス(化合物, Si, SiGe, その他の電子材料))
• 量子カスケードレーザ用AlN/GaN量子井戸構造の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• HWE法によるAlN/GaN量子カスケード構造の作製と構造評価(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
• HWE法によるAlN/GaN量子カスケード構造の作製と構造評価(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
• 赤外線半導体レーザの最近の動向
• 長波長赤外線レーザ用PbSnCaTe薄膜の作製と評価
• HWE法によるAlN/GaN短周期超格子の作製と評価
• 長波長赤外線レーザ用PbSnCaTe薄膜の作製と評価
• HWE法によるAlN/GaN短周期超格子の作製と評価
• 長波長赤外線レーザ用PbSnCaTe薄膜の作製と評価
• HWE法によるAlN/GaN短周期超格子の作製と評価
• 波長2μm以上の半導体レーザとその応用
• IV-VI族半導体赤外線レーザの最近の研究
• CdSSe:Mn-ZnS超格子による赤色EL素子
• HWE法によるGaN薄膜成長と薄膜特性
• HWE法によるGaN薄膜成長と薄膜特性
• ホットウォール法によるSrS : Ce薄膜とCdSSe-SrS超格子とそのEL素子への応用
• Hot Wall法によるEL素子用薄膜の成長と評価
• C-9-2 カーボンヒーターによるSrS:Cu薄膜の作製と評価
• 青色発光EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価
• 青色発光EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価
• 青色発光EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価
• Characterizations of ZnS-ZnSe superlattices grown by hot wall epitaxy
• Li二次電池用Mn酸化物薄膜の生成(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
• Li二次電池用Mn酸化物薄膜の生成
• Li二次電池用Mn酸化物薄膜の生成(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
• 28a-A-5 PbTe-Pb_Sn_xTe超格子におけるサイクロトロン共鳴の周期依存性
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 電子線蒸着法による石英基板上へのSrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 電子線蒸着法による石英基板上へのSrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 電子線蒸着法による石英基板上へのSrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 反応性蒸着過程におけるるつぼ中の金属Mnの酸化克服法
• C-6-9 Mn反応性蒸着過程のるつぼと基板間の距離依存性
• C-6-4 Mn反応性蒸着過程でのるつぼ付近の組成変化
• C-6-12 スピネル構造Mn酸化物薄膜における反応性蒸着の再現性
• 反応性蒸着過程における Mn 酸化物薄膜組成のその場制御
• Li2次電池用Mn酸化物薄膜の生成
• 反応性蒸着過程におけるMn蒸発物の酸化防止策
• 反応性蒸着過程におけるMn蒸発物の酸化防止策
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の急速アニール効果(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の急速アニール効果(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の急速アニール効果(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
• Li二次電池用Mn酸化物薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• Li二次電池用Mn酸化物薄膜の作製と評価(結晶成長評価およびデバイス(化合物, Si, SiGe, その他の電子材料))
• Li二次電池用Mn酸化物薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価およびデバイス(化合物, Si, SiGe, その他の電子材料))
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• ホットウォール法によるZnTe,ZnTe-ZnSe超格子へのp型ドーピング
• 石英アンプルによるLi二次電池用Mn_3O_4薄膜の生成(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 石英アンプルによるLi二次電池用Mn_3O_4薄膜の生成(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 鉛ストロンチウムカルコゲナイド薄膜の特性と赤外線レーザ
• ホットウオールエピタキシー法による半導体薄膜作製と発光素子への応用
• 4-6族長波長半導体レ-ザ (光の波長・位相制御技術とその応用論文特集)
• ホットウォ-ル法による2-6および4-6族化合物半導体超格子作製とその物性 (超格子・多層膜) -- (半導体超格子の作製と評価)

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