電子線蒸着法による石英基板上へのSrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
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概要
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青色発光EL素子の高輝度化を目的として、SrS:Cu薄膜を作製した。作製には電子線蒸着装置を用いた。アニール温度、基板温度、発光中心Cu_2S濃度を変数として最適条件を調査した。アニール温度の高温化により結晶性が非常に向上した。基板温度は450℃が、最適であることが分かった。発光中心濃度の最適値は現在までのところ得られていない。
- 2004-05-07
著者
-
藤安 洋
静岡大
-
藤安 洋
静岡大 工
-
藤安 洋
静岡大学工学部
-
藤安 洋
静岡大学大学院電子科学研究科
-
稲垣 優輝
静岡大学理工学研究科
-
藤安 洋小
静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部電気電子工学科
-
市川 哲章
静岡大学理工学研究科
-
以西 雅章
静岡大学理工学研究科
-
市川 哲章
静岡大学工学部
-
深谷 健太郎
静岡大学工学部
-
増田 健一郎
静岡大学工学部
-
稲垣 優輝
静岡大学工学部
-
柴田 佳幸
静岡大学理工学研究科
-
藤安 洋
静岡大学理工学研究科
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