藤安 洋 | 静岡大学大学院電子科学研究科

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概要

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• 藤安 洋

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 藤安 洋小

  静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部電気電子工学科

• 藤安 洋

  静岡大学工学部

• 藤安 洋

  静岡大

• 藤安 洋

  静岡大 工

• 稲垣 優輝

  静岡大学理工学研究科

• 深谷 健太郎

  静岡大学工学部

• 増田 健一郎

  静岡大学工学部

• 以西 雅章

  静岡大学工学部

• 藤安 洋

  静岡大学大学院電子科学研究科・静岡大学工学部電子工学科

• 以西 雅章

  静岡大学工学研究科

• 石田 明広

  静岡大学 工学部電気電子工学科

• 藤安 洋

  静岡大学工学部電子工学科

• 石田 明広

  静岡大学大学院電子科学研究科・静岡大学工学部電子工学科

• 以西 雅章

  静岡大学大学院工学研究科

• 市川 哲章

  静岡大学理工学研究科

• 増田 健一郎

  静岡大学大学院 理工学研究科

• 深谷 健太郎

  静岡大学大学院 理工学研究科

• 以西 雅章

  静岡大 工

• 以西 雅章

  静岡大学理工学研究科

• 藤安 洋

  静岡大学理工学研究科

• 清水 寛俊

  静岡大学理工学研究科工学部

• 永塩 豊

  静岡大学工学部

• 清水 寛俊

  静岡大学理工学研究科

• 石田 明広

  静岡大学工学部

• 井上 翼

  工学部電気電子工学科

• 井上 翼

  静岡大学工学部電気工学科

• 立井 友浩

  静岡大学工学部

• 石野 健英

  静岡大学工学部

• 石野 建英

  静岡大学工学部電気電子工学科

• 田鍋 智章

  三重大学工学部電気電子工学科

• 井上 翼

  静岡大学工学部

• 笠井 崇史

  静岡大学大学院理工学研究科、工学部

• 稲垣 優輝

  静岡大学大学院 理工学研究科

• 杉田 樹宏

  静岡大学大学院 理工学研究科

• 田鍋 智幸

  静岡大学大学院 理工学研究科

• 市川 哲章

  静岡大学工学部

• 稲垣 優輝

  静岡大学工学部

• 柴田 佳幸

  静岡大学理工学研究科

• 岡村 正吾

  静岡大学大学院 理工学研究科、工学部

• 岡村 正吾

  静岡大学大学院理工学研究科、工学部

• 以西 雅章

  静岡大学大学院 工学研究科

• 大橋 達也

  静岡大学工学部電気電子工学科

• 王 淑蘭

  静岡大学大学院電子科学研究料

• 王 淑蘭

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 西田 英治

  静岡大学工学部

• 西田 英治

  静岡大学理工学研究科工学部

• 本田 真士

  静岡大学理工学研究科工学部

• 永塩 豊

  静岡大学理工学研究科工学部

• 本田 真士

  静岡大学工学部

• 上木原 浩輝

  静岡大学工学部

• 松下 景一

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 櫻井 伸弘

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 内藤 正英

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 野寄 靖史

  静岡大学工学部電子工学科

• 曽根 直樹

  静岡大学工学部

• 長澤 仁也

  静岡大学工学部

• 竹内 要二

  静岡大学電子科学研究科

• 榊原 慎吾

  ヤマハ(株)

• 竹内 要二

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 天野 典保

  静岡大学工学部電子工学科

• 竹内 朗

  静岡大学工学部電子工学科

• 榊原 慎吾

  静岡大学大学院電子科学研究科

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著作論文

• IV-VI族化合物半導体薄膜と赤外レーザへの応用
• 量子カスケードレーザ用AlN/GaN量子井戸構造の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 長波長赤外線レーザ用PbSnCaTe薄膜の作製と評価
• 長波長赤外線レーザ用PbSnCaTe薄膜の作製と評価
• Hot Wall法によるEL素子用薄膜の成長と評価
• Li二次電池用Mn酸化物薄膜の生成(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
• Li二次電池用Mn酸化物薄膜の生成
• Li二次電池用Mn酸化物薄膜の生成(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 電子線蒸着法による石英基板上へのSrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 電子線蒸着法による石英基板上へのSrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 電子線蒸着法による石英基板上へのSrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の急速アニール効果(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の急速アニール効果(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の急速アニール効果(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
• Li二次電池用Mn酸化物薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• Li二次電池用Mn酸化物薄膜の作製と評価(結晶成長評価およびデバイス(化合物, Si, SiGe, その他の電子材料))
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価およびデバイス(化合物, Si, SiGe, その他の電子材料))
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• ホットウォール法によるZnTe,ZnTe-ZnSe超格子へのp型ドーピング
• 石英アンプルによるLi二次電池用Mn_3O_4薄膜の生成(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 石英アンプルによるLi二次電池用Mn_3O_4薄膜の生成(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• X線回折によるPbTe-Pb_1-xSn_xTe超格子中のSn拡散の評価と低拡散HWE成長法

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